显色处理的基材及用于其的基材显色处理方法技术

本发明专利技术公开一种包含镁的经显色处理的基材，该基材包括薄膜，所述薄膜具有由板状结构的结晶在水平方向上均匀密集地层压在包含镁的基材上的结构，从而不仅能够保持金属固有的质感及光泽性，并能够通过控制与所述结晶的层压程度对应的薄膜的平均厚度来在表面上均匀地显示多种颜色，因此，在使用金属材料的建筑外装材料、汽车装饰、特别是移动产品的壳体等电器、电子部件领域中，能够有效地利用。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种包含镁的经显色处理的基材及用于其的基材显色处理方法，具体地，涉及一种保持金属的质感及光泽的同时均匀地显示多种颜色的、包含镁的经显色处理的基材及用于其的基材显色处理方法。
技术介绍
镁作为实用金属中属于超轻金属的金属，其耐磨性优异，抗日光性强，且环保，但存在难以体现金属质感及多种颜色的问题。此外，作为电化学性非常活泼的金属，极具活性，因此在显色处理没有进行时，在空气或溶液中非常迅速地腐蚀，因此在工业应用方面存在很多困难。近年来，由于产业全面的轻量化趋势，镁产业受到瞩目，随着在移动电话壳体部件等电器、电子部件材料领域中，金属质感的外包装材料成为趋势，从而积极开展改善镁的上述问题的研究。结果，韩国公开专利第2011-0016750号公开了一种在由镁合金形成的基材表面干式涂覆含金属物质后进行溶胶凝胶涂覆来实现金属质感和确保耐蚀性的PVD-溶胶凝胶法，韩国公开专利第2011-0134769号中公开了一种利用化学研磨给含有镁的基材表面赋予光泽，在溶解有颜料的碱性电解液中阳极氧化上述基材，从而使表面显色的阳极氧化法。但是，就所述PVD-溶胶凝胶法而言，虽然在基材表面实现金属质感，但并非镁固有的金属质感，存在难以显示各种颜色的问题。此外，利用阳极氧化法进行显色处理时，不仅会在基材表面形成不透明的氧化膜，而且难以实现金属固有的金属质感。因此，为了含有镁的基材的实用化，迫切需要一种能够将上述基材的表面进行化学、电化学或物理处理，从而提高耐蚀性的同时，在其表面能够显示所需颜色的技术。
技术实现思路
(一)要解决的技术问题为解决所述问题，本专利技术的目的在于提供一种保持金属的质感及光泽的同时均匀地显示多种颜色的、包含镁的经显色处理的基材。本专利技术的另一目的在于提供一种所述基材的显色处理方法。(二)技术方案为实现上述目的，本专利技术在一个实施例1中提供一种显色处理的基材，包括：包含镁的基体；以及薄膜，形成于所述基体上，其中，所述薄膜包括平均大小为50nm至100nm且含有以下述化学式1表示的化合物的板状结构的结晶，[化学式1]M(OH)m在所述化学式1中，M包括选自由Na、K、Mg、Ca及Ba组成的组的一种以上，m为1或2，所述结晶满足下述数学式1的条件，[数学式1]α≤30°在所述数学式1中，α表示所述基体的表面或与所述基体表面水平的面与结晶的长轴平面上的任意轴所形成的平均倾斜角。并且，本专利技术在另一个实施例中提供一种基材的显色处理方法，包括：在包含镁的基体上形成薄膜的步骤，其中，所述薄膜具有平均大小为50nm至100nm且含有以下述化学式1所表示的化合物的板状结构的粒子以所述基体的表面或与所述基体表面水平的面与结晶长轴平面上的任意轴所形成的平均倾斜角为30°以下的方式层压的结构，[化学式1]M(OH)m在所述化学式1中，M包括选自由Na、K、Mg、Ca及Ba组成的组的一种以上，m为1或2。(三)专利技术效果本专利技术的经显色处理的基材，不仅能够保持金属固有的质感及光泽性，还能够通过控制与所述结晶的层压程度对应的薄膜的平均厚度，从而在表面均匀地显示多种颜色，因此，在使用金属材料的建筑外装材料、汽车装饰，特别是移动产品的壳体等电器、电子部件材料领域中，能够有效地使用。附图说明图1是在一个实施例1中对本专利技术的经显色处理的基材所包含的薄膜进行X射线衍射测量的坐标图。图2是将在一个实施例1中根据氢氧化物溶液的种类及浸渍时间的薄膜表面状态利用扫描电子显微镜(SEM)拍摄的图像。最佳实施方式本专利技术可以进行多种变形，而且可以具有多种不同实施例，在附图中例示特定实施例，并对其进行详细说明。但是，本专利技术并不限定于这些特定的实施例，应理解为包括在本专利技术的思想及技术范围内的所有变更、等同物以及替代物均包括在本专利技术。在本专利技术中，“包括”或“具有”等术语应当理解为，仅仅是想要指出说明书中记载的特征、数字、步骤、动作、组成要素、部件或它们的组合的存在，并不事先排除一个或一个以上的其他特征、数字、步骤、动作、组成要素、部件或它们的组合的存在或附加的可能性。此外，应理解为，本专利技术的附图是为了便于说明放大或缩小示出的。下面，参照附图对本专利技术进行详细说明，与附图的符号无关地，相同或对应的组成要素使用相同的附图标记，并省略了对其的重复说明。在本专利技术中，“色坐标”是指国际照明委员会(CommossionInternational de 1’Eclairage，CIE)规定的颜色值CIE色空间的坐标，CIE色空间中的任意位置可以用L*、a*、b*3种坐标值来表示。其中，L*值表示明度，L*＝0表示黑色(black)，L*＝100表示白色(white)。此外，a*值表示具有该色坐标的颜色偏向于纯红色(puremagenta)或纯绿色(pure green)中的哪一个颜色，b*表示具有该色坐标的颜色偏向于纯黄色(pure yellow)和纯蓝色(pure blue)中的哪一个颜色。具体地，所述a*值具有-a至+a的范围，a*的最大值(a*max)表示纯红色(pure magenta)，a*的最小值(a*min)表示纯绿色(puregreen)。例如，a*值为负数时为偏向于纯绿色的颜色，a*值为正数时为偏向于纯红色的颜色。比较a*＝80和a*＝50时，表示a*＝80相比a*＝50位于更接近纯红色的位子。此外，所述b*具有-b至+b的范围。b*的最大值(b*max)表示纯黄色(pure yellow)，b*的最小值(b*min)表示纯蓝色(pure blue)。例如，a*值为负数时为偏向于纯黄色的颜色，正数时为偏向于纯蓝色的颜色。比较b*＝80和b*＝50时，表示b*＝80相比b*＝50位于更接近纯红色的位置。而且，在本专利技术中，“色差”或“色坐标差”是指在CIE色度空间中两个颜色之间的距离。即，距离远色差异大，距离越近颜色几乎没有差异，这可以通过以下数学式3的ΔE*表示。[数学式5]ΔE*=(ΔL*)2+(Δa*)2+(Δb*)2]]>进一步地，在本专利技术中，单位“T”表示包含镁的基材的厚度，可以与单位“mm”相同。同时，在本专利技术中，“倾斜角(α)”表示基体表面或与基体表面水平的面与结晶长轴平面上的任意轴所形成的角中的最小的角。本专利技术提供一种包含镁的经显色处理的包含镁的基材及用于其的基材显色处理方法。以往，已知的在包含镁的材料上显示颜色的方法有利用含金属物质或颜料等在材料表面进行涂覆的PVD-溶胶凝胶法、阳极氧化法等。但是，所述方法有可能降低基材的耐久性。另外，存在难以在材料表面均匀地显示颜色、涂覆的薄膜层容易被剥离而无法满足可靠性的问题。特别是，所述方法由于无法体现金属固有的金属质感，因而存在难以在建筑外装材料、汽车装饰，特别是移动产品的壳体等电器、电子部件材料领域利用的问题。为了克服这种问题，本专利技术提出了本专利技术的包含镁的经显色处理的基材及用于其的基材显色处理方法。本专利技术的经显色处理的基材包括具有在包含镁的基材上板状结构的结晶向水平方向均匀而密集地层压的结构的薄膜，从而不仅能够保持金属固有的质感及光泽性，还通过控制与所述结晶的层压程度对应的薄膜的平均厚度，在表面上均匀地显示多种颜色。下面将对本专利技术进行更加详细的说明。本发本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种显色处理的基材，其特征在于，包括：包含镁的基体；以及薄膜，形成于所述基体上，其中，所述薄膜包括平均大小为50nm至100nm且含有以下述化学式1表示的化合物的板状结构的结晶，[化学式1]M(OH)m在所述化学式1中，M包括选自由Na、K、Mg、Ca及Ba组成的组的一种以上，m为1或2，所述结晶满足下述数学式1的条件，[数学式1]α≤30°在所述数学式1中，α表示所述基体的表面或与所述基体表面水平的面与结晶的长轴平面上的任意轴所形成的平均倾斜角。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2013.12.26 KR 10-2013-0164044;2013.12.26 KR 10-2011.一种显色处理的基材，其特征在于，包括：包含镁的基体；以及薄膜，形成于所述基体上，其中，所述薄膜包括平均大小为50nm至100nm且含有以下述化学式1表示的化合物的板状结构的结晶，[化学式1]M(OH)m在所述化学式1中，M包括选自由Na、K、Mg、Ca及Ba组成的组的一种以上，m为1或2，所述结晶满足下述数学式1的条件，[数学式1]α≤30°在所述数学式1中，α表示所述基体的表面或与所述基体表面水平的面与结晶的长轴平面上的任意轴所形成的平均倾斜角。2.根据权利要求1所述的显色处理的基材，其特征在于，在对经显色处理的基材进行X射线衍射测量时，满足下述数学式2的条件，[数学式2]P1/P2≥0.9在所述数学式2中，P1表示以2θ表示的18.5±1.0°范围内的衍射峰的强度，P2表示以2θ表示的38.0±1.0°范围内的衍射峰的强度。3.根据权利要求1所述的显色处理的基材,其特征在于，对经显色处理的基材进行X射线衍射测量时，具有以2θ表示的18.5±1.0°、38.0±1.0°、50.5±1.0°、58.5±1.0°、62.0±1.0°及68.5±1.0°的衍射峰值。4.根据权利要求1所述的显色处理的基材,其特征在于，存在于薄膜上的任意区域(横1cm及纵1cm)所包括的任意3个点的各点之间的平均色坐标差(ΔL*、Δa*、Δb*)满足ΔL*＜0.4、Δa*＜0.3及Δb*
\t＜0.5中的一种以上的条件。5.根据权利要求1所述的显色处理的基材,其特征在于，薄膜的平均厚度为1nm至900nm。6.根据权利要求1所述的显色处理的基材,其特征在...

【专利技术属性】
技术研发人员：郑铉珠，宋渊均，徐旼弘，安钢焕，全英遇，
申请(专利权)人：POSCO公司，
类型：发明
国别省市：韩国;KR