激光剥蚀样品室制造技术

技术编号:13762593 阅读:205 留言:0更新日期:2016-09-27 17:52
本发明专利技术公开了一种激光剥蚀样品室,包括内腔室、外腔室和送样装置;内腔室具备第一进气口和第一出气口,内腔室上开设有进样口和出样口;送样装置包括通过进样口和出样口可滑动地贯穿内腔室的样品托条,以及与样品托条连接并用于带动样品托条在进样口和出样口所处直线上滑动的驱动装置;内腔室和送样装置均设置在外腔室内,外腔室具备第二进气口和第二出气口。该激光剥蚀样品室,实现了样品的自动更换,无需频繁开启样品室,从而避免了因频繁开启样品室对激光剥蚀进样系统中的气路造成影响。同时,消除了内腔室内外的压力差,避免了由于内腔室内外压力差导致的样品颗粒云泄漏。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及无机元素和同位素分析测试
,尤其涉及用于电感耦合等离子体质谱的前处理装置,具体涉及激光剥蚀进样系统中的样品室。
技术介绍
激光剥蚀作为新型原位采样技术,可与电感耦合等离子体质谱等多种分析仪器联用。激光剥蚀可有效避免传统湿法消解制样带来的样品破坏、制样繁琐费时、易挥发待测物损耗及消解液中的水和酸引发的多原子离子干扰等问题。但是,现有的激光剥蚀进样系统,其样品室一次只能容纳少量的样品。在作业过程中,需要频繁开启样品室以更换样品,从而极易对激光剥蚀进样系统中的气路造成影响。
技术实现思路
本专利技术的目的即在于克服现有技术的不足,提供一种具备送样装置的激光剥蚀样品室,其能够自动送入样品,无需频繁开启样品室,从而避免对激光剥蚀进样系统中的气路造成影响。本专利技术的实施例通过以下技术方案实现:激光剥蚀样品室,包括内腔室、外腔室和送样装置;内腔室具
备第一进气口和第一出气口,内腔室上开设有进样口和出样口;送样装置包括通过进样口和出样口可滑动地贯穿内腔室的样品托条,以及与样品托条连接并用于带动样品托条在进样口和出样口所处直线上滑动的驱动装置;内腔室和送样装置均设置在外腔室内,外腔室具备第二进气口和第二出气口。为了避免在作业过程中频繁开启样品室,在本专利技术的实施例中,专利技术人设置了具备样品托条和驱动装置的送样装置。样品托条上承接有多个样品,驱动装置带动样品托条运动,使样品托条上的样品进入内腔室。在内腔室中对该样品进行激光剥蚀后,驱动装置带动样品托条运动,使另一个未处理的样品进入内腔室。如此往复,即可实现样品的自动更换,无需频繁开启样品室,从而避免了因频繁开启样品室对激光剥蚀进样系统中的气路造成影响。然而,专利技术人在实现本专利技术实施例的过程中发现,由于样品托条与进样口、出样口之间会产生相对运动,因此难以在样品托条与进样口之间、样品托条与出样口之间实现完全密封,在对样品进行激光剥蚀并得到样品颗粒云后,样品颗粒云极易通过进样口和出样口泄露至内腔室外,导致载气无法完全带走样品颗粒云。专利技术人经过研究发现,之所以内腔室内的样品颗粒云容易通过进样口和出样口泄露,是由于在产生样品颗粒云后,内腔室内的内压大于内腔室外的压力,在内腔室内外压力差的作用下导致样品颗粒云泄漏。为此,专利技术人设置了容纳内腔室的外腔室。在对样品进行激光剥蚀时,通过第一进气口向内腔室送入载气,同时通过第二进气口向外腔室送入载气,使外腔室和内腔室内的压力一致。消除内腔室内外的压力差。如此即可避免由于内腔室内外压力差导致的样品颗
粒云泄漏。在本专利技术的一种实施例中,内腔室的壁包括圆筒形的中间段,从中间段的一端延伸出的具有抛物线轮廓的圆弧形的第一过渡段,从中间段的另一端延伸出的具有抛物线轮廓的圆弧形的第二过渡段;中间段、第一过渡段和第二过渡段同轴;第一进气口开设于第一过渡段,第一出气口开设于第二过渡段;中间段、第一过渡段、第二过渡段、第一出气口和第一进气口同轴。在本专利技术的一种实施例中,进样口和出样口开设于第二过渡段;进样口和出样口相对于第二过渡段的中轴线所在的一个平面对称。在本专利技术的一种实施例中,第一过渡段和第二过渡段形状相同。在本专利技术的一种实施例中,内腔室上开设有正对样品托条的第一激光窗,第一激光窗被第一玻璃密封。在本专利技术的一种实施例中,外腔室上开设有正对第一激光窗的第二激光窗,第二激光窗被第二玻璃密封。在本专利技术的一种实施例中,样品托条上开设有多个样品承接孔。在本专利技术的一种实施例中,样品承接孔在样品托条的滑动方向上间隔布置。在本专利技术的一种实施例中,激光剥蚀样品室还包括设置在进样口和出样口内壁的密封环。在本专利技术的一种实施例中,驱动装置包括滑轨、动力输出部以
及与样品托条滑动方向上的两端连接的滑动块;滑轨上开设有槽,滑动块与槽滑动配合;动力输出部与滑动块传动连接。本专利技术的技术方案至少具有如下优点和有益效果:设置送样装置,实现样品的自动更换,无需频繁开启样品室,从而避免了因频繁开启样品室对激光剥蚀进样系统中的气路造成影响。同时,设置容纳内腔室的外腔室,在对样品进行激光剥蚀时,通过第一进气口向内腔室送入载气,同时通过第二进气口向外腔室送入载气,使外腔室和内腔室内的压力一致。消除内腔室内外的压力差。如此即可避免由于内腔室内外压力差导致的样品颗粒云泄漏。附图说明为了更清楚的说明本专利技术实施例的技术方案,下面对实施例中需要使用的附图作简单介绍。应当理解,以下附图仅示出了本专利技术的某些实施方式,不应被看作是对本专利技术范围的限制。对于本领域技术人员而言,在不付出创造性劳动的情况下,能够根据这些附图获得其他附图。图1为本专利技术实施例中激光剥蚀样品室的结构示意图;图2为图1的A处放大图;图3为本专利技术实施例中内腔室的外部结构示意图;图4为本专利技术实施例中外腔室的外部结构示意图;图5为本专利技术实施例中激光剥蚀进样系统的结构示意图;图6为本专利技术实施例中信号匀化器的结构示意图。其中,附图标记对应的零部件名称如下:100-激光剥蚀进样系统,110-主管路,120-第一支管路,130-第二支管路,141-第一通断阀,142-第二通断阀,143-第三通断阀,144-第四通断阀,145-缓冲罐,151-第一压力计,152-第二压力计,153-第三压力计,154-流量计,155-减压阀,160-信号匀化器,161-第一端部,161-1-第一头腔,161-11-第一连接平面,161-12-第一罩体,161-2-第一接管,162-第二端部,162-1-第二头腔,162-11-第二连接平面,162-12-第二罩体,162-2-第二接管,163-毛细管,200-激光剥蚀样品室,210-内腔室,210-1-第一激光窗,210-2-第一玻璃,211-第一进气口,212-第一出气口,213-进样口,214-出样口,215-密封环,216-中间段,217-第一过渡段,218-第二过渡段,220-外腔室,220-1-第二激光窗,220-2-第二玻璃,221-第二进气口,222-第二出气口,230-送样装置,231-样品托条,231-1-样品承接孔,232-驱动装置,232-1-滑轨,232-2-滑动块,232-3-槽。具体实施方式为使本专利技术实施例的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合附图,对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整的描述。显然,所描述的实施例是本专利技术的一部分实施例,而不是全部的实施例。因此,以下对本专利技术的实施例的详细描述并非旨在限制要求保护的本专利技术的范围,而是仅仅表示本专利技术的部分实施例。基于本发
明中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本专利技术保护的范围。需要说明的是,在不冲突的情况下,本专利技术中的实施例及实施例中的特征和技术方案可以相互组合。应注意到:相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项,因此,一旦某一项在一个附图中被定义,则在随后的附图中不需要对其进行进一步定义和解释。在本专利技术的描述中,需要说明的是,术语“第一”、“第二”、“第三”等仅用于区分描述,而不能理解为指示或暗示相对重要性。实施例1:参照图1,图1为本专利技术实施例中激光剥蚀样品室200的结构示意图。激光剥蚀样品室200包括内腔室210、外腔室220和送样装置230本文档来自技高网
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【技术保护点】
激光剥蚀样品室,其特征在于:所述激光剥蚀样品室包括内腔室、外腔室和送样装置;所述内腔室具备第一进气口和第一出气口,所述内腔室上开设有进样口和出样口;所述送样装置包括通过所述进样口和所述出样口可滑动地贯穿所述内腔室的样品托条,以及与所述样品托条连接并用于带动所述样品托条在所述进样口和所述出样口所处直线上滑动的驱动装置;所述内腔室和所述送样装置均设置在所述外腔室内,所述外腔室具备第二进气口和第二出气口。

【技术特征摘要】
1.激光剥蚀样品室,其特征在于:所述激光剥蚀样品室包括内腔室、外腔室和送样装置;所述内腔室具备第一进气口和第一出气口,所述内腔室上开设有进样口和出样口;所述送样装置包括通过所述进样口和所述出样口可滑动地贯穿所述内腔室的样品托条,以及与所述样品托条连接并用于带动所述样品托条在所述进样口和所述出样口所处直线上滑动的驱动装置;所述内腔室和所述送样装置均设置在所述外腔室内,所述外腔室具备第二进气口和第二出气口。2.根据权利要求1所述的激光剥蚀样品室,其特征在于:所述内腔室的壁包括圆筒形的中间段,从所述中间段的一端延伸出的具有抛物线轮廓的圆弧形的第一过渡段,从所述中间段的另一端延伸出的具有抛物线轮廓的圆弧形的第二过渡段;所述中间段、第一过渡段和第二过渡段同轴;所述第一进气口开设于所述第一过渡段,所述第一出气口开设于所述第二过渡段;所述中间段、所述第一过渡段、所述第二过渡段、所述第一出气口和所述第一进气口同轴。3.根据权利要求2所述的激光剥蚀样品室,其特征在于:所述进样口和所述出样口开设于所述第二过渡段;所述进样口和所述出样口相对于所述第二过渡段的中...

【专利技术属性】
技术研发人员:文明何康昊宋江锋姚勇李佩龙邓立杨雷
申请(专利权)人:中国工程物理研究院材料研究所
类型:发明
国别省市:四川;51

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