减薄液和玻璃基板的减薄方法技术

技术编号:13673593 阅读:114 留言:0更新日期:2016-09-07 22:28
本发明专利技术涉及玻璃基板制造技术领域,尤其涉及减薄液和玻璃基板的减薄方法,用于蚀刻玻璃基板的减薄液包括如下质量百分比组分:10~30%的HF、2~10%的NaCl、6~25%的NH4HF2、6~17%的强酸和余量的水。本发明专利技术的减薄液,根据不同物质反应生成物的利用价值,进行综合考虑,利用其进行的金属基板减薄工作,生产工艺较简单,生产良率高,效率快,还可以满足大批量生产的需要,可以进一步降低触对控产品的玻璃基板的减薄厚度。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及玻璃基板制造
,尤其涉及减薄液和玻璃基板的减薄方法
技术介绍
近年来触摸屏的发展极为迅速,随着对多媒体信息查询的与日俱增,人们对触摸屏的应用越来越多。它能够满足人们快速查阅有用信息的需求,且正在走向一条大众化应用的道路。早期的显示器件主要以电阻触摸屏为主,现如今在苹果公司的带动下电容触摸屏以其计算准确,高灵敏性,操作灵活等特点,越来越受到人们的青睐。触摸屏的主要部件电容式传感器在制作时根据要实现的功能,预先设计好相对应的线路图,再通过黄光制程将设计好的线路图做到对应的玻璃上,从而实现应有的触控功能,目前市场上的电子产品,都具有触控功能,手机是主要产品之一。随着现代科技的发展,电子显示设备越来越趋向轻薄化,通常我们触摸屏的玻璃基板厚度都在0.33mm以上,如果想使用更加轻薄的基板,那么减薄就成为一条不可缺少的工艺路线。在触控屏功能片的生产加工中,玻璃基板的减薄效果的好坏成为生产中的重要环节,他直接影响到产品的质量,目前触控玻璃减薄的方式主要分为两种:一种是采用物理氧化铈抛光的方式进行减薄,用抛光方式减薄每片耗时约2~3h,这样方式因为效率太低,不具有大批量生产的可能性;另一种是采用氢氟酸(HF)酸蚀刻的方式减薄玻璃的
厚度,这种方式效率较高,可以满足量产的需求。该路线也逐渐成为业内减薄玻璃基板的首选工艺路线。近年来随着以手机、平板为代表的超薄触控产品的发展,传统的0.33mm以上的产品已经没有趋于饱和,没有任何竞争优势,要想在此有很大的发展已是不可能,结合整个市场的行情,要想产品更加轻薄,构思一条高效、快速的减薄方案已经是迫在眉睫。现有技术的采用HF的混酸进行减薄的主要原理是:含HF的混酸与玻璃中的SiO2以及其他的金属氧化物发生反应,使玻璃的表层剥离,从而实现玻璃基板的减薄。目前市场上玻璃减薄液的配方主要配方是:10%~20%的HF,10%~20%的强酸(H2SO4、HCl、HNO3、H3PO4),60%~80%的水。使用该配方作为玻璃减薄液的减薄效率极低、废料处理成本高,主要是因为:一、该工艺方案的减薄液在反应中生成的H4SiO4(玻璃砂)影响玻璃蚀刻速率与表面质量,容易使产品出现凸点或是蚀刻不均的现象;二、该反应中生产的H2SiF6溶解在减薄液中,使玻璃的减薄效果变差,减薄液无法继续使用而造成废液;三、该方案会产生大量无法利用的危险废弃物,处理成本很高。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种减薄液和玻璃基板的减薄方法,旨在解决现有技术的减薄液的减薄效果差、减薄速度慢和产生大量危险废弃物的技术问题。为实现上述目的,本专利技术的技术方案是:减薄液,包括如下质量百分比组分:进一步地,所述减薄液包括如下质量百分比组分:进一步地,所述减薄液包括如下质量百分比组分:优选地,所述强酸为H2SO4和HCl中的一种或者两种。更优选地,所述强酸由1~7%的H2SO4和5~10%的HCl组成。本专利技术的有益效果:本专利技术的减薄液中,NH4HF2作为缓蚀剂,为减薄液补充F-,使酸液更加持久耐用,提升酸液的利用率,提高减薄效果;因为减薄液进行工作时反应生成的H2SiF6会使玻璃的减薄效果变差,减薄液无法继续使用而变成废液;而本专利技术实施例的配方中的NaCl能够与H2SiF6反应,
生成可沉淀的Na2SiF6,这样可以去除减薄液中的H2SiF6,促进反应的进行,提升减薄速度;最后,本专利技术实施例的减薄液工作时产生Na2SiF6废弃物代替传统的H4SiO4废弃物,该Na2SiF6废弃物可以通过进一步的提纯,从而进行再次销售,基本可以实现零排放,并且原减薄液通过原料的补加可以进行循环再利用。本专利技术的另一技术方案是:玻璃基板的减薄方法,包括如下步骤:封胶:提供一待减薄的玻璃基板,对该玻璃基板进行封胶处理并露出需要进行减薄的表面;减薄:将完成所述封胶步骤后的所述玻璃基板置于上述的减薄液内进行蚀刻;清洗:对完成所述减薄步骤后的所述玻璃基板进行清洁、洗净。进一步地,所述减薄步骤中,完成蚀刻后的所述玻璃基板的厚度均匀性<0.05%。进一步地,所述减薄步骤中,所述减薄液的温度为25~32℃。进一步地,所述减薄步骤中,所述减薄液的浓度偏差为±4~±6%。进一步地,所述减薄步骤中,所述玻璃基板置于所述减薄液内的蚀刻时长为180~280s。进一步地,所述减薄步骤中,所述玻璃基板置于所述减薄液内的蚀刻速率为12~20μm/min。通过本专利技术的玻璃基板的减薄方法对玻璃基板进行减薄工作,可以保证在减薄过程中减少危险废弃物的产生,还能够提升减薄速度和提高减薄效果,满足大批量的生产需求。附图说明图1为本专利技术实施例提供的玻璃基板的减薄方法的流程图。具体实施方式为了使本专利技术要解决的技术问题、技术方案及有益效果更加清楚明白,以下结合实施例与附图1,对本专利技术进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本专利技术,并不用于限定本专利技术。本专利技术实施例提供的减薄液,包括如下质量百分比组分:本专利技术实施例的配方中,NH4HF2作为缓蚀剂,为减薄液补充F-,使酸液更加持久耐用,提升酸液的利用率,提高减薄效果;因为减薄液进行工作时反应生成的H2SiF6会使玻璃的减薄效果变差,减薄液无法继续使用而变成废液;而本专利技术实施例的配方中的NaCl能够与H2SiF6反应,生成可沉淀的Na2SiF6,这样可以去除减薄液中的H2SiF6,促进反应的进行,提升减薄速度;最后,本专利技术实施例的减薄液工作时产生Na2SiF6废弃物代替传统的H4SiO4废弃物,该Na2SiF6废弃物可以通过进一步的提纯,从而进行再次销售,基本可以实现零排放,并且原减薄液通过原料的补加可以进行循环再利用。本实施例中,进一步地,所述减薄液包括如下质量百分比组分:本实施例中,进一步地,所述减薄液包括如下质量百分比组分:也就是说,在本实施例提供的减薄液中;HF的质量百分比可以选为10%、12%、14%、16%、18%、20%、22%、24%、26%、28%或者30%;NaCl的质量百分比可以选为;2%、3%、4%、5%、6%、7%、8%、9%或者10%;NH4HF2的质量百分比可以选为6%、8%、10%、12%、14%、16%、18%、20%、21%、23%或者25%;强酸的质量百分比可以选为6%、7%、8%、9%、10%、11%、12%、13%、14%、15%、16%或者17%;其余量则选用水;水优选采用纯水。优选地,所述强酸为H2SO4和HCl中的一种或者两种。具体的,一、强酸可以全部选择采用H2SO4;二、强酸可以全部选择采用HCl;三、强酸可以选用H2SO4和HCl的混合物,具体的,强酸由1~7%的H2SO4和5~10%的HCl组成,即在减薄液中,H2SO4的质量百分比为1~7%、HCl的质量百分比为5~10%。例如,混合的H2SO4和HCl中,H2SO4占本实施例提供的减薄液的质量百分比为6%、HCl占本实施例提供的减薄液的质量百分比为6%;或者,H2SO4占本实施例提供的减薄液的质量百分比为8%、HCl占本实施例提供的减薄液的质量百分比为5%;或者H2SO4占本实施例提供的减薄液的质量百分比为3%、HCl占本实施例提供的减薄液的质量百分比为7%;H2SO4占本本文档来自技高网
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【技术保护点】
减薄液,用于蚀刻玻璃基板,其特征在于:所述减薄液包括如下质量百分比组分:

【技术特征摘要】
1.减薄液,用于蚀刻玻璃基板,其特征在于:所述减薄液包括如下质量百分比组分:2.根据权利要求1所述的减薄液,其特征在于:所述减薄液包括如下质量百分比组分:3.根据权利要求1所述的减薄液,其特征在于:所述减薄液包括如下质量百分比组分:4.根据权利要求1~3任一项所述的减薄液,其特征在于:所述强酸为
\tH2SO4和HCl中的一种或者两种。5.根据权利要求1~3任一项所述的减薄液,其特征在于:所述强酸由1~7%的H2SO4和5~10%的HCl组成。6.玻璃基板的减薄方法,其特征在于:包括如下步骤:封胶:提供一待减薄的玻璃基板,对该玻璃基板进行封胶处理并露出需要进行减薄的表面;减薄:将完成所述封胶步骤后的所述玻璃基板置于权...

【专利技术属性】
技术研发人员:黄亮蒋蔚陈凯许东东黄受林黄海东
申请(专利权)人:深圳力合光电传感股份有限公司
类型:发明
国别省市:广东;44

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