本发明专利技术的一个方式涉及光学玻璃，其为氧化物光学玻璃，其中，折射率nd在1.95～2.50的范围且阿贝数νd在18～40的范围，将Si4+、B3+、La3+、Ti4+、Nb5+、以及Gd3+、Y3+及Yb3+的至少一种作为必要成分，按阳离子％表示含有：1～30％的Si4+、1～50％的B3+(其中，Si4+及B3+合计为5～55％)、合计为11～70％的La3+、Gd3+、Y3+及Yb3+(其中，La3+为10～50％)、以及合计为23～70％的Ti4+、Nb5+、Ta5+及W6+(其中，Nb5+为1％以上、Ti4+超过22％)，Y3+的含量相对于Gd3+、Y3+及Yb3+的合计含量的阳离子比为0.60以下，W6+的含量相对于Ti4+、Nb5+、Ta5+及W6+的合计含量的阳离子比不足0.10。
【技术实现步骤摘要】
本申请是分案申请，其原案申请是申请号为PCT/JP2013/054733、申请日为2013年02月25日的PCT申请并且于2014年8月28日进入中国国家阶段，国家申请号为201380011271.0。关联申请的相互参照本申请对于2012年2月28日申请的日本特愿2012－041736号要求优先权，并在这里特别作为公开引用其全部记载。
本专利技术涉及具有高折射率低色散特性的光学玻璃、由所述光学玻璃构成的压制成形用玻璃料滴(glass gob)及光学元件坯件(blank)和其制造方法、以及光学元件和其制造方法。
技术介绍
由高折射率低色散玻璃构成的透镜由于通过与由超低色散玻璃构成的透镜组合能够校正色像差并且使光学系统紧凑化，所以作为构成摄像光学系统、投影仪等投射光学系统的光学元件占有非常重要的位置。在这里特别作为公开所引用的特开昭60－33229号公报的全部记载中，公开了虽然不是用于摄像光学系统、投射光学系统的光学元件材料，但折射率为1.90～2.10、阿贝数νd为22～35的高折射率低色散玻璃。可是，由于高折射率低色散玻璃为了使高折射率化成分的量增加而不得不将有助于玻璃稳定化的玻璃网络形成成分的量减少，所以玻璃稳定性降低，有时在制造过程中产生容易失透等的现象。另外，如果将高折射率化成分的量增加，则为得到均质的玻璃必须要提高熔融温度，也存在构成熔融容器的铂等材料熔入在玻璃熔液中，玻璃的着色变得显著的问题。另外，玻璃的热稳定性降低，玻璃变得容易失透。
技术实现思路
本专利技术的一个方式提供一种光学玻璃，其为高折射率低色散玻璃，并且具有优异的玻璃稳定性且着色少。本专利技术者们反复进行了仔细研究，结果发现通过调整玻璃组成或折射率和液相线温度满足规定的关系，从而得到如下光学玻璃，其为高折射率低色散玻璃并且稳定性高且减少了着色。本专利技术的一个方式涉及一种光学玻璃，其为氧化物玻璃，其中，折射率nd在1.95～2.50的范围且阿贝数νd在18～40的范围，将Si4+、B3+、La3+、Ti4+、Nb5+、以及Gd3+、Y3+及Yb3+的至少一种作为必要成分，按阳离子％表示含有：1～30％的Si4+、1～50％的B3+(其中，Si4+及B3+合计为5～55％)、合计为11～70％的La3+、Gd3+、Y3+及Yb3+(其中，La3+为10～50％)、以及合计为23～70％的Ti4+、Nb5+、Ta5+及W6+(其中，Nb5+为1％以上、Ti4+超过22％)，Y3+的含量相对于Gd3+、Y3+及Yb3+的合计含量的阳离子比[Y3+/(Gd3++Y3++Yb3+)]为0.60以下，W6+的含量相对于Ti4+、Nb5+、Ta5+及W6+的合计含量的阳离子比[W6+/(Ti4++Nb5++Ta5++W6+)]不足0.10。根据一个方式，在所述的光学玻璃中，Ti4+的含量相对于B3+的含量的阳离子比(Ti4+/B3+)为0.85以上。根据一个方式，所述光学玻璃含有1阳离子％以上的Zr4+。根据一个方式，所述光学玻璃中，液相线温度LT和折射率nd的关系满足下述(1)式。LT/(nd－1)≤1250℃···(1)根据一个方式，所述光学玻璃的Ge4+含量在0～6阳离子％的范围。根据一个方式，所述光学玻璃的Bi3+含量在0～10阳离子％的范围。根据一个方式，所述光学玻璃实质上不含Pb。本专利技术另一个方式涉及一种光学玻璃，其中，折射率nd在1.95～2.50的范围，阿贝数νd在18～40的范围，且液相线温度LT和折射率nd的关系满足上述(1)式。本专利技术另一个方式涉及一种光学玻璃，其为氧化物玻璃，其中，折射率nd在1.95～2.50的范围且阿贝数νd在18～40的范围，将Si4+、B3+、La3+、Ti4+、Nb5+、以及Gd3+、Y3+及Yb3+的至少一种作为必要成分，按阳离子％表示含有：1～30％的Si4+、1～50％的B3+(其中，Si4+及B3+合计为5～55％)、合计为11～70％的La3+、Gd3+、Y3+及Yb3+(其中，La3+为10～50％)、以及合计为23～70％的Ti4+、Nb5+、Ta5+及W6+(其中，Nb5+为1％以上、Ti4+超过22％)，Y3+的含量相对于Gd3+、Y3+及Yb3+的合计含量的阳离子比[Y3+/(Gd3++Y3++Yb3+)]为0.60以下。本专利技术的再一个方式涉及一种压制成形用玻璃料滴，其由所述方式的光学玻璃构成。本专利技术的再一个方式涉及一种光学元件坯件，其由所述方式的光学玻璃构成。本专利技术的再一个方式涉及一种光学元件，其由所述方式的光学玻璃构成。本专利技术的再一个方式涉及一种光学玻璃的制造方法，包含：通过加热将玻璃原料熔融，对得到的熔融玻璃进行成形，还包含：以得到所述方式的光学玻璃的方式对所述玻璃原料进行调和；及使用铂制或铂合金制的玻璃熔融容器进行所述熔融。本专利技术的再一个方式涉及一种光学元件坯件的制造方法，所述光学元件坯件通过研磨及抛光而被加工成光学元件，其中，包含：通过将所述方式的压制成形用玻璃料滴加热使其软化，进行压制成形。本专利技术的再一个方式涉及一种光学元件坯件的制造方法，所述光学元件坯件通过研磨及抛光而被加工成光学元件，其中，包含：通过将玻璃原料加热使其熔融，对得到的熔融玻璃进行压制成形，由此制作所述方式的光学元件坯件。本专利技术的再一个方式涉及一种光学元件的制造方法，其中，包含：对所述方式的光学元件坯件进行加工，由此得到光学元件。本专利技术的再一个方式涉及一种光学元件的制造方法，其中，包含：通过所述方式的方法制作光学元件坯件，对制作的光学元件坯件进行加工，由此得到光学元件。根据本专利技术的一个方式，可提供如下光学玻璃及其制造方法，所述光学玻璃为高折射率低色散玻璃，并且具有优异的玻璃稳定性且着色较少。进而，可提供由所述光学玻璃构成的压制成形用玻璃料滴、光学元件坯件及光学元件、以及光学元件坯件及光学元件的各制造方法。根据所述光学元件以及由所述压制成形用玻璃料滴、光学元件坯件制作的光学元件、例如透镜，通过与高折射率高色散玻璃制透镜进行组合，也可以提供紧凑的用于色像差校正的光学系统。进而，根据本专利技术的一个方式，也可以提供与具备所述光学特性并且具有同样的阿贝数νd的玻璃相比，相对部分色散Pg,F小且适于高阶的颜色校正的光学玻璃。利用这种性质，通过与由高折射率高色散光学玻璃构成的光学元件组合，也可以提供适合高阶的色像差校正的光学元件。具体实施方式[光学玻璃I]本专利技术的光学玻璃的一个方式(以下称作“光学玻璃I”。)为氧化物玻璃，折射率nd在1.95～2.50的范围且阿贝数νd在18～40的范围，将Si4+、B3+、La3+、Ti4+、Nb5+、以及Gd3+、Y3+及Yb3+的至少一种作为必要成分，按阳离子％表示含有：1～30％的Si4+、1～50％的B3+(其中，Si4+及B3+合计为5～55％)、合计为11～70％的La3+、Gd3+、Y3+及Yb3+(其中，La3+为10～50％)、以及合计为23～70％的Ti4+、Nb5+、Ta5+及W6+(其中，Nb5+为1％以上、Ti4+大于22％)，Y3+的含量相对于Gd3+、Y3+及Yb3+的合计含量的阳离子比[Y3+/(Gd3++Y3++Yb3+)]为0.6本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种光学玻璃，其为氧化物玻璃，其中，折射率nd在1.95～2.50的范围且阿贝数νd在18～40的范围，将Si4+、B3+、La3+、Ti4+、Nb5+、以及Gd3+、Y3+及Yb3+的至少一种作为必要成分，按阳离子％表示含有：1～30％的Si4+、1～50％的B3+(其中，Si4+及B3+合计为5～55％)、合计为11～70％的La3+、Gd3+、Y3+及Yb3+(其中，La3+为10～50％)、以及合计为23～70％的Ti4+、Nb5+、Ta5+及W6+(其中，Nb5+为1％以上、Ti4+超过22％)，Y3+的含量相对于Gd3+、Y3+及Yb3+的合计含量的阳离子比[Y3+/(Gd3++Y3++Yb3+)]为0.60以下，W6+的含量相对于Ti4+、Nb5+、Ta5+及W6+的合计含量的阳离子比[W6+/(Ti4++Nb5++Ta5++W6+)]不足0.10。
【技术特征摘要】
2012.02.28 JP 2012-0417361.一种光学玻璃，其为氧化物玻璃，其中，折射率nd在1.95～2.50的范围且阿贝数νd在18～40的范围，将Si4+、B3+、La3+、Ti4+、Nb5+、以及Gd3+、Y3+及Yb3+的至少一种作为必要成分，按阳离子％表示含有：1～30％的Si4+、1～50％的B3+(其中，Si4+及B3+合计为5～55％)、合计为11～70％的La3+、Gd3+、Y3+及Yb3+(其中，La3+为10～50％)、以及合计为23～70％的Ti4+、Nb5+、Ta5+及W6+(其中，Nb5+为1％以上、Ti4+超过22％)，Y3+的含量相对于Gd3+、Y3+及Yb3+的合计含量的阳离子比[Y3+/(Gd3++Y3++Yb3+)]为0.60以下，W6+的含量相对于Ti4+、Nb5+、Ta5+及W6+的合计含量的阳离子比[W6+/(Ti4++Nb5++Ta5++W6+)]不足0.10。2.根据权利要求1...
【专利技术属性】
技术研发人员：根岸智明，西川俊之，
申请(专利权)人：HOYA株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP
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