柔性液晶显示器的底色均匀处理方法技术

本发明专利技术公开了一种柔性液晶显示器的底色均匀处理方法，该方法包括以下步骤：老化预处理；清洗；涂胶；曝光；显影和酸刻/脱膜。本发明专利技术增设了老化预处理步骤，在ito film投入生产前，必须进行老化处理，也就是通过高温长时间烘烤，使pet预收缩，从而降低后续加工过程中的变形，另外使氧化铟锡层进行再结晶，从而提高其物理化学性质的稳定性）。本方法的改进，有效避免ito膜在高温并冷却后出现剧烈收缩，产生形变等现象，而且ito图形干净干燥，表面不会产生严重或较严重程度褶皱的现象，因此达到底色均匀的效果。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种显示器
，尤其涉及一种柔性液晶显示器的底色均匀处理方法。
技术介绍
现有的lcd工厂生产柔性液晶显示器产品时，基本是按正常的工艺流程进行，并进行温度和工艺时间、压力等方面的微调，现有方法存在的问题是：1）Film在高温并冷却后，如pi高烤后，剧烈收缩，产生形变，为后续工序提高操作难度。2）Film在前工序生产过程中，经历图形段的前烘和后烘、定向工序的pi主固化、制盒工序的热压固化后，表面产生严重或较严重程度褶皱，影响外观，形成底色不均。综合上述描述，现有的处理方法已无法满足市场的需求。
技术实现思路
针对上述技术中存在的不足之处，本专利技术提供一种柔性液晶显示器的底色均匀处理方法，能够避免film在生产过程中形成永久性表面褶皱的问题。为实现上述目的，本专利技术提供一种柔性液晶显示器的底色均匀处理方法，包括以下步骤：步骤1，老化预处理：对ito膜上的聚对苯二甲酸乙二酯进行高温长时间烘烤，并对氧化铟锡层进行再结晶，使得ito膜具有稳定的化学性质和物理性质；步骤2，清洗：对玻璃表面进行清洗；步骤3，涂胶：采用同向辊涂法对ito膜进行加工薄膜；步骤4，曝光：使用准平行光曝光设备进行掩膜曝光；在曝光过程中，正性光阻剂在接收分布在365纳米和420纳米附近紫外光时，在空气中水分子辅助下会发生光化学反应，接收紫外线的光阻膜会分解形成易溶解于常温弱碱的羧基（cooh），而被掩膜版药面图形遮盖的部分，则保持光阻膜本身的耐常温弱碱的物理化学性质；步骤5，显影：耐常温弱碱在曝光过程中与紫外线有接触的光阻膜溶解，形成与曝光工序掩膜版图形一致的光阻膜图形，进行烘烤烤干并增强光阻膜和ito膜的结合力；步骤6，酸刻/脱膜：将无光阻膜保护的ito层酸蚀掉，将ito图形上的光阻膜去除，并通将ito图形上的钠离子去除掉，形成干净干燥的ito图形。其中，所述步骤2中的清洗步骤具体为：首先通过毛刷、超声、高压喷淋的物理方法，或表面活性剂的化学方法，对玻璃表面进行清洗处理；然后通过高速风机驱动风刀吹干或远红外电磁辐射加热方法对玻璃表面进行干燥处理；最后通过高效过滤过的洁净空气进行风冷处理。其中，所述步骤3中的ito膜的加工薄膜的成膜厚度一般在1.5-2.5微米之间。其中，所述步骤4中曝光的精度可以达到10微米或10微米以下。其中，所述步骤6中无光阻膜保护的ito层酸蚀掉的方法为：通过高温强酸中的盐酸和低比例硝酸的混合液将无光阻膜保护的ito层酸蚀掉。其中，所述步骤6中钠离子去除掉的方式为通过漂洗、风干、烘干工序，将ito图形上的钠离子去除掉。本专利技术的有益效果是：与现有技术相比，本专利技术提供的柔性液晶显示器的底色均匀处理方法，本方法相对现有工艺，增设了老化预处理步骤，该步骤对ito膜上的聚对苯二甲酸乙二酯进行高温长时间烘烤，并对氧化铟锡层进行再结晶，使得ito膜具有稳定的化学性质和物理性质；因为苯二甲酸乙二酯pet本身在经过高温工序后发生收缩，而pet上的ito膜，也就是氧化铟锡层物理化学性质不稳定，需要经过高温进行结晶，以达到稳定的物理和化学性质，所以在ito film投入生产前，必须进行老化处理，也就是通过高温长时间烘烤，使pet预收缩，从而降低后续加工过程中的变形，另外使氧化铟锡层进行再结晶，从而提高其物理化学性质的稳定性）。本方法的改进，有效避免ito膜在高温并冷却后出现剧烈收缩，产生形变等现象，而且ito图形干净干燥，表面不会产生严重或较严重程度褶皱的现象，因此达到底色均匀的效果。附图说明图1为本专利技术的柔性液晶显示器的底色均匀处理方法的步骤流程图。具体实施方式为了更清楚地表述本专利技术，下面结合附图对本专利技术作进一步地描述。请进一步参阅图1，本专利技术提供一种柔性液晶显示器的底色均匀处理方法，包括以下步骤：步骤S1，老化预处理：对ito膜上的聚对苯二甲酸乙二酯进行高温长时间烘烤，并对氧化铟锡层进行再结晶，使得ito膜具有稳定的化学性质和物理性质；因为pet本身在经过高温工序后发生收缩，而pet上的ito膜，也就是氧化铟锡层物理化学性质不稳定，需要经过高温进行结晶，以达到稳定的物理和化学性质，所以在ito film投入生产前，必须进行老化处理，也就是通过高温长时间烘烤，使pet预收缩，从而降低后续加工过程中的变形，另外使氧化铟锡层进行再结晶，从而提高其物理化学性质的稳定性；步骤S2，清洗：对玻璃表面进行清洗；步骤S2中的清洗步骤具体为：首先通过毛刷、超声、高压喷淋的物理方法，或表面活性剂的化学方法，对玻璃表面进行清洗处理；然后通过高速风机驱动风刀吹干或远红外电磁辐射加热方法对玻璃表面进行干燥处理；最后通过高效过滤过的洁净空气进行风冷处理；步骤S3，涂胶：采用同向辊涂法对ito膜进行加工薄膜；此方法比较适合通过低粘度涂布液加工薄膜；该步骤中的ito膜的加工薄膜的成膜厚度一般在1.5-2.5微米之间；步骤S4，曝光：使用准平行光曝光设备进行掩膜曝光；在曝光过程中，正性光阻剂在接收分布在365纳米和420纳米附近紫外光时，在空气中水分子辅助下会发生光化学反应，接收紫外线的光阻膜会分解形成易溶解于常温弱碱的羧基（cooh），而被掩膜版药面图形遮盖的部分，则保持光阻膜本身的耐常温弱碱的物理化学性质；曝光的精度可以达到10微米或10微米以下；且该工序中空气需要保持一定的湿度；步骤S5，显影：耐常温弱碱在曝光过程中与紫外线有接触的光阻膜溶解，形成与曝光工序掩膜版图形一致的光阻膜图形，进行烘烤烤干并增强光阻膜和ito膜的结合力；步骤S6，酸刻/脱膜：将无光阻膜保护的ito层酸蚀掉，将ito图形上的光阻膜去除，并通将ito图形上的钠离子去除掉，形成干净干燥的ito图形；该步骤中无光阻膜保护的ito层酸蚀掉的方法为：通过高温强酸中的盐酸和低比例硝酸的混合液将无光阻膜保护的ito层酸蚀掉；另外，该步骤中钠离子去除掉的方式为通过漂洗、风干、烘干工序，将ito图形上的钠离子去除掉。相较于现有技术的情况，本专利技术提供的柔性液晶显示器的底色均匀处理方法，本方法相对现有工艺，增设了老化预处理步骤，该步骤对ito膜上的聚对苯二甲酸乙二酯进行高温长时间烘烤，并对氧化铟锡层进行再结晶，使得ito膜具有稳定的化学性质和物理性质；因为苯二甲酸乙二酯pet本身在经过高温工序后发生收缩，而pet上的ito膜，也就是氧化铟锡层物理化学性质不稳定，需要经过高温进行结晶，以达到稳定的物理和化学性质，所以在ito film投入生产前，必须进行老化处理，也就是通过高温长时间烘烤，使pet预收缩，从而降低后续加工过程中的变形，另外使氧化铟锡层进行再结晶，从而提高其物理化学性质的稳定性）。本方法的改进，有效避免ito膜在高温并冷却后出现剧烈收缩，产生形变等现象，而且ito图形干净干燥，表面不会产生严重或较严重程度褶皱的现象，因此达到底色均匀的效果。本专利技术还具有如下优势：1）与现有技术相比，本专利技术提供的老化预处理技术，可以在LCD的前工程开始前阶段使用，在不影响正常工艺流程的情况下，在生产前预先老化ito film，避免未经过老化的ito film即为导电薄膜在制造的高温过程中出现剧烈的收缩和褶皱的问题。2）本项目具有在生产前实施（不影响前工序生产秩序）、使用方便、简单通用、节省材料本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种柔性液晶显示器的底色均匀处理方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤1，老化预处理：对ito膜上的聚对苯二甲酸乙二酯进行高温长时间烘烤，并对氧化铟锡层进行再结晶，使得ito膜具有稳定的化学性质和物理性质；步骤2，清洗：对玻璃表面进行清洗；步骤3，涂胶：采用同向辊涂法对ito膜进行加工薄膜；步骤4，曝光：使用准平行光曝光设备进行掩膜曝光；在曝光过程中，正性光阻剂在接收分布在365纳米和420纳米附近紫外光时，在空气中水分子辅助下会发生光化学反应，接收紫外线的光阻膜会分解形成易溶解于常温弱碱的羧基（cooh）；而被掩膜版药面图形遮盖的部分，则保持光阻膜本身的耐常温弱碱的物理化学性质；步骤5，显影：耐常温弱碱在曝光过程中与紫外线有接触的光阻膜溶解，形成与曝光工序掩膜版图形一致的光阻膜图形，进行烘烤烤干并增强光阻膜和ito膜的结合力；步骤6，酸刻/脱膜：将无光阻膜保护的ito层酸蚀掉，将ito图形上的光阻膜去除，并通将ito图形上的钠离子去除掉，形成干净干燥的ito图形。

【技术特征摘要】
1.一种柔性液晶显示器的底色均匀处理方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤1，老化预处理：对ito膜上的聚对苯二甲酸乙二酯进行高温长时间烘烤，并对氧化铟锡层进行再结晶，使得ito膜具有稳定的化学性质和物理性质；步骤2，清洗：对玻璃表面进行清洗；步骤3，涂胶：采用同向辊涂法对ito膜进行加工薄膜；步骤4，曝光：使用准平行光曝光设备进行掩膜曝光；在曝光过程中，正性光阻剂在接收分布在365纳米和420纳米附近紫外光时，在空气中水分子辅助下会发生光化学反应，接收紫外线的光阻膜会分解形成易溶解于常温弱碱的羧基（cooh）；而被掩膜版药面图形遮盖的部分，则保持光阻膜本身的耐常温弱碱的物理化学性质；步骤5，显影：耐常温弱碱在曝光过程中与紫外线有接触的光阻膜溶解，形成与曝光工序掩膜版图形一致的光阻膜图形，进行烘烤烤干并增强光阻膜和ito膜的结合力；步骤6，酸刻/脱膜：将无光阻膜保护的ito层酸蚀掉，将ito图形上的光阻膜去除，并通将ito图形上的钠离子去除掉，形成干净干燥的ito图形。2.根据权利要求1所...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨锦喜，曾文波，杨凌，钟建坤，
申请(专利权)人：龙川耀宇科技有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44