一种补偿红色保护膜制造技术

技术编号:13814461 阅读:65 留言:0更新日期:2016-10-09 10:56
本实用新型专利技术提供了一种补偿红色保护膜,包括镀在载体背面的膜本体;所述膜本体包括由载体的表面向外依次设置的第一介质层、第一吸收层、第二介质层以及第二吸收层;所述第一介质层和所述第二介质层的材质均为五氧化三钛或五氧化二铌;所述第一吸收层和所述第二吸收层的材质均为锗。本实用新型专利技术的保护膜以干涉红色光(反射蓝绿色光透射红色光的光学薄膜干涉原理)来显示正面红色(也就是说在透明普通玻璃背面镀膜,正面来显示透射红色光来解决正面红色不耐摩擦、褪色、掉色之现象)填补了当前市场的空白,推动了电子产品的发展和需求。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及电子产品
,具体涉及一种补偿红色保护膜
技术介绍
目前,电子产品表面都需要进行装饰以满足产品的装饰外观价值和需求价值,如电子产品表面都有着不同的颜色,在使用过程中,电子产品经常有褪色、掉色等缺陷,严重影响了产品的外观装饰价值和需求。现有技术中,电子产品的表面易发生褪色、掉色等,大大影响了客户的满意度,因此,会不断地更换产品,这样,造成了浪费。因此,行业内急需一种使得电子产品的表面显示不同颜色且不容易发生褪色、掉色的方法以解决现有技术中存在的问题。
技术实现思路
本技术目的在于提供一种结构精简、生产分别且使得电子产品的表面显示不同颜色且不容易发生褪色、掉色的保护膜,本技术的保护膜以干涉红色光(反射蓝绿色光透射红色光的光学薄膜干涉原理)来显示正面红色(也就是说在透明普通玻璃背面镀膜,正面来显示透射红色光来解决正面红色不耐摩擦、褪色、掉色之现象)填补了当前市场的空白,推动了电子产品的发展和需求。具体技术方案是:一种补偿红色保护膜,包括镀在载体背面的膜本体;所述膜本体包括由载体的表面向外依次设置的第一介质层、第一吸收层、第二介质层以及第二吸收层;所述第一介质层和所述第二介质层的材质均为五氧化三钛或五氧化二铌;所述第一吸收层和所述第二吸收层的材质均为锗。以上技术方案中优选的,所述第一介质层和所述第二介质层的材质均为五氧化三钛。以上技术方案中优选的,所述第一介质层和所述第二介质层的材质均为五氧化二铌。以上技术方案中优选的,所述第一介质层和所述第二介质层的厚度均为130-150nm。以上技术方案中优选的,所述第一吸收层的厚度为5-30nm。以上技术方案中优选的,所述第二吸收层的厚度为255-555nm。以上技术方案中优选的,所述载体为透明玻璃片或者菲林。以上技术方案中优选的,所述膜本体镀在载体上时的设备是真空蒸镀镀膜机。除了上面所描述的目的、特征和优点之外,本技术还有其它的目的、特征和优点。下面将参照图,对本技术作进一步详细的说明。附图说明构成本申请的一部分的附图用来提供对本技术的进一步理解,本技术的示意性实施例及其说明用于解释本技术,并不构成对本技术的不当限定。在附图中:图1是本技术优选实施例1的载体镀上膜本体后的结构示意图;其中,1、膜本体,11、第一介质层,12、第一吸收层,13、第二介质层,14、第二吸收层,2、载体。具体实施方式以下结合附图对本技术的实施例进行详细说明,但是本技术可以根据权利要求限定和覆盖的多种不同方式实施。实施例1:参见图1,一种补偿红色保护膜,详见图1,包括镀在载2(采用透明玻璃片或者菲林)背面的膜本体1。所述膜本体1包括由载体的表面向外依次设置的第一介质层11、第一吸收层12、第二介质层13以及第二吸收层14,其中:第一介质层11和第二介质层13均是透光层(透过所需要的颜色的光),而第一吸收层12和第二吸收层14均为吸收层(消除并吸收不需要部分的颜色的光,从而实现提高所需要的颜色的纯度)所述第一介质层11和所述第二介质层13的材质均为五氧化三钛(Ti3O5)(还可以根据实际需求选用五氧化二铌、二氧化钛等其他材质);所述第一介质层11和所述第二介质层13的厚度均为130-150nm,两层介质层的厚度选择合理,能很好地透过红色光。所述第一吸收层12和所述第二吸收层14的材质均为锗(Ge),所述第一吸收层12的厚度为5-30nm,所述第二吸收层14的厚度为255-555nm,两层吸收层的厚度选择合理,在确保透过红色光的基础上,实现对蓝绿光的最大吸收,确保红色光的纯度。所述膜本体1镀在载体2上时的设备是真空蒸镀镀膜机,可以采用日本生产的光驰镀膜机和新科隆镀膜机、台湾生产的龙翩镀膜机以及国内生产的南光镀膜机、腾胜镀膜机和振华镀膜机,根据实际需求进行选择。在载体2上镀上本技术膜本体1的具体过程如下:1、取清洗干净且检验合格的载体2装在日本光驰#1800真空镀膜机的伞具上放进真空镀膜机内;2、将真空镀膜机抽真空到3.0*10-3Pa左右或以上;将载体2表面加温到100℃左右(或不加温)进行离子清洁;3、调配相关的镀膜参数:载体/五氧化三钛:1.412千埃/锗:0.1千埃/五氧化三钛:1.412千埃/锗:355千埃/空气。4、采用蒸发或溅射镀膜方式依次沉积第一介质层11、第一吸收层12、第二介质层13以及第二吸收层14。本技术所得产品在镀膜完成后再进行丝印等操作,正面显示的红色美艳夺目、触心欲动、稳定可靠,此种保护膜完全可以广泛应用于手机、电脑、电器、玩具等电子产品的前后盖面板装饰,有效的解决了因电子产品外观装饰颜色的瓶颈问题,满足了市场对电子产品的发展需求。以上所述仅为本技术的优选实施例而已,并不用于限制本技术,对于本领域的技术人员来说,本技术可以有各种更改和变化。凡在本技术的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本技术的保护范围之内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种补偿红色保护膜,其特征在于,包括镀在载体背面的膜本体(1);所述膜本体(1)包括由载体的表面向外依次设置的第一介质层(11)、第一吸收层(12)、第二介质层(13)以及第二吸收层(14);所述第一介质层(11)和所述第二介质层(13)的材质均为五氧化三钛或五氧化二铌;所述第一吸收层(12)和所述第二吸收层(14)的材质均为锗。

【技术特征摘要】
1.一种补偿红色保护膜,其特征在于,包括镀在载体背面的膜本体(1);所述膜本体(1)包括由载体的表面向外依次设置的第一介质层(11)、第一吸收层(12)、第二介质层(13)以及第二吸收层(14);所述第一介质层(11)和所述第二介质层(13)的材质均为五氧化三钛或五氧化二铌;所述第一吸收层(12)和所述第二吸收层(14)的材质均为锗。2.根据权利要求1所述的补偿红色保护膜,其特征在于,所述第一介质层(11)和所述第二介质层(13)的材质均为五氧化三钛。3.根据权利要求1所述的补偿红色保护膜,其特征在于,所述第一介质层(11)和所述第二介质层(1...

【专利技术属性】
技术研发人员:周群飞饶桥兵聂崇彬
申请(专利权)人:蓝思科技长沙有限公司
类型:新型
国别省市:湖南;43

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