【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种半导体器件制造晶片注入控制系统，尤其涉及到离子注入机离子注入子系统对静电吸盘的保护和靶室传片子系统的对晶片的保护。
技术介绍
随着离子注入机的发展，自动化成了必然的趋势，离子注入机是一种在真空系统下，完成将离子注入到晶片的设备。该设备具备离子注入子系统和靶室传片子系统。由传片子系统将晶片送上靶台，靶台借助静电吸盘吸附晶片，将其送到注入子系统中进行离子注入。此流程有时会出现异常，那就是晶片可能没送上靶台。一旦出现此问题，将导致静电吸盘被注入，而损坏；如果晶片送上来靶台，但没有吸附住，会导致晶片送人注入系统时，晶片从靶台滑落，碎片而造成经济损失。为此，必须判别晶片是否在靶台上，而且，晶片已经完全吸附住。鉴于晶片是否存在在靶台上的重要性，一种离子注入机的靶台识别晶片是否存在的方法是离子注入机自动化控制传片和注片急需解决的问题。
技术实现思路
本专利技术时针对离子注入机的晶片安全和静电吸盘安全，直接影响生产的安全，而开发出一种离子注入机的靶台识别晶片是否存在的方法本专利技术通过以下技术方案实现：1.一种离子注入机的靶台识别晶片是否存在的方法，如图1所示，是通靶台本身自带的静电吸盘的电流值，来判别晶片是否存在，不再增加其它硬件设施来判别晶片的存在与否，降低了靶台的费用。2.一种离子注入机的靶台识别晶片是否存在的方法，通过静电吸盘的电流范围，结合传片系统的晶片送靶台的动作，就能判别出静电吸盘或电源是否损坏。这有效地排除了静电吸盘被离子注入的可能。3.一种离子注入机的靶台识别晶片是否存在的方法，在判别晶片存在前，主动保存电源给静电吸盘供电的状态，在判断完...
【技术保护点】
一种离子注入机的靶台识别晶片是否存在的方法，包括晶片(1)、静电吸盘(2)、供电导线(3)、产生电流的电源(4)、控制电源的控制线(5)、控制器(6)。
【技术特征摘要】
1.一种离子注入机的靶台识别晶片是否存在的方法，包括晶片(1)、静电吸盘(2)、供电导线(3)、产生电流的电源(4)、控制电源的控制线(5)、控制器(6)。2.一种离子注入机的靶台识别晶片是否存在的方法，其特征在于不再利用其它硬件设施，凭借靶台直立晶片时的静电吸盘来判别晶片是否在...
【专利技术属性】
技术研发人员：钟武，
申请(专利权)人：北京中科信电子装备有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11
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