基板处理装置制造方法及图纸
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及对基板进行处理的基板处理装置。
技术介绍
一直以来，在半导体基板(以下仅称为“基板”。)的制造工序中，利用向旋转的基板供给处理液来进行各种的处理的基板处理装置。在这样的基板处理装置中，用于接受借助离心力从基板飞散的处理液等的杯部设置在基板的周围。日本特开2010-10554号公报(文献1)涉及一种向基板依次供给多种处理液来进行处理的旋转处理装置。在该旋转处理装置中，在保持基板的旋转工作台的周围设置杯体。在旋转工作台和杯体之间设置处理液接受体，通过使处理液接受体升降，来切换与处理液接受体的侧面下部连接的流路。在该旋转处理装置中，根据由处理液接受体接受的处理液的种类来切换流路，分别回收多种处理液。另外，杯体内的气体经由在杯体的侧面设置的共用的排气管排出。在日本特开2011-204933号公报(文献2)的基板处理装置中，在处理室的内部，在旋转卡盘的周围设置有杯。在杯的底部设置有用于将杯内的气体与从基板甩掉的纯水等的处理液一起排出的排气液槽。排气以及排液从排气液槽被向处理室的外部的气液分离器引导，并且被分离的排气被向排气切换器引导。排气切换器将排气的流通目的地在3条彼此独立的排气管之间切换。在日本特开2002-177856号公报(文献3)的基板处理装置的杯中，在基板的边缘的外侧设置有圆环状的第一排液槽，在第一排液槽的周围设置有圆环状的第二排液槽。在第一排液槽的底部设置有排液口和排气口，排气口的上方由在周向上倾斜的裙部覆盖。在第二排液槽的底部也设置有排液口和排气口，排气口的上方由在周向上倾斜的裙部覆盖。在日本特开2013-207265号公报(文献4)...
【技术保护点】
一种基板处理装置，对基板进行处理，其特征在于，基板保持部，将基板保持为水平状态，处理液供给部，向所述基板上供给处理液，杯部，设置有杯排气口，接受来自所述基板的处理液，腔室，在内部容纳有所述基板保持部以及所述杯部，杯旋转机构，使所述杯部以朝向上下方向的中心轴为中心进行旋转，控制部，通过所述杯旋转机构使所述杯部旋转，来决定所述杯排气口在以所述中心轴为中心的周向上的位置；在所述腔室设置有在所述周向上排列的第一腔室排气口以及第二腔室排气口，通过所述控制部控制所述杯旋转机构，来有选择地使所述杯排气口与所述第一腔室排气口或所述第二腔室排气口重叠，在所述杯排气口与所述第一腔室排气口重叠的状态下，通过与所述第一腔室排气口连接的第一排气机构，将所述杯部内的气体经由所述杯排气口以及所述第一腔室排气口向所述腔室外排出，在所述杯排气口与所述第二腔室排气口重叠的状态下，通过与所述第二腔室排气口连接的第二排气机构，将所述杯部内的气体经由所述杯排气口以及所述第二腔室排气口向所述腔室外排出。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.01.16 JP 2014-006105;2014.01.16 JP 2014-006101.一种基板处理装置，对基板进行处理，其特征在于，基板保持部，将基板保持为水平状态，处理液供给部，向所述基板上供给处理液，杯部，设置有杯排气口，接受来自所述基板的处理液，腔室，在内部容纳有所述基板保持部以及所述杯部，杯旋转机构，使所述杯部以朝向上下方向的中心轴为中心进行旋转，控制部，通过所述杯旋转机构使所述杯部旋转，来决定所述杯排气口在以所述中心轴为中心的周向上的位置；在所述腔室设置有在所述周向上排列的第一腔室排气口以及第二腔室排气口，通过所述控制部控制所述杯旋转机构，来有选择地使所述杯排气口与所述第一腔室排气口或所述第二腔室排气口重叠，在所述杯排气口与所述第一腔室排气口重叠的状态下，通过与所述第一腔室排气口连接的第一排气机构，将所述杯部内的气体经由所述杯排气口以及所述第一腔室排气口向所述腔室外排出，在所述杯排气口与所述第二腔室排气口重叠的状态下，通过与所述第二腔室排气口连接的第二排气机构，将所述杯部内的气体经由所述杯排气口以及所述第二腔室排气口向所述腔室外排出。2.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，所述杯排气口设置在所述杯部的底部，所述第一腔室排气口以及所述第二腔室排气口设置在所述腔室的底部。3.如权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，在所述杯排气口位于在所述周向上从所述第一腔室排气口以及所述第二腔室排气口离开的位置的状态下，使所述杯排气口的下端接近所述腔室的所述底部，或使所述第一腔室排气口的上端以及所述第二腔室排气口的上端接近所述杯部的所述底部，从而停止经由所述杯排气口吸引所述杯部内的气体。4.如权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，在所述杯部的所述底部设置有杯排液口，在所述腔室的所述底部设置有在所述周向上排列的第一腔室排液口以及第二腔室排液口，在所述杯排气口与所述第一腔室排气口重叠的状态下，所述杯排液口与所述第一腔室排液口重叠，将所述杯部内的处理液向与所述第一腔室排液口连接的所述腔室外的第一排液部排出，在所述杯排气口与所述第二腔室排气口重叠的状态下，所述杯排液口与所述第二腔室排液口重叠，将所述杯部内的处理液向与所述第二腔室排液口连接的所述腔室外的第二排液部排出，所述第一腔室排液口的所述周向的长度长于所述杯排液口的所述周向的长度，从所述杯排液口与所述第一腔室排液口重叠并且所述杯排气口与所述第一腔室排气口重叠的状态，通过维持所述杯排液口和所述第一腔室排液口的重复并使所述杯部旋转，来使所述杯排气口向从所述第一腔室排气口偏移的位置移动，所述杯排气口设置在底部突出部内，该底部突出部设置在所述杯部的所述底部并向下方突出，所述底部突出部的下端面与所述上下方向垂直，在所述杯排气口位于从所述第一腔室排气口偏移的所述位置的状态下，所述第一腔室排气口的上端接近所述底部突出部的所述下端面，从而停止经由所述杯排气口吸引所述杯部内的气体。5.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，所述杯部呈以所述中心轴为中心的环状，所述杯部具有：圆环状的底部，圆筒状的内侧壁部，从所述底部的内周部向上方扩展，圆筒状的外侧壁部，从所述底部的外周部向上方扩展；在所述内侧壁部或所述外侧壁部上设置有所述杯排气口，在与所述杯部的所述内侧壁部或所述外侧壁部相向的所述腔室的侧壁部上，设置有所述第一腔室排气口以及所述第二腔室排气口。6.如权利要求5所述的基板处理装置，其特征在于，在所述杯排气口位于在所述周向上从所述第一腔室排气口以及所述第二腔室排气口离开的位置的状态下，所述杯排气口接近所述腔室的所述侧壁部，从而停止经由所述杯排气口吸引所述杯部内的气体。7.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，在所述杯部的所述底部设置有杯排液口，在所述腔室的所述底部设置有在所述周向上排列的第一腔室排液口以及第二腔室排液口，在所述杯排气口与所述第一腔室排气口重叠的状态下，所述杯排液口与所述第一腔室排液口重叠，将所述杯部内的处理液向与所述第一腔室排液口连接的所述腔室外的第一排液部排出，在所述杯排气口与所述第二腔室排气口重叠的状态下，所述杯排液口与所述第二腔室排液口重叠，将所述杯部内的处理液向与所述第二腔室排液口连接的所述腔室外的第二排液部排出。8.如权利要求7所述的基板处理装置，其特征在于，在所述腔室的所述底部设置有另一个第一腔室排液口，该另一个第一腔室排液口与所述第一腔室排液口以及所述第二腔室排液口一起在所述周向上排列，并与所述第一排液部连接，在所述杯排液口与所述另一个第一腔室排液口重叠的状态下，将所述杯部内的处理液向所述第一排液部排出，所述杯排气口位于在所述周向上从所述第一腔室排气口以及所述第二腔室排气口离开的位置。9.如权利要求7所述的基板处理装置，其特征在于，所述第一腔室排液口的所述周向的长度长于所述杯排液口的所述周向的长度，从所述杯排液口与所述第一腔室排液口重叠并且所述杯排气口与所述第一腔室排气口重叠的状态，通过维持所述杯排液口和所述第一腔室排液口的重复并且使所述杯部旋转，所述杯排气口向从所述第一腔室排气口偏移的位置移动。10.如权利要求7所述的基板处理装置，其特征在于，所述杯部呈以所述中心轴为中心的环状，所述杯部具有：圆环状的所述底部，圆筒状的内侧壁部，从所述底部的内周部向上方扩展，圆筒状的外侧壁部，从从所述底部的外周部向上方扩展，圆筒状的间隔壁，在所述内侧壁部和所述外侧壁部之间从所述底部向上方扩展；来自所述处理液供给部的处理液流入所述杯部的所述外侧壁部和所述间隔壁之间的空间，所述杯排液口比所述间隔壁更靠以所述中心轴为中心的径向外侧，所述杯排气口比所述间隔壁更靠所述径向内侧。11.如权利要求10所述的基板处理装置，其特征在于，还具有升降机构，该升降机构使所述基板保持部相对于所述杯部在所述上下方向上移动，所述杯部还具有筒状的另一个间隔壁，该另一个间隔壁在所述间隔壁和所述外侧壁部之间从所述底部向上方扩展，所述杯排液口比所述另一个间隔壁更靠所述径向内侧，在所述杯部的所述底部设置有比所述另一个间隔壁更靠所述径向外侧的其他杯排液口，在所述腔室的所述底部设置有其他腔室排液口，该其他腔室排液口比所述第一腔室排液口以及所述第二腔室排液口更靠所述径向外侧，并与其他排液部连接，通过所述升降机构，使所述基板与所述基板保持部一起在相对于所述杯部的第一位置和所述第一位置的上方的第二位置之间移动，在所述基板位于所述第一位置的状态下，从所述处理液供给部供给到所述基板上的处理液流入所述杯部的所述另一个间隔壁和所述间隔壁之间的空间，在所述基板位于所述第二位置的状态下，从...
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