一种消光膜制造技术

技术编号:13691305 阅读:93 留言:0更新日期:2016-09-09 06:58
本实用新型专利技术公开了一种消光膜,所述消光膜包括电晕消光层、防粘涂层、芯层、防腐抗菌层以及镀铝电晕层,所述电晕消光层、防粘涂层、芯层、防腐抗菌层以及镀铝电晕层依次叠加共挤而出,所述芯层的厚度为35‑40μm,所述防粘涂层的厚度为5‑10μm,所述防腐抗菌层的厚度为5‑10μm,所述电晕消光层与所述镀铝电晕层的厚度均为20‑25μm;本实用新型专利技术消光膜防腐抗菌效果好,隔绝性能优良,层数较多,厚度厚,具有较好的密封性,而且采用镀铝电晕层很好的解决了消光膜电晕处理后易粘连的问题,使得电晕衰减慢,力学性优异,光泽度高,应用广泛。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及包装材料,尤其涉及一种消光膜
技术介绍
电晕消光膜用于印刷、复合,主要用于贴附在包装盒表面或罐头瓶子的瓶身上,现有的消光膜一般包括聚乙烯层,所述的聚乙烯层上表面设有消光层,消光层通过铁轮压制而成,但是这种结构的消光膜不防水且耐热性能差,在潮湿环境下易损坏,遇到高温时,易变形,因而其使用范围受到限制;而且,现有技术的普通消光膜进行电晕处理后易粘连,使得产品的光泽度下降,影响美观。
技术实现思路
针对上述存在的问题,本技术旨在提供一种消光膜,该消光膜防腐抗菌效果好,隔绝性能优良,层数较多,厚度厚,具有较好的密封性,而且采用镀铝电晕层很好的解决了消光膜电晕处理后易粘连的问题,使得电晕衰减慢,力学性优异,光泽度高,应用广泛。为了实现上述目的,本技术所采用的技术方案如下:一种消光膜,所述消光膜包括电晕消光层、防粘涂层、芯层、防腐抗菌层以及镀铝电晕层,所述电晕消光层、防粘涂层、芯层、防腐抗菌层以及镀铝电晕层依次叠加共挤而出,所述芯层的厚度为35-40μm,所述防
粘涂层的厚度为5-10μm,所述防腐抗菌层的厚度为5-10μm,所述电晕消光层与所述镀铝电晕层的厚度均为20-25μm。优选的,所述防粘涂层为爽滑剂层,由爽滑剂制成。优选的,所述电晕消光层由聚乙烯树脂材料制成。优选的,所述芯层由聚丙烯树脂材料制成。优选的,所述防腐抗菌层由防腐抗菌材料制成。本技术的有益效果是:与现有技术相比,本技术技术方案增加了层数以及每层的厚度,这样的结构提高了消光膜的强度,密封性以及隔绝性能;其次,本技术设计防腐抗菌层,很好的解决了现有技术中薄膜防腐抗菌性能差的问题,使用周期得到延长,包装产品的质量得到保证,还有使用镀铝电晕层很好的解决了现有技术的普通消光膜进行电晕处理后易粘连的问题。附图说明图1为本技术结构示意图。其中:1-电晕消光层、2-防粘涂层、3-芯层、4-防腐抗菌层、5-镀铝电晕层。具体实施方式为了使本领域的普通技术人员能更好的理解本技术的技术方案,下面结合附图和实施例对本技术的技术方案做进一步的描述。参照附图1所示的一种消光膜,所述消光膜包括电晕消光层1、防粘
涂层2、芯层3、防腐抗菌层4以及镀铝电晕层5,所述电晕消光层1、防粘涂层2、芯层3、防腐抗菌层4以及镀铝电晕层5依次叠加共挤而出,所述芯层3由聚丙烯树脂材料制成,所述芯层3的厚度为35-40μm,所述防粘涂层2为爽滑剂层,由爽滑剂制成,通过爽滑剂层的设置解决了现有技术中薄膜易粘接的问题,所述防粘涂层2的厚度为5-10μm,所述防腐抗菌层4由防腐抗菌材料制成,所述防腐抗菌层4的厚度为5-10μm,通过防腐抗菌层4的设置很好的解决了薄膜的防腐抗菌性能差的问题,所述电晕消光层1与所述镀铝电晕层5的厚度均为20-25μm,所述电晕消光层1由聚乙烯树脂材料制成,镀铝薄膜和铝箔相比,大大减少了铝的用量,节省了能源和材料,成本低;同时具有优良的耐折性和良好韧性;对印刷、复合等后加工具有良好的适应性。本文档来自技高网
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【技术保护点】
一种消光膜,其特征在于:所述消光膜包括电晕消光层、防粘涂层、芯层、防腐抗菌层以及镀铝电晕层,所述电晕消光层、防粘涂层、芯层、防腐抗菌层以及镀铝电晕层依次叠加共挤而出,所述芯层的厚度为35‑40μm,所述防粘涂层的厚度为5‑10μm,所述防腐抗菌层的厚度为5‑10μm,所述电晕消光层与所述镀铝电晕层的厚度均为20‑25μm。

【技术特征摘要】
1.一种消光膜,其特征在于:所述消光膜包括电晕消光层、防粘涂层、芯层、防腐抗菌层以及镀铝电晕层,所述电晕消光层、防粘涂层、芯层、防腐抗菌层以及镀铝电晕层依次叠加共挤而出,所述芯层的厚度为35-40μm,所述防粘涂层的厚度为5-10μm,所述防腐抗菌层的厚度为5-10μm,所述电晕消光层与所述镀铝电晕层的厚度均为20-25μm。...

【专利技术属性】
技术研发人员:徐辉罗海涛李斌刚荚林涛
申请(专利权)人:浙江伊美薄膜工业集团有限公司
类型:新型
国别省市:浙江;33

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