空气处理系统技术方案

本发明专利技术公开了一种空气处理系统，包括洁净室，分别位于其上方和下方的上夹层和下夹层及回风竖井；洁净室内包括设备围挡，设备围挡围成的空间用于容纳工作中会散发化学物质污染物的设备；下夹层和洁净室通过带回风口的隔板系统隔开；下夹层内包括自下夹层的顶部延伸至底部的下层围挡，设备围挡内的空气可通过隔板系统的回风口进入下层围挡内；位于下夹层内的化学物质污染物处理装置，其通过管道与下层围挡围成的空间相连通；经化学物质污染物处理装置处理后的空气可经回风竖井进入上夹层。本发明专利技术解决了洁净室内循环空气全部经过化学物质污染物处理装置处理，导致的需要处理的空气的量巨大，处理效率低的技术问题。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及空气过滤及处理
，特别涉及一种空气处理系统。
技术介绍
目前，国内外部分高科技类的生产厂房，由于其精密及精细加工的要求，对室内空气中的微量化学物质、空气温度湿度、洁净度等均有严格的要求。因此，在国内外已建或在建的此类工程中，为控制洁净室内的微量化学物质，需要对存在于新风中和洁净室内循环空气中的化学物质分别进行处理。图1-图4是现有的空气处理系统的示意图，如图1-图4所示，现有的空气处理系统包括新风处理机组10，回风竖井20，上夹层30，洁净室40，下夹层50，高架地板60，华夫板70，干冷却盘管和风机过滤器机组80。对于存在于新风中的化学物质的处理方式，如图1-图4所示，是在新风处理机组内设置活性炭或其他化学过滤器对化学物质进行处理。对于存在于洁净室内循环空气的处理方式，如图1所示，是在风机过滤器机组80的上方设置化学物质过滤器91；如图2所示，是在下夹层50靠近干冷却盘管处设置化学物质过滤机组92；如图3所示，是在下夹层50靠近干冷却盘管处设置化学物质过滤器墙93；如图4所示，是在回风竖井20内安装化学物质过滤单元94，其中，化学物质过滤器91和化学物质过滤器墙93是不带风机的，化学物质过滤机组92和化学物质过滤单元94都是带风机的，两者的区别是，化学物质过滤机组92的风量大，化学物质过滤单元94的风量小。以上对存在于洁净室内循环空气的处理方式的特点是将洁净室内循环空气全部进行化学物质污染物处理，但洁净室由于要保证洁净度的要求，通常循环空气量很大，所以处理的风量也很大，需要的化学物质处理装置的数量很多。
技术实现思路
本专利技术提供了一种空气处理系统，解决了现有技术中洁净室内循环空气全部经过化学物质污染物处理装置处理，导致需要处理的空气的量巨大，处理效率低的技术问题。为达到上述目的，本专利技术提供以下技术方案：一种空气处理系统，包括洁净室，分别位于其上方和下方的上夹层和下夹层及回风竖井；所述洁净室内包括设备围挡，所述设备围挡围成的空间用于容纳工作中会散发化学物质污染物的设备；所述下夹层和洁净室通过带回风口的隔板系统隔开；所述下夹层内包括自所述下夹层的顶部延伸至底部的下层围挡，所述设备围挡内的空气可通过所述隔板系统的回风口进入所述下层围挡内；位于所述下夹层内的化学物质污染物处理装置，其通过管道与所述下层围挡围成的空间相连通；经化学物质污染物处理装置处理后的空气可经所述回风竖井进入所述上夹层。优选的，所述设备围挡自所述洁净室的底部向上延伸。优选的，所述下层围挡位于所述设备围挡的下方。优选的，所述隔板系统包括自所述隔板系统的顶部向下延伸的中层围挡；所述设备围挡内的空气可通过所述隔板系统内中层围挡围成的空间中的回风口进入所述下层围挡内。优选的，所述中层围挡位于所述设备围挡的下方；所述设备围挡在所述下夹层底部的投影不越过所述中层围挡在所述下夹层底部的投影。优选的，所述设备围挡是软帘或硬隔断，所述下层围挡是软帘或硬隔断，所述中层围挡是硬隔断或软帘。优选的，所述化学物质污染物处理装置是带风机且可处理化学物质污染物的空气处理装置。优选的，所述上夹层内包括风机过滤器机组；所述洁净室和上夹层通过吊顶龙骨加风机过滤机组或吊顶龙骨加顶板隔开；所述上夹层的空气经安装于吊顶龙骨上的风机过滤器机组进入洁净室。优选的，所述隔板系统包括带回风口的高架地板和位于其下方的华夫板，所述中层围挡从所述高架地板的下表面延伸至华夫板的上表面。优选的，所述隔板系统包括带回风口的高架地板和位于其下方的格构梁，所述中层围挡从所述高架地板的下表面延伸至格构梁的上表面。本专利技术提供的空气处理系统，设备围挡内的空气被污染后，被污染的空气被限制在设备围挡内和下层围挡内，化学物质污染物处理装置只针对被污染的空气进行处理。与现有技术相比，一方面，减少了需要处理的空气的量，提高了空气处理系统的处理效率，另一方面，减少了化学物质污染物处理装置的数量，降低了空气处理系统的复杂程度，可以降低一次投资和运行成本，并降低空气处理系统安装的难度。附图说明图1为现有的一种空气处理系统的示意图；图2为现有的另一种空气处理系统的示意图；图3为现有的又一种空气处理系统的示意图；图4为现有的又一种空气处理系统的示意图；图5为本专利技术的一个实施例的空气处理系统的示意图。主要元件附图标记说明：现有技术中：10新风处理机组，20回风竖井，30上夹层，40洁净室，50下夹层，60高架地板，70华夫板，80风机过滤器机组，91化学物质过滤器，92化学物质过滤机组，93化学物质过滤器墙，94化学物质过滤单元。本专利技术中：100洁净室，110设备围挡，200上夹层，300下夹层，310下层围挡，400回风竖井，500化学物质污染物处理装置，600高架地板，610中层围挡，700华夫板。具体实施方式下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。本专利技术的一个实施例的空气处理系统，如图5所示，包括洁净室100，分别位于其上方和下方的上夹层200和下夹层300及回风竖井400；所述洁净室100内包括自所述洁净室的顶部延伸至底部设备围挡110，所述设备围挡110围成的空间用于容纳工作中会散发化学物质污染物的设备；所述下夹层300和洁净室100通过带回风口的隔板系统隔开；所述下夹层300内包括自所述下夹层的顶部延伸至底部的下层围挡310，所述设备围挡110内的空气可通过所述隔板系统的回风口进入所述下层围挡310内；位于所述下夹层内的化学物质污染物处理装置500，其通过管道与所述下层围挡310围成的空间相连通；经化学物质污染物处理装置500处理后的空气可经所述回风竖井400进入所述上夹层200。在放置于设备围挡围成的空间内的设备工作时，该设备会散发化学物质污
染物，导致设备围挡内的空气被污染包含化学物质污染物，由于设备围挡的存在将被污染的空气限制在设备围挡内，不会在洁净室蔓延；之后，被污染的空气通过所述隔板系统的回风口进入所述下层围挡内；由于下层围挡的存在将被污染的空气限制在下层围挡内，不会在下夹层蔓延；然后，被污染的空气通过管道进入位于所述下夹层内的化学物质污染物处理装置，经化学物质污染物处理装置处理后进入所述下夹层内和其他从洁净室进入的空气混合；最后，混合后的空气，经回风竖井进入所述上夹层。本实施例的空气处理系统，设备围挡内的空气被污染后，被污染的空气被限制在设备围挡内和下层围挡内，化学物质污染物处理装置只针对被污染的空气进行处理。与现有技术相比，一方面，减少了需要处理的空气的量，提高了空气处理系统的处理效率，另一方面，减少了化学物质污染物处理装置的数量，降低了空气处理系统的复杂程度，可以降低一次投资和运行成本，并降低空气处理系统安装的难度。需要说明的是，在图5所示的空气处理系统中设备围挡110自所述洁净室的顶部延伸至底部只是一种具体的实施方式，适用于工作中会散发化学物质污染物的设备可以全部设置在设备围挡内的情形。所述设备围挡还可以是自洁净室的底部延伸至洁净室的某一高度，适用本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种空气处理系统，包括洁净室，分别位于其上方和下方的上夹层和下夹层及回风竖井；其特征在于，所述洁净室内包括设备围挡，所述设备围挡围成的空间用于容纳工作中会散发化学物质污染物的设备；所述下夹层和洁净室通过带回风口的隔板系统隔开；所述下夹层内包括自所述下夹层的顶部延伸至底部的下层围挡，所述设备围挡内的空气可通过所述隔板系统的回风口进入所述下层围挡内；位于所述下夹层内的化学物质污染物处理装置，其通过管道与所述下层围挡围成的空间相连通；经化学物质污染物处理装置处理后的空气可经所述回风竖井进入所述上夹层。

【技术特征摘要】
2014.12.25 CN 20141082905341.一种空气处理系统，包括洁净室，分别位于其上方和下方的上夹层和下夹层及回风竖井；其特征在于，所述洁净室内包括设备围挡，所述设备围挡围成的空间用于容纳工作中会散发化学物质污染物的设备；所述下夹层和洁净室通过带回风口的隔板系统隔开；所述下夹层内包括自所述下夹层的顶部延伸至底部的下层围挡，所述设备围挡内的空气可通过所述隔板系统的回风口进入所述下层围挡内；位于所述下夹层内的化学物质污染物处理装置，其通过管道与所述下层围挡围成的空间相连通；经化学物质污染物处理装置处理后的空气可经所述回风竖井进入所述上夹层。2.根据权利要求1所述的空气处理系统，其特征在于，所述设备围挡自所述洁净室的底部向上延伸。3.根据权利要求2所述的空气处理系统，其特征在于，所述下层围挡位于所述设备围挡的下方。4.根据权利要求1-3任一所述的空气处理系统，其特征在于，所述隔板系统包括自所述隔板系统的顶部向下延伸的中层围挡；所述设备围挡内的空气可通过所述隔板系统的中层围挡围成的空间中的回风口进入所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：秦学礼，郑伊文，黄文胜，恽飞，李鹏，余少晖，肖红梅，李卫，
申请(专利权)人：世源科技工程有限公司，武汉华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11