涂敷膜除去装置制造方法及图纸

提供一种能够将涂敷在基板上的涂敷膜的一部分容易且可靠地除去的涂敷膜除去装置。本发明专利技术的涂敷膜除去装置具备：涂敷膜除去装置主体(31)具有朝向基板(1)上的涂敷膜(2)中的处于预先设定的位置的涂敷膜除去部从除去液供给口(5a)吐出除去液(8)的除去液供给机构(5)、和将吐出的除去液(8)从除去液回收口(6a)回收的除去液回收机构(6)；高度调整装置，调整基板(1)的表面与位于涂敷膜除去装置主体(31)的除去液供给口(5a)和除去液回收口(6a)之间的平坦的底面之间的距离。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及在高分子有机EL显示面板等的制造工序中将基板上的涂敷膜有选择地除去的涂敷膜除去装置。
技术介绍
在高分子有机EL显示面板等的制造工序中，有时需要使用涂敷法来形成高分子有机EL显示面板等的结构所需要的覆膜(层)。此时，有时需要将不需要成膜的区域即不需成膜区域上所成膜的覆膜除去。并且，作为将该覆膜除去的方法，例如公开了专利文献1、2所记载的方法。专利文献1：日本特开平08-102434号公报专利文献2：日本特开平11-143088号公报
技术实现思路
但是，例如在使涂敷了覆膜的部分浸渍到溶剂的储存部中的以往技术的覆膜的除去方法中，有基板的端部等可应用的部位受限的情况。因此，希望有通用性高、例如能够对任意的部分将覆膜除去的方法。在此，本专利技术的目的在于，提供一种在有机EL面板等的制造工序中能够将不需成膜区域所成膜的涂敷膜容易且可靠地除去的涂敷膜除去装置。作为本专利技术的一个技术方案的涂敷膜除去装置的特征在于，具备：涂敷膜除去装置主体，具有朝向基板上的涂敷膜中的处于预先设定的位置的涂敷膜除去部从吐出口吐出除去液的除去液供给机构、和将吐出的上述除去液从回收口回收的除去液回收机构；处理间隙调整装置，调整上述基板表面与处于上述涂敷膜除去装置主体的上述吐出口和上述回收口之间的平坦的底面之间的距离。根据本专利技术的一个技术方案，则能够将基板上的涂敷膜的一部分有选择地、容易且更可靠地除去。因此，能够提供一种例如能够将有机发光像
素外周部等的涂敷膜可靠地除去的涂敷膜除去装置。结果，使封固性能提高，能够容易地得到没有发光像素缺陷的高分子有机EL面板。附图说明图1是说明第1至第4的各实施方式的涂敷膜除去装置的结构的俯视图，图1(a)表示由处理间隙计测装置计测形成在基板表面上的涂敷膜中的涂敷膜除去部与涂敷膜除去装置主体(纵)的吐出口及回收口的距离的状态。图1(b)表示由涂敷膜除去装置主体(纵)进行对于纵向的不需成膜区域的处理中的状态。图1(c)表示由涂敷膜除去装置主体(横)进行对于横向的不需成膜区域的处理中的状态。图1(d)表示对于全部的不需成膜区域的涂敷膜除去的处理完成的状态。图2是用来说明第1至第4的各实施方式的涂敷膜除去装置的动作的一例的立体图。图3是图1(d)中的除去处理部31的A-A截面图的一例。图4是表示具有超声波振动施加装置的第1实施方式的涂敷膜除去装置主体的一例的截面图。图5是表示第1实施方式的涂敷膜除去装置的第1变形例的俯视图。图6是表示第1实施方式的涂敷膜除去装置的第2变形例的俯视图。图7是用来说明第1实施方式的第2变形例的动作的一例的立体图。图8是图1(d)中的除去处理部32的Ba-Bb截面图的一例。图9是图1(d)中的除去处理部33的Ba-Bb截面图的一例。图10是用来说明第4实施方式的涂敷膜除去装置的动作的一例的立体图。图11是图1(d)中的除去处理部34的Ba-Bb截面图的一例，表示除去液的液滴向间隙较小的方向移动的状况。图12是说明第5实施方式的涂敷膜除去装置的结构的俯视图，图12(a)表示涂敷膜除去装置的涂敷膜除去处理中的状态。图12(b)表示图12(a)之后的涂敷膜除去处理中的状态。图12(c)表示图12(b)之后的涂敷膜除去处理中的状态。图12(d)表示图12(c)的后的涂敷膜除去处理中的状态。图13是表示第5实施方式的涂敷膜除去装置主体的正视图、俯视图及侧视图。图14是用来说明第5实施方式的涂敷膜除去装置的动作的一例的立体图。图15是说明第5实施方式的涂敷膜除去装置的结构的截面图，图15(a)表示图12(a)的I-I截面。图15(b)表示图12(a)的II-II截面。图16是表示第5实施方式的基板上的不需成膜区域的俯视图，图16(a)表示基板上的Y轴方向的不需成膜区域。图16(b)表示基板上的X轴方向的不需成膜区域。图17是表示第5实施方式的涂敷膜除去装置的涂敷膜除去处理中的状态的俯视图，图17(a)表示实施例的涂敷膜除去装置的涂敷膜除去处理中的状态。图17(b)表示图17(a)之后的涂敷膜除去处理中的状态。图17(c)表示图17(b)之后的涂敷膜除去处理中的状态。图17(d)表示图17(c)之后的涂敷膜除去处理后的状态。图18是图17(a)中的除去处理部35的III-III截面图的一例。图19是用来说明第5实施方式的实施例的涂敷膜除去装置的动作的一例的立体图。图20是表示第5实施方式的实施例的基板上的不需成膜区域的俯视图，图20(a)表示Y轴方向的不需成膜区域。图20(b)表示X轴方向的不需成膜区域。具体实施方式以下，参照附图说明本专利技术的第1实施方式至第5实施方式的各涂敷膜除去装置。另外，在以下的详细的说明中，记载了许多的特定的细节部，以便于完全理解本专利技术的实施方式。但是，即使没有这样的特定的细节部，当然也能够实施1个以上的实施方式。除此以外，为了使附图更加简洁，将周知的构造及装置用略图表示。此外，在各图中，对于发挥同样或类似的功能的构成要素赋予相同的标号，省略重复的说明。<第1实施方式>以下，参照附图说明本专利技术的第1实施方式的涂敷膜除去装置101。(涂敷膜除去装置101的整体结构)图1是表示本专利技术的第1实施方式的涂敷膜除去装置101的概略结构图。此外，图2是用来说明本专利技术的第1实施方式的涂敷膜除去装置的动作的一例的立体图。另外，在图1中，将后述的第1至第4的各实施方式的涂敷膜除去装置101～104表示为“涂敷膜除去装置100”。此外，将后述的第1至第4的各实施方式的移动部31a～34a表示为“移动部3a”，将后述的第1至第4的各实施方式的移动部31b～34b表示为“移动部3b”。涂敷膜除去装置101是将作为基板上的涂敷膜中的一部分的涂敷膜除去部除去的装置。即，是将涂敷在基板上的不需要涂敷膜的涂敷的不需成膜区域上的涂敷膜除去部的涂敷膜除去的装置。在图1中，标号1表示涂敷膜除去对象的基板，标号2表示形成在基板1上的涂敷膜，标号11表示涂敷在基板1上的涂敷膜中的、基板1上的需要成膜区域。需要成膜区域11以外的涂敷膜部分是不需成膜区域e1～e7，该不需成膜区域e1～e7是形成有涂敷膜除去部的区域、即应当将涂敷膜有选择地除去的区域。涂敷膜除去装置101具备涂敷膜除去装置主体3、将涂敷膜除去对象的基板1吸附保持的台座10和处理间隙调整装置13(参照图2)。此外，涂敷膜除去装置主体3具备在图1中沿着台座10的左右方向移动而对基板1进行纵向(在图1中是Y轴方向)的涂敷膜除去的涂敷膜除去装置主体(纵)(以下也单称作“移动部”)31a、以及在图1中沿着台座10的前后方向移动而对基板1进行横向(在图1中是X轴方向)的涂敷膜除去的涂敷膜除去装置主体(横)(以下也单称作“移动部”)31b。移动部31a以跨过吸附保持在台座10上的基板1的方式，沿着台座10的Y轴方向配置，在该移动部31a上支承着处理间隙计测装置(以下也单称作“高度计测装置”)4。高度计测装置4测量基板1的表面与移动部31a的底面之间的距离(即间隙)h1。处理间隙调整装置(以下也单称作“高度调整装置”)13使移动部31a升降，以使高度计测装置4测量出的距离h1成为预先设定的设定值。该移动部31a例如通过在台座10的Y本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种涂敷膜除去装置，其特征在于，具备：涂敷膜除去装置主体，具有朝向基板上的涂敷膜中的处于预先设定的位置的涂敷膜除去部从吐出口吐出除去液的除去液供给机构、以及将吐出的上述除去液从回收口回收的除去液回收机构；以及处理间隙调整装置，调整上述基板表面和处于上述涂敷膜除去装置主体的上述吐出口与上述回收口之间的平坦的底面之间的距离。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.01.24 JP 2014-010942;2014.03.26 JP 2014-064041.一种涂敷膜除去装置，其特征在于，具备：涂敷膜除去装置主体，具有朝向基板上的涂敷膜中的处于预先设定的位置的涂敷膜除去部从吐出口吐出除去液的除去液供给机构、以及将吐出的上述除去液从回收口回收的除去液回收机构；以及处理间隙调整装置，调整上述基板表面和处于上述涂敷膜除去装置主体的上述吐出口与上述回收口之间的平坦的底面之间的距离。2.如权利要求1所述的涂敷膜除去装置，其特征在于，还具备处理间隙计测装置，该处理间隙计测装置计测上述基板表面与上述涂敷膜除去装置主体的底面之间的距离；上述处理间隙调整装置根据处理间隙计测装置的计测值来调整上述距离。3.如权利要求1或2所述的涂敷膜除去装置，其特征在于，在上述除去液供给机构的上述除去液的吐出口及上述除去液回收机构的上述除去液的回收口的外周侧，具备实施了疏水处理的疏水外廓部。4.如权利要求3所述的涂敷膜除去装置，其特征在于，上述疏水外廓部的水接触角是90度以上。5.如权利要求3或4所述的涂敷膜除去装置，其特征在于，还具备气体供给装置，该气体供给装置以将上述疏水外廓部包围的方式配置且具有朝向基板喷出气体的气体供给口；通过从上述气体供给口吐出的气体阻止上述除去液向上述涂敷膜除去部外流出。6.如权利要求5所述的涂敷膜除去装置，其特征在于，上述气体供给装置喷出氮气作为上述气体。7.一种涂敷膜除去装置，其特征在于，具备涂敷膜除去装置主体，该涂敷膜除去装置主体具有朝向基板上的涂敷膜中的处于预先设定的位置的涂敷膜除去部吐出除去液的除去液供给机构、以及将吐出的上述除去液回收的除去液回收机构，上述除去液供给机构具有用来吐出上述除去液的1处以上的吐出口，上述除去液回收机构具有用来回收上述除去液的1处以上的回收口。8.如权利要求7所述的涂敷膜除去装置，其特征在于，在上述涂敷膜除去装置主体上，设有上述回收口和两处上述吐出口，上述涂敷膜除去装置主体的平面形状是L字型形状。9.如权利要求7或8所述的涂敷膜除去装置，其特征在于，以第1距离和第2距离不同的方式，上述底面相对于上述基板表面在高度方向上具有倾斜地配置，上述第1距离是上述涂敷膜除去装置主体的上述吐出口侧的底面与上述基板表面之间的距离，上述第2距离是上述涂敷膜除去装置主体的上述回收口侧的底面与上述基板表面之间的距离。10.一种涂敷膜除去装置，其特征在于，具备涂敷膜除去装置主体，该涂敷膜除去装置主体具有朝向基板上的涂敷膜中的处于预先设定的位置的涂敷膜除去部从吐出口吐出除去液的除去液供给机构、以及将吐出的上述除去液从回收口回收的除去液回收机构，上述涂敷膜除去装置主体具有位于上述吐出口与上述回收口之间的平坦的底面，第1距离和第2距离不同，上述第1距离是上述基板表面与上述涂敷膜除去装置主体的上述吐出口侧的底面之间的距离，上述第2距离是上述基板表面与上述涂敷膜除去装置主体的上述回收口侧的底面之间的距离。11.如权利要求9或10所述的涂敷膜除去装置，其特征在于，上述第1距离比上述第2距离长。12.如权利要求9～11中任一项所述的涂敷膜除去装置，其特征在于，上述涂敷膜除去装置主体的底面相对于上述基板表面在高度方向上倾斜0.05度以上。13.如权利要求9～12中任一项所述的涂敷膜除去装置，其特征在于，上述第1距离是3mm以下。14.如权利要求9～13中任一项所述的涂敷膜除去装置，其特征在于，上述第1距离是2mm以下。15.如权利要求9～14中任一项所述的涂敷膜除去装置，其特征在于，具备调整上述第1距离和上述第2距离的处理间隙调整装置。16.如权利要求15所述的涂敷膜除去装置，其特征在于，具备处理间隙计测...

【专利技术属性】
技术研发人员：久保祐治，上林塁，福原智朗，伊藤裕猛，
申请(专利权)人：凸版印刷株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP