通过移动透镜进行光刻的方法技术

本发明专利技术公开了一种通过移动透镜进行光刻的方法，具体包括：光刻所用的光垂直向下入射，直至达到第一分光镜；第一分光光路沿水平方向发射，直至其到达第一折射镜；第一分光光路经过第一折射镜折射，沿垂直方向发射，直至其到达准直装置3；第一分光光路到达第三折射镜，被第三折射镜折射，沿水平方向发射，直至其到达凹面折射镜；第一分光光路第二次被凹面折射镜折射后，到达第四折射镜，被第四折射镜折射之后，沿垂直方向打入位于工作台上的晶圆；运行移动装置，依次对晶圆上的每个晶粒进行光刻。使用本发明专利技术所述的方法，只移动折射镜，移动路程短，则所需的操作空间减小，有利于减小光刻机的体积。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及半导体制造技术，具体涉及一种通过移动透镜进行光刻的方法。
技术介绍
光刻是半导体制造的重要流程之一，具体是利用光学-化学反应原理和化学、物理刻蚀方法，将电路图形传递到单晶表面或介质层上，形成有效图形窗口或功能图形的工艺技术。由于光刻要在整个晶圆(wafer)上进行，而一个晶圆包括多个晶粒(die)，所以光刻技术要重复多次，保证在每个晶粒上都刻蚀了所需要的图案。如何进行此种重复过程，在现有技术中，一般有两种方法，一是光刻镜头固定，移动放置晶圆的工作台，依次刻蚀每个晶粒，二是移动光刻镜头，而放置晶圆的工作台固定。此两种方法的缺点是移动距离大，则操作所需要的空间大。
技术实现思路
针对现有技术的不足，本专利技术公开了一种通过移动透镜进行光刻的方法。本专利技术的技术方案如下：一种通过移动透镜进行光刻的方法，包括以下步骤：步骤1、光刻所用的光垂直向下入射，直至达到第一分光镜；步骤2、第一分光光路沿水平方向发射，直至其到达第一折射镜；同时第二分光光路沿垂直方向发射，直至其到达第二折射镜；步骤3、第一分光光路经过第一折射镜折射，沿垂直方向发射，直至其到达准直装置3，进行准直过程；同时，第二分光光路经过第二折射镜折射，到达观测目镜被观测者所观测；步骤4、第一分光光路在被准直之后，到达第三折射镜，被第三折射镜折射，沿水平方向发射，直至其到达凹面折射镜；步骤5、第一分光光路被凹面折射镜折射之后，到达凹面折射镜的焦点之处的凸面折射镜，又被折射回凹面折射镜；步骤6、第一分光光路第二次被凹面折射镜折射后，到达第四折射镜，被
第四折射镜折射之后，沿垂直方向打入位于工作台上的晶圆；步骤7、运行移动装置，固定在移动装置之上的第四折射镜的随之移动，则第一分光光路的出射位置随之移动，依次对晶圆上的每个晶粒进行光刻。本专利技术的有益技术效果是：使用本专利技术所述的方法，可以通过移动固定在移动装置上的第四折射镜的位置，即可移动光刻机所发出的光线的位置，依次对一个晶圆上的所有晶粒进行光刻流程。由于只移动折射镜，移动路程短，则所需的操作空间减小，有利于减小光刻机的体积。附图说明图1是本专利技术的光路原理图。具体实施方式图1是本专利技术的光路原理图。如图1所示，本专利技术的光路包括成45°角放置的第一分光镜1。第一分光镜1的水平光出射方向放置有与第一分光镜1垂直的第一折射镜2。第一分光镜2的垂直光出射方向放置有与第一分光镜2平行的第二折射镜9，第二折射镜9的光出射方向放置有观测目镜10。第一折射镜2的光出射方向放置有准直装置3。准直装置3的光出射方向放置有第三折射镜4。第三折射镜4的对称方向放置有第四折射镜7。第三折射镜4的光出射方向放置有凹面折射镜6。凹面折射镜6的焦点之处放置有凸面折射镜5。第四折射镜7固定在移动装置8之上。本专利技术的工作原理为：步骤1、光刻所用的光垂直向下入射，直至达到第一分光镜1；步骤2、第一分光光路沿水平方向发射，直至其到达第一折射镜2；同时第二分光光路沿垂直方向发射，直至其到达第二折射镜9；步骤3、第一分光光路经过第一折射镜2折射，沿垂直方向发射，直至其到达准直装置3，进行准直过程；同时，第二分光光路经过第二折射镜9折射，到达观测目镜10被观测者所观测；步骤4、第一分光光路在被准直之后，到达第三折射镜4，被第三折射镜4折射，沿水平方向发射，直至其到达凹面折射镜6；步骤5、第一分光光路被凹面折射镜6折射之后，到达凹面折射镜6的焦点之处的凸面折射镜5，又被折射回凹面折射镜6；步骤6、第一分光光路第二次被凹面折射镜6折射后，到达第四折射镜7，
被第四折射镜7折射之后，沿垂直方向打入位于工作台上的晶圆；步骤7、运行移动装置8，固定在移动装置8之上的第四折射镜7的随之移动，则第一分光光路的出射位置随之移动，依次对晶圆上的每个晶粒进行光刻。以上所述的仅是本专利技术的优选实施方式，本专利技术不限于以上实施例。可以理解，本领域技术人员在不脱离本专利技术的精神和构思的前提下直接导出或联想到的其他改进和变化，均应认为包含在本专利技术的保护范围之内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种通过移动透镜进行光刻的方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤1、光刻所用的光垂直向下入射，直至达到第一分光镜(1)；步骤2、第一分光光路沿水平方向发射，直至其到达第一折射镜(2)；同时第二分光光路沿垂直方向发射，直至其到达第二折射镜(9)；步骤3、第一分光光路经过第一折射镜(2)折射，沿垂直方向发射，直至其到达准直装置3，进行准直过程；同时，第二分光光路经过第二折射镜(9)折射，到达观测目镜(10)被观测者所观测；步骤4、第一分光光路在被准直之后，到达第三折射镜(4)，被第三折射镜(4)折射，沿水平方向发射，直至其到达凹面折射镜(6)；步骤5、第一分光光路被凹面折射镜(6)折射之后，到达凹面折射镜(6)的焦点之处的凸面折射镜(5)，又被折射回凹面折射镜(6)；步骤6、第一分光光路第二次被凹面折射镜(6)折射后，到达第四折射镜(7)，被第四折射镜(7)折射之后，沿垂直方向打入位于工作台上的晶圆；步骤7、运行移动装置(8)，固定在移动装置(8)之上的第四折射镜(7)的随之移动，则第一分光光路的出射位置随之移动，依次对晶圆上的每个晶粒进行光刻。

【技术特征摘要】
1.一种通过移动透镜进行光刻的方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤1、光刻所用的光垂直向下入射，直至达到第一分光镜(1)；步骤2、第一分光光路沿水平方向发射，直至其到达第一折射镜(2)；同时第二分光光路沿垂直方向发射，直至其到达第二折射镜(9)；步骤3、第一分光光路经过第一折射镜(2)折射，沿垂直方向发射，直至其到达准直装置3，进行准直过程；同时，第二分光光路经过第二折射镜(9)折射，到达观测目镜(10)被观测者所观测；步骤4、第一分光光路在被准直之后，到达第三折射镜(4)...

【专利技术属性】
技术研发人员：吕耀安，
申请(专利权)人：无锡宏纳科技有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32