【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】本专利技术涉及电子设备领域,特别是有机电子。本专利技术还提供适于制造这种电子设备的中间体商品和材料,本专利技术还提供特殊的制造方法和特殊的应用。已知将缓冲层用于有机电子中,例如有机发光二极管(OLED)或者有机光伏电池(OPV),从而增加器件效率。这种缓冲层包括金属氧化物,例如ZnO、TiOx、WOx、NiO、NbyOx或掺杂的金属氧化物,例如Al-掺杂的ZnO(“AZO”)。通常,已知成颗粒形式的这种金属氧化物。如上所述的氧化的缓冲层通常通过在高真空下的热蒸发来制造;就低成本、大面积制造加工而言,这是不利的。已知聚合物太阳能电池(OPV)为低成本和柔性光伏技术提供有前景的方法,其认证的效率超过10%。在广泛的商业化之前,必需解决大面积制造和稳定性问题。对于具有高产率和低分流(shunts)的可靠的大面积制造,厚的、稳定的、牢固的和可印刷的缓冲层是前提条件。还已知将通道层用于晶体管中,特别是用于TFT中。这种通道层包括金属氧化物,例如ZnO,或混合的氧化物,例如氧化铟锌(ZITO),氧化铟镓锌(IGZO)或ZnSnO3。通常,已知成颗粒形式的这种金属氧化物。如上所述,这种氧化的缓冲层通过在高真空下的热蒸发来制造;就低成本、大面积制造加工而言,这是不利的。雷多夫(Leidolph)等(EP2157053)描述了特殊的ZnO颗粒及其制造,该ZnO颗粒任选地是涂覆的。该文还设想了这种颗粒的应用,例如用于太阳能电池。劳荷(Rohe)等(WO2006/092443)描述了表面改性的ZnO颗粒及其制造。该文还设想了将这种颗粒应用光电伏打电池和光电电池。伊普(Yip)等( ...
【技术保护点】
一种选自有机电子的电子设备,其中,所述设备包括基材和多个层,其中,至少一个所述层是缓冲层,其中所述缓冲层包括使用至少一种分散剂涂覆的金属氧化物纳米颗粒,其中所述分散剂是下述通式(I)的烷基醚的磷酸酯:RO‑(C2H4O)m(C3H6O)n‑H (I)其中R是C1‑C10‑烷基;m和n分别独立地是2‑60,或者其中所述分散剂是下述通式(III)的嵌段共聚物的磷酸酯:RO(C2H4O)o(PES)p‑H (III)其中R是C1‑10‑烷基;PES是衍生自环状内酯的聚酯;o是5‑60;p是2‑30;且其中RO(C2H4O)o的分子量大于(PES)p的分子量。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2013.12.12 EP 13005798.71.一种选自有机电子的电子设备,其中,所述设备包括基材和多个层,其中,至少一个所述层是缓冲层,其中所述缓冲层包括使用至少一种分散剂涂覆的金属氧化物纳米颗粒,其中所述分散剂是下述通式(I)的烷基醚的磷酸酯:RO-(C2H4O)m(C3H6O)n-H (I)其中R是C1-C10-烷基;m和n分别独立地是2-60,或者其中所述分散剂是下述通式(III)的嵌段共聚物的磷酸酯:RO(C2H4O)o(PES)p-H (III)其中R是C1-10-烷基;PES是衍生自环状内酯的聚酯;o是5-60;p是2-30;且其中RO(C2H4O)o的分子量大于(PES)p的分子量。2.如权利要求1所述的设备,其特征在于,所述设备选自下组:OPV、OLED、光电检测器和有机晶体管。3.如权利要求2所述的设备,其特征在于,所述多个层以正常结构或以反向结构设置。4.如权利要求1所述的设备,其特征在于,所述缓冲层选自下组:空穴传输层(HTL),空穴注入层(HIL),空穴提取层(HEL),电子传输层(ETL),电子注入层(EIL)和电子提取(EEL)层。5.如前述权利要求中任一项所述的设备,其特征在于,所述金属氧化物纳米颗粒选自下组:■纯金属氧化物,优选地是ZnO,TiOx,WOx,NiO,VyOx,MoyOx和NbyOx;■混合金属氧化物,优选地是IGZO,IZO,ZnSnO3;■掺杂的金属氧化物,优选地是ITO和ATO;所述金属氧化物任选地包含含碳材料。6.如前述权利要求中任一项所述的设备,其特征在于,所述金属氧化物纳米颗粒选自下组:ZnO、Al-掺杂的ZnO(“AZO”)、包含含碳材料的ZnO、包含含碳材料的AZO、TiOx和掺杂的TiOx。7.如前述权利要求中任一项所述的设备,其特征在于,所述基材选自(a)活性层;或(b)额外的缓冲层;或(c)无机导电电极材料,优选地是ITO、Ag、Cu或Ni;或(d)有机导电电极材料,优选地是PEDOT:PSS;或(e)(c)和(d)的组合。8.一种中间体商品,其包括使用多个层涂覆的片状基材,其中所述层(a)具有下述顺序:电极/HEL/活性层/EEL/电极(“正常结构”);或(b)具有下述顺序:电极/EEL/活性层/HEL/电极,(“反向结构”);或(c)包括下述顺序:电极/EEL/活性层/HEL;或(d)包括下述顺序:电极/HEL/活性层/EEL;或(e)包括下述顺序:电极/HIL/HTL/活性层/ETL/EIL/电极,其中在(a)-(e)的每一种情况中,根据具体情况,缓冲层、HEL、EEL、HIL包含如权利要求6...
【专利技术属性】
技术研发人员:N·A·卢钦格,S·C·哈利姆,T·斯塔布汗,C·J·布拉贝克,
申请(专利权)人:纳米格拉德股份公司,
类型:发明
国别省市:瑞士;CH
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