本实用新型专利技术公开了一种高温扩散装置，包括炉体，炉体的一端为炉口，另一端为封闭结构，在炉口处设有炉盖，在炉体的内部设有石英舟，在石英舟上均匀放置有硅片，在炉体的上端设有第一工艺进气口、第二工艺进气口和第三工艺进气口，在炉体的下端设有尾气排放口，还包括气体稳流装置，气体稳流装置设置在炉口、炉中或炉尾位置，本实用新型专利技术结构简单，能够提高炉体内气体流动的稳定性，确保了硅片扩散的均匀性，从而确保硅片方块电阻的均匀性。
【技术实现步骤摘要】
本技术涉及光伏扩散
，具体为一种高温扩散装置。
技术介绍
扩散制作 P-N 结是晶体硅太阳电池的核心，也是太阳能电池质量好坏的关键之一。对于扩散工序，最大问题在于如何保障扩散的均匀性。扩散均匀的电池，其后续工艺参数可控性高，可以保证硅太阳能电池电性能参数的稳定性。目前，晶体硅工业化生产中扩散制作 P-N 结所采用的扩散炉主要有管式和板式两种。管式扩散炉因其封闭性好、容量大，得到广泛的应用。管式扩散炉可以极大地降低工艺粘污风险，为高效太阳能电池产业应用提供硬件保障，现有的高温扩散炉，通入的气体均匀性差，且通入炉体后，分布不均匀，导致硅片扩散不均匀，从而导致方块电阻不均匀。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种高温扩散装置，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种高温扩散装置, 包括炉体，所述炉体的一端为炉口，另一端炉尾为封闭结构，在所述炉口处设有炉盖，在所述炉体的内部设有石英舟，在所述石英舟上均匀放置有硅片，在所述炉体的上端设有第一工艺进气口、第二工艺进气口和第三工艺进气口，在所述炉体的下端设有尾气排放口，还包括气体稳流装置，所述气体稳流装置设置在炉口、炉中或炉尾位置。优选的，所述气体稳流装置包括稳流体、进气口、蜂窝片、气体调整器、出气口和过滤片，所述稳流体的一端设有进气口，所述稳流体的另一端设有出气口，所述稳流体的内部设有蜂窝片、气体调整器，所述蜂窝片位于进气口的一端，所述蜂窝片连接气体调整器，所述气体调整器的出口通过过滤片连接出气口，所述气体调整器内包括多个气流调节格栅，且所述气流调节格栅呈锥形。优选的，所述第一工艺进气口、第二工艺进气口和第三工艺进气口分别设置在炉口、炉中、炉尾处。优选的，所述第一工艺进气口、第二工艺进气口和第三工艺进气口均设置在炉中。优选的，所述第一工艺进气口、第二工艺进气口和第三工艺进气口均设置在炉口。优选的，所述第一工艺进气口、第二工艺进气口和第三工艺进气口的孔径一致，均为2.5mm-3mm。与现有技术相比，本技术的有益效果是：（1）本技术结构简单，能够提高炉体内气体流动的稳定性，确保了硅片扩散的均匀性，从而确保硅片方块电阻的均匀性。（2）本技术采用的气体稳流装置，能够快速调节炉体内的气流，确保扩散的均匀性，而且气体稳流装置中气体调整器采用锥形气流调节格栅，能够对气流起到导向作用。附图说明图1为本技术的整体结构示意图；图2为本技术的气体稳流装置结构示意图；图中：1、炉体；2、炉口；3、炉尾；4、炉盖；5、石英舟；6、第一工艺进气口；7、第二工艺进气口；8、第三工艺进气口；9、尾气排放口；10、气体稳流装置；11、炉中；12、稳流体；13、进气口；14、蜂窝片；15、气体调整器；16、出气口；17、过滤片；18、气流调节格栅。具体实施方式下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。实施例一：请参阅图1-2，本技术提供一种技术方案：一种高温扩散装置, 包括炉体1，炉体1的一端为炉口2，另一端炉尾3为封闭结构，在炉口2处设有炉盖4，在炉体1的内部设有石英舟5，在石英舟5上均匀放置有硅片，在炉体1的上端设有第一工艺进气口6、第二工艺进气口7和第三工艺进气口8，在炉体1的下端设有尾气排放口9，还包括气体稳流装置10，所述气体稳流装置10设置在炉口2位置。本实施例中，气体稳流装置10包括稳流体12、进气口13、蜂窝片14、气体调整器15、出气口16和过滤片17，稳流体12的一端设有进气口13，稳流体12的另一端设有出气口16，稳流体12的内部设有蜂窝片14、气体调整器15，蜂窝片14位于进气口13的一端，蜂窝片14连接气体调整器15，气体调整器15的出口通过过滤片17连接出气口16，气体调整器15内包括多个气流调节格栅18，且气流调节格栅18呈锥形，本技术采用的气体稳流装置，能够快速调节炉体内的气流，确保扩散的均匀性，而且气体稳流装置中气体调整器采用锥形气流调节格栅，能够对气流起到导向作用。本实施例中，第一工艺进气口6、第二工艺进气口7和第三工艺进气口8分别设置在炉口2、炉中11、炉尾3处，第一工艺进气口6、第二工艺进气口7和第三工艺进气口8的孔径一致，均为2.5mm。本技术结构简单，能够提高炉体内气体流动的稳定性，确保了硅片扩散的均匀性，从而确保硅片方块电阻的均匀性。实施例二：本技术提供一种技术方案：一种高温扩散装置, 包括炉体1，炉体1的一端为炉口2，另一端炉尾3为封闭结构，在炉口2处设有炉盖4，在炉体1的内部设有石英舟5，在石英舟5上均匀放置有硅片，在炉体1的上端设有第一工艺进气口6、第二工艺进气口7和第三工艺进气口8，在炉体1的下端设有尾气排放口9，还包括气体稳流装置10，所述气体稳流装置10设置在炉中11位置。本实施例中，气体稳流装置10包括稳流体12、进气口13、蜂窝片14、气体调整器15、出气口16和过滤片17，稳流体12的一端设有进气口13，稳流体12的另一端设有出气口16，稳流体12的内部设有蜂窝片14、气体调整器15，蜂窝片14位于进气口13的一端，蜂窝片14连接气体调整器15，气体调整器15的出口通过过滤片17连接出气口16，气体调整器15内包括多个气流调节格栅18，且气流调节格栅18呈锥形，本技术采用的气体稳流装置，能够快速调节炉体内的气流，确保扩散的均匀性，而且气体稳流装置中气体调整器采用锥形气流调节格栅，能够对气流起到导向作用。本实施例中，第一工艺进气口6、第二工艺进气口7和第三工艺进气口8均设置在炉中11，第一工艺进气口6、第二工艺进气口7和第三工艺进气口8的孔径一致，均为2.8mm。本技术结构简单，能够提高炉体内气体流动的稳定性，确保了硅片扩散的均匀性，从而确保硅片方块电阻的均匀性。实施例三：本技术提供一种技术方案：一种高温扩散装置, 包括炉体1，炉体1的一端为炉口2，另一端炉尾3为封闭结构，在炉口2处设有炉盖4，在炉体1的内部设有石英舟5，在石英舟5上均匀放置有硅片，在炉体1的上端设有第一工艺进气口6、第二工艺进气口7和第三工艺进气口8，在炉体1的下端设有尾气排放口9，还包括气体稳流装置10，所述气体稳流装置10设置在炉尾3位置。本实施例中，气体稳流装置10包括稳流体12、进气口13、蜂窝片14、气体调整器15、出气口16和过滤片17，稳流体12的一端设有进气口13，稳流体12的另一端设有出气口16，稳流体12的内部设有蜂窝片14、气体调整器15，蜂窝片14位于进气口13的一端，蜂窝片14连接气体调整器15，气体调整器15的出口通过过滤片17连接出气口16，气体调整器15内包括多个气流调节格栅18，且气流调节格栅18呈锥形，本技术采用的气体稳流装置，能够快速调节炉体内的气流，确保扩散的均匀性，而且气体稳流装置中气体调整器采用锥形气流调节格栅，能够对气流起到导向作用。本实施例中，第一工艺进气口6、第二工本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种高温扩散装置, 包括炉体（1），其特征在于：所述炉体（1）的一端为炉口（2），另一端炉尾（3）为封闭结构，在所述炉口（2）处设有炉盖（4），在所述炉体（1）的内部设有石英舟（5），在所述石英舟（5）上均匀放置有硅片，在所述炉体（1）的上端设有第一工艺进气口（6）、第二工艺进气口（7）和第三工艺进气口（8），在所述炉体（1）的下端设有尾气排放口（9），还包括气体稳流装置（10），所述气体稳流装置（10）设置在炉口（2）、炉中（11）或炉尾（3）位置。
【技术特征摘要】
1.一种高温扩散装置, 包括炉体（1），其特征在于：所述炉体（1）的一端为炉口（2），另一端炉尾（3）为封闭结构，在所述炉口（2）处设有炉盖（4），在所述炉体（1）的内部设有石英舟（5），在所述石英舟（5）上均匀放置有硅片，在所述炉体（1）的上端设有第一工艺进气口（6）、第二工艺进气口（7）和第三工艺进气口（8），在所述炉体（1）的下端设有尾气排放口（9），还包括气体稳流装置（10），所述气体稳流装置（10）设置在炉口（2）、炉中（11）或炉尾（3）位置。2.根据权利要求1所述的一种高温扩散装置，其特征在于：所述气体稳流装置（10）包括稳流体（12）、进气口（13）、蜂窝片（14）、气体调整器（15）、出气口（16）和过滤片（17），所述稳流体（12）的一端设有进气口（13），所述稳流体（12）的另一端设有出气口（16），所述稳流体（12）的内部设有蜂窝片（14）、气体调整器（15），所述蜂窝片（14）位于进气口（...
【专利技术属性】
技术研发人员：陈德榜，
申请(专利权)人：温州海旭科技有限公司，
类型：新型
国别省市：浙江;33
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