一种掩膜版、接近式曝光机、彩色滤光片的制备方法技术

本发明专利技术提供一种掩膜版、接近式曝光机、彩色滤光片的制备方法，属于显示装置的制备技术领域，其可解决现有的接近式曝光机曝光得到的图形尺寸大小不均一的问题。本发明专利技术的掩膜版中多个开口区的尺寸不同，以弥补曝光间距不同导致的曝光图形尺寸不均匀，使得各个开口区曝光的图形的尺寸大小相等。本发明专利技术的掩膜版适用于各种曝光机，尤其适用于接近式曝光机。本发明专利技术的彩色滤光片的制备方法曝光图形尺寸均匀，可以减少具体生产中彩色滤光片工艺调试的步骤。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于显示装置的制备
，具体涉及一种掩膜版、接近式曝光机、彩色滤光片的制备方法。
技术介绍
现有技术中制作彩色滤光片多采用接近式曝光机曝光的方式。专利技术人发现现有技术中至少存在如下问题：在使用接近式曝光机时，若如图1所示，将掩膜版10分为边缘区域11、中部区域12、核心区域13，则从图2中可以看出，由于掩膜版10自重导致其核心区域13向下弯曲，即在垂直方向上，会造成其核心区域13和边缘区域11与基板1之间的间距(或称曝光间距)大小不一。具体的，这三个区域与基板1之间的曝光间距分别为G1、G2、G3，其曝光间距由外向内逐渐减小，即G1＞G2＞G3。结合图3的对比图可知，由于接近式曝光机光学系统曝光时受衍射角等因素的影响，曝光得到的图形尺寸会随着曝光间距的减小而减小，边缘区域11、中部区域12、核心区域13曝光得到的图形尺寸分别为CD1、CD2、CD3，这样在曝光量等工艺参数都相同的条件下，由于曝光间距G1＞G2＞G3，造成曝光得到的图形尺寸大小不均一，即CD1＞CD2＞CD3，从而影响彩色滤光片的质量。在实际生产工艺中，如图4所示，上述差异表现为核心区域13得到的图形尺寸CD3较小，容易造成漏光，而边缘区域11得到的图形尺寸CD1较大，容易造成混色，大大增加了彩色滤光片工艺调试的难度。
技术实现思路
本专利技术针对现有的接近式曝光机曝光得到的图形尺寸大小不
均一的问题，提供一种掩膜版、接近式曝光机、彩色滤光片的制备方法。解决本专利技术技术问题所采用的技术方案是：一种掩膜版，包括多个开口区和多个遮光区，多个所述开口区的尺寸不同，以使各个开口区曝光的图形的尺寸大小相等。优选的是，所述掩膜版的多个开口区的尺寸由中心至边缘依次减小。优选的是，所述掩膜版由中心至边缘依次包括环绕中心的核心区域、中部区域、边缘区域；所述边缘区域的开口区的尺寸小于所述中部区域的开口区的尺寸。优选的是，所述核心区域的开口区的尺寸大于所述中部区域的开口区的尺寸。优选的是，所述边缘区域包括与中部区域相邻的第一边缘区以及环绕第一边缘区的第二边缘区；所述第二边缘区域的开口区的尺寸小于所述第一边缘区的开口区。优选的是，所述中部区域包括与核心区域相邻的第一中部区域以及环绕第一中部区域的第二中部区域，所述第二中部区域的开口区的尺寸小于所述第一中部区域的开口区的尺寸。本专利技术还提供一种接近式曝光机，包括上述的掩膜版。优选的是，所述曝光机还包括用于支撑基板的曝光机台，所述掩膜版与所述曝光机台之间的间距为100-200nm。优选的是，所述掩膜版由石英构成，所述掩膜版的厚度为5-20mm。优选的是，在竖直的方向上，所述边缘区域与曝光机台的间距大于所述中部区域与曝光机台的间距。优选的是，在竖直的方向上，所述核心区域与曝光机台的间距小于所述中部区域与曝光机台的间距。本专利技术还提供一种彩色滤光片的制备方法，包括在基板上形成彩膜的步骤，以及将彩膜图案化的步骤；所述将彩膜图案化的步骤采用上述的接近式曝光机曝光形成。本专利技术的掩膜版中多个开口区的尺寸不同，以弥补曝光间距不同导致的曝光图形尺寸不均匀，使得各个开口区曝光的图形的尺寸大小相等。本专利技术的掩膜版适用于各种曝光机，尤其适用于接近式曝光机。本专利技术的彩色滤光片的制备方法曝光图形尺寸均匀，可以减少具体生产中彩色滤光片工艺调试的步骤。附图说明图1为现有的掩膜版的结构示意图；图2为现有的掩膜版的曝光间距示意图；图3为现有的掩膜版曝光得到的图形尺寸对比示意图；图4为现有的掩膜版曝光得到的图形尺寸示意图；图5为本专利技术的实施例1和实施例2的掩膜版的结构示意图；图6为本专利技术的实施例2的掩膜版曝光得到的图形尺寸对比示意图；图7为本专利技术的实施例2的掩膜版曝光得到的图形尺寸示意图；图8为本专利技术的实施例3的接近式曝光机的结构示意图；图9为本专利技术的实施例4的彩色滤光片的制备流程图；其中，附图标记为：1、基板；10、掩膜版；11、边缘区域；12、中部区域；13、核心区域；2、曝光机台；3、曝光光源。具体实施方式为使本领域技术人员更好地理解本专利技术的技术方案，下面结合附图和具体实施方式对本专利技术作进一步详细描述。实施例1：本实施例提供一种掩膜版10，如图5所示，包括多个开口区和多个遮光区，多个开口区的尺寸不同，以使各个开口区曝光的图形的尺寸大小相等。本实施例的掩膜版10中多个开口区的尺寸不同，以弥补曝光
间距不同导致的曝光图形尺寸不均匀，使得各个开口区曝光的图形的尺寸大小相等。本专利技术的掩膜版10适用于各种曝光机，尤其适用于接近式曝光机。本专利技术的彩色滤光片的制备方法曝光图形尺寸均匀，可以减少具体生产中彩色滤光片工艺调试的步骤。实施例2：本实施例提供一种掩膜版10，如图5-7所示，包括多个开口区和多个遮光区，其中，多个开口区的尺寸由中心至边缘依次减小，以使各个开口区曝光的图形的尺寸大小相等。也就是说，由于掩膜版10自重导致其核心区域13向下弯曲，这样在垂直方向上，中心至边缘的多个开口区与基板1之间的间距逐渐增大，将由中心至边缘的多个开口区的尺寸设置为依次减小，可以弥补曝光间距不同导致的曝光图形尺寸不均匀，使得各个开口区曝光的图形的尺寸大小相等。优选的是，掩膜版10由中心至边缘依次包括环绕中心的核心区域13、中部区域12、边缘区域11；边缘区域11的开口区的尺寸小于中部区域12的开口区的尺寸。优选的是，核心区域13的开口区的尺寸大于中部区域12的开口区的尺寸。也就是说，如图5所示，将掩膜版10分为边缘区域11、中部区域12、核心区域13，则如图6所示，这三个区域与基板11之间的曝光间距分别为G1、G2、G3，其曝光间距由外向内逐渐减小，即G1＞G2＞G3，边缘区域11的开口区的尺寸小于中部区域12的开口区的尺寸，核心区域13的开口区的尺寸大于中部区域12的开口区的尺寸，最终如图7所示，使得曝光得到的图形尺寸大小相同，即CD1＝CD2＝CD3。优选的是，边缘区域11包括与中部区域12相邻的第一边缘区以及环绕第一边缘区的第二边缘区；第二边缘区域11的开口区的尺寸小于第一边缘区的开口区。优选的是，中部区域12包括与核心区域13相邻的第一中部
区域12以及环绕第一中部区域12的第二中部区域12，第二中部区域12的开口区的尺寸小于第一中部区域12的开口区的尺寸。也就是说，当掩膜版10较大(例如流水作业生产显示面板母板)时，单纯将掩膜版10由中心至边缘划分为三个区域进行设计不足以将其每个开头区的曝光得到的图形尺寸大小相同，此时，将整个掩膜版10由中心至边缘进行更进一步的区域划分，以弥补曝光间距不同导致的曝光图形尺寸不均匀，使得各个开口区曝光的图形的尺寸大小相等。实施例3：本实施例提供一种接近式曝光机，如图8所示，包括上述实施例的掩膜版10，还包括用于支撑基板的曝光机台2，曝光光源3，掩膜版10与曝光机台2之间的间距为100-200nm。优选的是，掩膜版10由石英构成，掩膜版10的厚度为5-20mm。其中，由于石英材质的掩膜版10自身重力作用，在竖直的方向上，边缘区域与曝光机台的间距大于中部区域与曝光机台的间距，核心区域与曝光机台的间距小于中部区域与曝光机台的间距。而掩膜版10边缘区域的开口区的尺寸小于中部区域的开口区的尺寸，核心区域本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种掩膜版，包括多个开口区和多个遮光区，其特征在于，多个所述开口区的尺寸不同，以使各个开口区曝光的图形的尺寸大小相等。

【技术特征摘要】
1.一种掩膜版，包括多个开口区和多个遮光区，其特征在于，多个所述开口区的尺寸不同，以使各个开口区曝光的图形的尺寸大小相等。2.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述掩膜版的多个开口区的尺寸由中心至边缘依次减小。3.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述掩膜版由中心至边缘依次包括环绕中心的核心区域、中部区域、边缘区域；所述边缘区域的开口区的尺寸小于所述中部区域的开口区的尺寸。4.根据权利要求3所述的掩膜版，其特征在于，所述核心区域的开口区的尺寸大于所述中部区域的开口区的尺寸。5.根据权利要求3所述的掩膜版，其特征在于，所述边缘区域包括与中部区域相邻的第一边缘区以及环绕第一边缘区的第二边缘区；所述第二边缘区域的开口区的尺寸小于所述第一边缘区的开口区。6.根据权利要求3所述的掩膜版，其特征在于，所述中部区域包括与核心区域相邻的第一中部区域以及环绕第一中部区域的第二中部区域，所述第二中部区域的开口区的尺寸小于所述第一中部...

【专利技术属性】
技术研发人员：王伟，白鑫，郝明迁，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司，
类型：发明
国别省市：北京;11