大尺寸掩膜板框架的制作方法技术

本发明专利技术涉及一种大尺寸掩膜板框架的制作方法，其特征在于，包括提供多个金属边框条；将所述多个金属边框条首尾依次焊接形成框架，所述框架具有镂空区、适于与掩膜基板贴合的附膜面以及与所述附膜面相背的基面，所述附膜面位于所述镂空区外侧周围；对所述框架进行机械加工，使得所述框架的所述附膜面及基面的平面度达到预定值。根据本实施例提供的大尺寸掩膜板框架的制作方法，可以制得大尺寸的掩膜板板框，利用该掩膜板框可以制作大尺寸的掩膜板，最终，利用该掩膜板即可制作大尺寸的显示器等显示设备。其取材方便，工艺简单，成本低，制作形成的掩膜板板框可以满足更大尺寸要求。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及有机电致发光器件制造
，特别涉及一种大尺寸掩膜板框架的制作方法。
技术介绍
有机电致发光二极管(Organic Light-Emitting Diodes，OLED)是自发光器件，不需要背光源，外观轻、薄，而传统的液晶显示器(LCD)需要背光源才能工作，外观尺寸较厚。有机发光二极管显示器的功耗低，视角宽，屏幕响应快，是最能符合人们未来对显示器功能要求的技术。因此，有机发光二极管有望在不久的将来取代液晶显示器，具有很高的市场潜力。有机小分子发光二极管在制作过程中，目前较成熟的技术是采用真空蒸镀技术，在器件制备过程中，有机材料会淀积在位于蒸发源上方的基板上，为形成特有的图案，在基板下方紧贴有掩膜板，掩膜板上留有预先设计排版好的蒸镀孔，最终有机材料会通过掩膜板上的蒸镀孔淀积到基板上面。然而，现有技术中，由于掩膜板无法形成大尺寸，例如1.7m*2.5m*0.6m或者2.25m*3.3m*0.6m,所以，也无法生产出大尺寸显示器。
技术实现思路
本专利技术旨在至少在一定程度上解决相关技术中的技术问题之一。为此，本专利技术的目的在于提供一种大尺寸掩膜板框架的制作方法。为了实现上述目的，本专利技术实施例的大尺寸掩膜板框架的制作方法，包括：提供多个金属边框条；将所述多个金属边框条首尾依次焊接形成框架，所述框架具有镂空区、适于与掩膜基板贴合的附膜面以及与所述附膜面相背的基面，所述附膜面位
于所述镂空区外侧周围；对所述框架进行机械加工，使得所述框架的所述附膜面及基面的平面度达到预定值。根据本专利技术提供的大尺寸掩膜板框架的制作方法，先提供多个金属边框条；再将所述多个金属边框条首尾依次焊接形成框架，所述框架具有镂空区、适于与掩膜基板贴合的附膜面以及与所述附膜面相背的基面，所述附膜面位于所述镂空区外侧周围；最后，对所述框架进行机械加工，使得所述框架的所述附膜面及基面的平面度达到预定值。由此，可以制得大尺寸的掩膜板板框，在该掩膜板框上覆盖掩膜基板即可形成大尺寸的掩膜板，最终，利用该掩膜板即可制作大尺寸的显示器等显示设备。其取材方便，工艺简单，制作形成的掩膜板板框可以满足更大尺寸要求。另外，根据本专利技术上述实施例的大尺寸掩膜板框架的制作方法还可以具有如下附加的技术特征：根据本专利技术的一个实施例，将所述多个金属边框条首尾依次焊接形成框架之前，还包括：对各个所述金属边框条进行热处理。根据本专利技术的一个实施例，所述对所述框架进行机械加工，使得所述框架的所述附膜面及基面的平面度达到预定值包括：对所述框架进行粗加工；对粗加工之后的所述框架的附膜面和基面的进行精磨，使得所述框架的所述附膜面及基面的平面度达到预定值。根据本专利技术的一个实施例，对所述框架进行机械加工，使得所述框架的所述附膜面及基面的平面度达到预定值之后，还包括：在所述框架上进行辅助结构加工成型，所述辅助结构包括孔、槽、斜面中的一种或多种。根据本专利技术的一个实施例，采用激光焊接工艺将所述多个金属边框条首尾依次焊接形成所述框架。根据本专利技术的一个实施例，所述预设值小于或等于300um。根据本专利技术的一个实施例，所述金属边框条的材料为镍钴合金、镍铁合金、铟瓦合金材质中的任意一种。附图说明图1是现有技术中掩膜板的结构示意图；图2是本专利技术一个实施例大尺寸掩膜板框架的制作方法的流程图；图3是本专利技术实施例大尺寸掩膜板框架的制作方法种金属边框条的结构示意图；图4是本专利技术实施例大尺寸掩膜板框架的制作方法种形成框架的结构示意图；图5是本专利技术另一个实施例大尺寸掩膜板框架的制作方法的流程图；图6是本专利技术又一个实施例大尺寸掩膜板框架的制作方法的流程图。本专利技术目的的实现、功能特点及优点将结合实施例，参照附图做进一步说明。具体实施方式下面详细描述本专利技术的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，旨在用于解释本专利技术，而不能理解为对本专利技术的限制。在本专利技术的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本专利技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本专利技术的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本专利技术的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。在本专利技术中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连
接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本专利技术中的具体含义。参照图1所示，掩膜板一般包括掩膜板框11及覆盖在掩膜板框11上表面的掩膜基板10，其中，掩膜基板10上加工形成有呈矩阵分布的蒸镀孔101。掩膜板框11是用于承载掩膜基板101，使得掩膜基板10保持张紧且水平的状态。目前掩膜板框11制作方法为：取一整块金属板材，再将金属板材镂空即可形成掩膜板框11。这种方法，由于金属板材的取材是一整块，因此，可以确保金属板材的上下表面容易达到平面度要求。然而，这种方法，也存在诸多缺陷，例如取材必须是整块板材，而小尺寸的整块板材较为容易获得，但是，对于大尺寸的整块板材，基本上无法获得，因此，也就无法制作大尺寸掩膜板框11，继而无法利用大尺寸掩膜板制作大尺寸显示器件。同时，整块板材取材后，镂空中间的部分作为废料，显然，造成了极大的浪费，而制作掩膜板板框11的板材非常昂贵，低则几万，高则上百万。此外，整块板材镂空加工时，工艺极为复杂，对加工设备要求也非常高。参照图2所示，本专利技术实施例提供了一种大尺寸掩膜板框架的制作方法，包括以下步骤：S101、提供多个金属边框条21a、21b、21c、21d。例如图3示例中，提供四个金属边框条21a、21b、21c、21d。金属边框条21a、21b、21c、21d可以是在一块或几块金属板材上通过切割加工形成。可以理解的是，金属边框条21a、21b、21c、21d的材料可以是镍钴合金、镍铁合金、铟瓦合金材质中的任意一种。S102、将所述多个金属边框21a、21b、21c、21d条首尾依次焊接形成框架20，所述框架20具有镂空区211、适于与掩膜基板贴合的附膜面201以及与所述附膜面相背的基面202，所述附膜面201位于所述镂空区211外侧周围。如图4示例中，第一个金属边框条21a的一端与第二个金属边框条21b
的一端焊接，第二个金属边框条21b的另一端与第三个金属边框条21c的一端焊接，第三个金属边框条21c的另一端与第四个金属边框条21d的一端焊接，第四个金属边框条21d的另一本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种大尺寸掩膜板框架的制作方法，其特征在于，包括：提供多个金属边框条；将所述多个金属边框条首尾依次焊接形成框架，所述框架具有镂空区、适于与掩膜基板贴合的附膜面以及与所述附膜面相背的基面，所述附膜面位于所述镂空区外侧周围；对所述框架进行机械加工，使得所述框架的所述附膜面及基面的平面度达到预定值。

【技术特征摘要】
1.一种大尺寸掩膜板框架的制作方法，其特征在于，包括：提供多个金属边框条；将所述多个金属边框条首尾依次焊接形成框架，所述框架具有镂空区、适于与掩膜基板贴合的附膜面以及与所述附膜面相背的基面，所述附膜面位于所述镂空区外侧周围；对所述框架进行机械加工，使得所述框架的所述附膜面及基面的平面度达到预定值。2.根据权利要求1所述的大尺寸掩膜板框架的制作方法，其特征在于，将所述多个金属边框条首尾依次焊接形成框架之前，还包括：对各个所述金属边框条进行热处理。3.根据权利要求1所述的大尺寸掩膜板框架的制作方法，其特征在于，所述对所述框架进行机械加工，使得所述框架的所述附膜面及基面的平面度达到预定值包括：对所述框架进行粗加工；对粗加工之后的所述框架的附膜面和...

【专利技术属性】
技术研发人员：唐军，
申请(专利权)人：唐军，
类型：发明
国别省市：广东;44