用于融珠涂敷的装置和方法制造方法及图纸

本申请涉及用于融珠涂敷的装置和方法。具体地，公开了一种用于将物质(200)作为融珠(202)涂敷至沿路径(220)延伸的几何特征(204)的装置(100)。所述装置(100)包括出口端(101)，该出口端(101)包括第一边缘(104)、第二边缘(106)、以及至少部分地通过所述第一边缘(104)和所述第二边缘(106)限定的出口开口(102)。所述第一边缘(104)和所述第二边缘(106)能够可逆地延伸。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及用于融珠涂敷(bead application)的装置和方法。
技术介绍
将诸如密封剂这样的流体材料融珠涂敷至结构和非结构性接头和具有非接触几何结构的接缝在常规上是一人工工序，其对于操作员来说耗时且乏味。融珠形状必须满足需要具有特殊厚度或半径的弯曲或半球形状的精确规格、凹圆角、以及这种形状与圆角之间的过渡。在并入前述特征的同时，在非接触几何结构上人工整形该融珠使得密封剂涂敷工序变复杂，产生针对再加工和关联成本的潜在性，并且增加制造交货时间。
技术实现思路
因此，旨在致力于至少解决上述问题的装置和方法将找到用途。下面是实施例的非排它列表，其可以或可以不根据本公开的主旨来要求保护。本公开的一个实施例涉及一种用于将物质作为融珠涂敷至沿路径延伸的几何特征的装置。所述装置包括出口端，该出口端包括第一边缘、第二边缘、以及至少部分地通过所述第一边缘和所述第二边缘限定的出口开口。所述第一边缘和所述第二边缘能够可逆地延伸。本公开的另一实施例涉及一种将物质作为融珠涂敷至沿路径延伸的几何特征的方法，其中，所述几何特征包括沿路径具有变化的尺度A。所述方法包括以下步骤：设置包括出口端的装置，该出口端包括第一边缘、第二边缘、以及至少部分地通过所述第一边缘和所述第二边缘限定的出口开口。所述第一边缘包括部分B、部分C、以及在所述部分B与所述部分C之间的部分D，其中，所述部分D具有长度L。所述第二边缘包括部分B'、部分C'、以及在所述部分B'与所述部分C'之间的部分D'。所述部分D'具有长度L'。所述方法还包括以下步骤：在所述几何特征的至少一部分与
所述装置的所述出口端的所述第一边缘和所述装置的所述出口端的所述第二边缘中的至少一个的至少一部分之间建立接触。该方法还包括以下步骤，对在从所述出口开口在所述几何特征的所述至少一部分上分配所述物质的同时，沿所述路径在前进方向上移动所述装置响应地，与所述几何特征的所述尺度A沿所述路径的变化成正比地，改变所述出口端的所述第一边缘的所述部分D的所述长度L和所述出口端的所述第二边缘的所述部分D'的所述长度L'。附图说明因此概括地对本公开的实施例进行了描述，下面，对附图进行说明，其不必按比例化绘制，并且其中，贯穿几个视图，相同标号指定相同或相似部分，并且其中：图1是根据本公开的一个或更多个实施例的、用于将物质作为融珠涂敷至几何特征的装置的框图；图2是根据本公开的一个或更多个实施例的、图1的涂敷器的示意性立体环境图；图3是根据本公开一个或更多个实施例的、图1的装置的示意性立体图；图4是根据本公开的一个或更多个实施例的、图1的装置的示意性立体图；图5是根据本公开的一个或更多个实施例的、通过图1的装置生成的示例性融珠的示意性环境截面图；图6是根据本公开的一个或更多个实施例的、图1的装置的示意性立体图；图7是根据本公开的一个或更多个实施例的、图1的装置的一部分的示意性立体图；图8是根据本公开的一个或更多个实施例的、图1的装置的示意性立体图；图9A是根据本公开的一个或更多个实施例的、图1的装置的第一侧的示意性侧正视细节图；图9B是根据本公开的一个或更多个实施例的、图9A的装置的相对第二侧的示意性侧正视细节图，从第一侧的方向拍摄的视图；图10是根据本公开的一个或更多个实施例的、图1的装置的示意性立体图；图11A是根据本公开的一个或更多个实施例的、图1的装置的第一侧的示意性侧正视细节图；图11B是根据本公开的一个或更多个实施例的、图11A的装置的相对第二侧的示
意性侧正视细节图，从第一侧的方向拍摄的视图；图12A是根据本公开的一个或更多个实施例的、图1的装置的第一侧的示意性侧正视细节图；图12B是根据本公开的一个或更多个实施例的、图12A的装置的相对第二侧的示意性侧正视细节图，从第一侧的方向拍摄的视图；图13A是根据本公开的一个或更多个实施例的、图1的装置的第一侧的示意性侧正视细节图；图13B是根据本公开的一个或更多个实施例的、图13A的装置的相对第二侧的示意性侧正视细节图，从第一侧的方向拍摄的视图；图14A是根据本公开的一个或更多个实施例的、图1的装置的第一侧的示意性侧正视细节图；图14B是根据本公开的一个或更多个实施例的、图14A的装置的相对第二侧的示意性侧正视细节图，从第一侧的方向拍摄的视图；图15A是根据本公开的一个或更多个实施例的、图1的装置的第一侧的示意性侧正视细节图；图15B是根据本公开的一个或更多个实施例的、图15A的装置的相对第二侧的示意性侧正视细节图，从第一侧的方向拍摄的视图；图16A是根据本公开的一个或更多个实施例的、图1的装置的第一侧的示意性侧正视细节图；图16B是根据本公开的一个或更多个实施例的、图16A的装置的相对第二侧的示意性侧正视细节图，从第一侧的方向拍摄的视图；图17是根据本公开的一个或更多个实施例的、将物质作为融珠涂敷至沿路径延伸的几何特征的方法的框图；图18是飞行器生产和保养方法的框图；以及图19是飞行器的示意性例示图。具体实施方式在图1中，参照上述，连接各个部件和/或组件的实线(若有的话)可以表示机械、电气、流体、光学、电磁以及其它联接和/或其组合。如在此使用的，“联接”意
指直接和间接相关联。例如，部件A可以直接与部件B关联，或者可以间接与其关联，例如，经由另一部件C。应当明白，并非各种公开部件之间的所有关系都必需加以表示。因此，还可以存在除了框图中描绘的那些以外的其它联接。连接指定各个部件和/或组件的框的虚线(若有的话)表示按功能和目的与实线所表示的那些类似地联接；然而，虚线所表示的联接可以选择性地提供，或者可以涉及本公开的另选实施例。同样地，用虚线表示的部件和/或组件(若有的话)指示本公开的另选实施例。在不脱离本公开的范围的情况下，按实线和/或虚线示出的一个或更多个部件可以从特殊例中省略。环境部件(若有的话)以虚线表示。为清楚起见，还可以示出虚拟(假想)部件。本领域技术人员应当清楚，图1所示的特征中的一些可以按各种方式来组合，而不需要包括图1、其它附图和/或公开中描述的其它特征，即使这种组合或多个组件在此未明确地加以例示。类似的是，不限于所呈现实施例的附加特征可以与在此所示并描述的一些或全部特征相组合。在图18和19中，参照上述，框可以表示操作和/或其部分，而连接各个框的线不暗示这些操作或其部分的任何特定次序或相关性。用虚线表示的框指示另选操作和/或其部分。连接各个框的虚线(若有的话)表示这些操作或其部分的另选相关性。应当明白，并非各个公开操作之间的所有相关性都必需加以表示。图18和19和描述在此阐述的方法的操作的附属公开不应被解释为必需确定其中操作要执行的顺序。相反地，尽管指示了一个例示性次序，但要明白的是，该操作顺序可以在恰当时修改。因此，某些操作可以按不同次序或者同时来执行。另外，本领域技术人员应当清楚，并非需要执行所述全部操作。在下面的描述中，阐述了许多具体细节，以提供对所公开构思的详尽理解，其可以在没有这些详细资料中的一些或全部的情况下具体实践。在其它情况下，已知装置和/或处理的细节已经省略，以避免不必要地模糊本公开。虽然一些概念将结合具体实施例来描述，但应当明白，这些实施例不是旨在进行限制。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种装置(100)，该装置(100)用于将物质(200)作为融珠(202)涂敷至沿路径(220)延伸的几何特征(204)，所述装置(100)包括：出口端(101)，该出口端(101)包括第一边缘(104)、第二边缘(106)、以及至少部分地通过所述第一边缘(104)和所述第二边缘(106)限定的出口开口(102)，其中，所述第一边缘(104)和所述第二边缘(106)能够可逆地延伸。

【技术特征摘要】
2015.03.19 US 14/662,8771.一种装置(100)，该装置(100)用于将物质(200)作为融珠(202)涂敷至沿路径(220)延伸的几何特征(204)，所述装置(100)包括：出口端(101)，该出口端(101)包括第一边缘(104)、第二边缘(106)、以及至少部分地通过所述第一边缘(104)和所述第二边缘(106)限定的出口开口(102)，其中，所述第一边缘(104)和所述第二边缘(106)能够可逆地延伸。2.根据权利要求1所述的装置(100)，其中：所述出口端(101)的所述第一边缘(104)包括部分B、部分C、以及在所述部分B与所述部分C之间的部分D；所述出口端(101)的所述第二边缘(106)包括部分B'、部分C'、以及在所述部分B'与所述部分C'之间的部分D'；所述出口端(101)的所述第一边缘(104)的所述部分B能够相对于所述第一边缘(104)的所述部分C移动；以及所述出口端(101)的所述第二边缘(106)的所述部分B'能够相对于所述第二边缘(106)的所述部分C'移动。3.根据权利要求2所述的装置(100)，其中：所述出口端(101)的所述第一边缘(104)的所述部分B和所述部分C中的至少一个是弯曲的，或者所述出口端(101)的所述第二边缘(106)的所述部分B'和所述部分C'是弯曲的；以及所述出口端(101)的所述第一边缘(104)或所述第二边缘(106)中的至少一个被轮廓化，以在所述融珠(202)的第一曲率(222)与所述融珠(202)的第二曲率(224)之间提供沿所述融珠(202)的连续过渡(218)。4.根据权利要求2或3中的任一项所述的装置(100)，所述装置(100)还包括：物质递送通道(114)；第一部件(116)，该第一部件(116)包括所述出口端(101)的所述第一边缘(104)的所述部分B和所述出口端(101)的所述第二边缘(106)的所述部分B'；以及第二部件(118)，该第二部件(118)包括所述出口端(101)的所述第一边缘(104)的所述部分C和所述出口端(101)的所述第二边缘(106)的所述部分C'，其中，所
\t述第二部件(118)相对于所述物质递送通道(114)不能够移动。5.根据权利要求4所述的装置(100)，其中：所述第二部件(118)还包括所述出口端(101)的所述第一边缘(104)的所述部分D和所述出口端(101)的所述第二边缘(106)的所述部分D'；以及所述第一部件(116)能够移动地联接至所述第二部件(118)。6.根据权利要求5所述的装置(100)，所述装置(100)还包括：反应块(120)，该反应块(120)联接至所述第二部件(118)；以及用于使所述第一部件(116)远离所述反应块(120)偏置的设备(122)。7.根据权利要求5所述的装置(100)，所述装置(100)还包括引导构件(108)，该引导构件(108)联接至所述第二部件(118)。8.根据权利要求7所述的装置(100)，所述装置(100)还包括被引导构件(109)，该被引导构件(109)联接至所述第一部件(116)，其中，所述被引导构件(109)与所述引导构件(108)能够平...

【专利技术属性】
技术研发人员：J·W·普林格尔四世，R·陶穆塔，
申请(专利权)人：波音公司，
类型：发明
国别省市：美国;US