一种高抬式足浴一体机制造技术

本实用新型专利技术涉及一种高抬式足浴一体机，供足浴者进行足浴；所述高抬式足浴一体机设有足浴仓，在所述足浴仓的前侧壁设有足入口，在所述足入口处设有用于封闭所述足入口的活动仓门，在所述活动仓门与足入口之间设有密封口；本实用新型专利技术的有益效果是：使足部和小腿从侧面进入足浴仓，将人体小腿和双脚抬高，让双脚不再承受身体重量，有效地促进人体下肢的血液循环，减轻心脏负荷，充分缓解小腿和双足的疲劳和僵硬，增加足浴效果和舒适感。

【技术实现步骤摘要】

本技术属于足浴设备，尤其涉及一种高抬式足浴一体机。
技术介绍
传统的足浴设备是将足浴者的角放入足浴盆或足浴池内，通常是小腿在垂直、脚掌朝向下方并踏在足浴池的底部。这样的位置使足底仍然承受部分人体重量，不利于下肢的的血液循环，也缺少舒适感。
技术实现思路
本技术的目的是提出一种高抬式足浴一体机的技术方案，使足部脱离于足浴仓的接触，获取更好的足浴效果。为了实现上述目的，本技术的技术方案是：一种高抬式足浴一体机，供足浴者进行足浴；所述高抬式足浴一体机设有足浴仓，在所述足浴仓的前侧壁设有足入口，在所述足入口处设有用于封闭所述足入口的活动仓门，在所述活动仓门与足入口之间设有密封口。更进一步，所述足入口设有的进口方向与水平面之间设有足入倾角，所述足入倾角由所述足浴仓的外部至足浴仓的内部向下倾斜。更进一步，所述足入倾角的角度为15°至25°。更进一步，所述密封口包括上密封环和下密封环，所述上密封环安装在所述活动仓门的下沿，所述下密封环安装在所述足入口的下部，所述活动仓门关闭时所述上密封环和下密封环对接封闭足浴者的小腿与足入口之间的间隙。更进一步，所述上密封环和下密封环是双层密封环，所述双层密封环包括外密封环和内密封环，在所述外密封环和内密封环之间设有溢水槽；所述上密封环的外密封环设置在所述活动仓门的外侧，所述上密封环的内密封环设置在所述活动仓门的内侧；所述下密封环的外密封环设置在所述足入口的外侧，所述下密封环的内密封环设置在所述足入口的内侧；在所述下密封环的溢水槽的底部设有溢水口，所述溢水口连通一个设置在所述足入口下方的溢水仓。更进一步，所述外密封环和内密封环是设有膨胀气囊的密封环。更进一步，在所述溢水仓与所述足浴仓之间设有回流管道，在所述回流管道上设有将所述溢水仓内的水泵入所述足浴仓的水泵。更进一步，在所述足浴仓内设有洗脚毛刷、冲洗喷口和热风口。更进一步，在所述高抬式足浴一体机还设有设备仓、储水仓和废水仓。更进一步，所述设备仓设置在所述足浴仓的后方，所述储水仓设置在所述足浴仓的上方，所述废水仓设置在所述足浴仓的下方。本技术的有益效果是：使足部和小腿从侧面进入足浴仓，将人体小腿和双脚抬高，让双脚不再承受身体重量，有效地促进人体下肢的血液循环，减轻心脏负荷，充分缓解小腿和双足的疲劳和僵硬，增加足浴效果和舒适感。下面结合附图和实施例对本技术作一详细描述。附图说明图1是本技术结构图；图2是本技术正面视图，省略了活动仓门；图3是本技术密封口结构图；图4是本技术脚和小腿进入足浴仓的示意图；图5是本技术泡脚过程示意图；图6是本技术刷洗和冲洗过程示意图；图7是本技术烘干过程示意图。具体实施方式如图1、图2、图3，一种高抬式足浴一体机，供足浴者进行足浴；所述高抬式足浴一体机设有足浴仓10，在所述足浴仓的前侧壁设有足入口11，在所述足入口处设有用于封闭所述足入口的活动仓门20，在所述活动仓门与足入口之间设有密封口。所述足入口设有的进口方向与水平面之间设有足入倾角λ，所述足入倾角由所述足浴仓的外部至足浴仓的内部向下倾斜。所述足入倾角的角度为15°至25°。所述密封口包括上密封环30和下密封环40，所述上密封环安装在所述活动仓门的下沿，所述下密封环安装在所述足入口的下部，所述活动仓门关闭时所述上密封环和下密封环对接封闭足浴者的小腿与足入口之间的间隙。所述上密封环和下密封环是双层密封环，所述双层密封环包括外密封环和内密封环，在所述外密封环和内密封环之间设有溢水槽（图中32、42）；所述上密封环的外密封环33设置在所述活动仓门的外侧，所述上密封环的内密封环34设置在所述活动仓门的内侧；所述下密封环的外密封环43设置在所述足入口的外侧，所述下密封环的内密封环44设置在所述足入口的内侧；在所述下密封环的溢水槽的底部设有溢水口45，所述溢水口连通一个设置在所述足入口下方的溢水仓50。所述外密封环和内密封环可以是橡胶、密封海绵结构的密封环，所述外密封环和内密封环也可以是设有膨胀气囊的密封环（图中31、41）。在所述溢水仓与所述足浴仓之间设有回流管道51，在所述回流管道上设有将所述溢水仓内的水泵入所述足浴仓的水泵52。实施例一：如图1、图2、图3，一种高抬式足浴一体机，供足浴者进行足浴；所述高抬式足浴一体机设有足浴仓10。在足浴仓内设有洗脚毛刷12、冲洗喷口13和热风口14。在高抬式足浴一体机还设有溢水仓50、设备仓61、储水仓62和废水仓63。设备仓设置在足浴仓的后方，储水仓设置在足浴仓的上方，废水仓设置在足浴仓的下方。足浴仓、溢水仓、设备仓、储水仓设置在一个多面球体的结构内，废水仓设置在所述多面球体结构的下方。在废水仓的底部设有支脚65，如有需要也可以在废水仓的底部设置滚轮。在足浴仓的前侧壁设有足入口11，足入口设有的进口方向与水平面之间设有足入倾角λ，所述足入倾角由所述足浴仓的外部至足浴仓的内部向下倾斜。本实施例中，足入倾角的角度λ=20°。在足入口处设有用于封闭足入口的活动仓门20，在活动仓门与足入口之间设有密封口。密封口包括上密封环30和下密封环40，上密封环安装在所述活动仓门的下沿，下密封环安装在足入口的下部。上密封环和下密封环是双层密封环。上密封环包括外密封环33和内密封环34；上密封环的外密封环设置在所述活动仓门的外侧，上密封环的内密封环设置在活动仓门的内侧；上密封环的外密封环和内密封环之间设有溢水槽32。下密封环包括外密封环43和内密封环44；下密封环的外密封环设置在所述足入口的外侧，下密封环的内密封环设置在足入口的内侧；下密封环的外密封环和内密封环之间设有溢水槽42。在下密封环的溢水槽的底部设有溢水口45，所述溢水口连通设置在足入口下方的溢水仓。上密封环和下密封环是半圆环；上密封环是设有膨胀气囊31的密封环，下密封环是设有膨胀气囊41的密封环。活动仓门关闭时上密封环和下密封环对接封闭足浴者的小腿与足入口之间的间隙。在溢水仓与足浴仓之间设有回流管道51，回流管道连接足浴仓中的冲洗喷口，在回流管道上设有电磁阀53，在设备仓中设有将溢水仓内的水泵入所述足浴仓的水泵52。回流管道通过水泵将溢水仓内的水送回足浴仓。在储水仓与足浴仓之间设有回水管道16，回水管道上设有回水进口电磁阀15a和回水出口电磁阀15b。回水管道通过水泵将水从足浴仓送入储水仓。在连接水泵和冲洗喷口的管道上设有加热器17。在储水仓与足浴仓之间设有补水管道18，在补水管道上设有电磁阀19。补水管道将水从储水仓输入足浴仓。在足浴仓和废水仓之间设有泄水阀门66，泄水阀门打开时足浴仓中的水流入废水仓。在设备仓内还设有热风机60，热风机的进风口通过管道连接设备仓的外部，热风机的出风口通过管道连接热风口。在设备仓内还设有洗脚毛刷的驱动装置，在洗脚毛刷上方设有清洗剂喷口71，清洗剂喷口连接一只清洗剂罐70。本实施的高抬式足浴一体机的通常使用方法是：活动仓门打开，足浴者将双脚80从足入口伸入足浴仓，小腿部搭在足入口处。如需使用药液，可事先将药业从足入口加热足浴仓。如图4所示。关闭活动仓门，活动仓门的上密封环和足浴口处的下密封环对接闭合，向上密封环和下密封环的膨胀气囊充气，使上密封环和下密封环封闭足浴者的小腿与足入口之间的间隙。然本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种高抬式足浴一体机，供足浴者进行足浴；其特征在于，所述高抬式足浴一体机设有足浴仓，在所述足浴仓的前侧壁设有足入口，在所述足入口处设有用于封闭所述足入口的活动仓门，在所述活动仓门与足入口之间设有密封口。

【技术特征摘要】
1.一种高抬式足浴一体机，供足浴者进行足浴；其特征在于，所述高抬式足浴一体机设有足浴仓，在所述足浴仓的前侧壁设有足入口，在所述足入口处设有用于封闭所述足入口的活动仓门，在所述活动仓门与足入口之间设有密封口。2.根据权利要求1所述的一种高抬式足浴一体机，其特征在于，所述足入口设有的进口方向与水平面之间设有足入倾角，所述足入倾角由所述足浴仓的外部至足浴仓的内部向下倾斜。3.根据权利要求2所述的一种高抬式足浴一体机，其特征在于，所述足入倾角的角度为15°至25°。4.根据权利要求1所述的一种高抬式足浴一体机，其特征在于，所述密封口包括上密封环和下密封环，所述上密封环安装在所述活动仓门的下沿，所述下密封环安装在所述足入口的下部，所述活动仓门关闭时所述上密封环和下密封环对接封闭足浴者的小腿与足入口之间的间隙。5.根据权利要求4所述的一种高抬式足浴一体机，其特征在于，所述上密封环和下密封环是双层密封环，所述双层密封环包括外密封环和内密封环，在所述外密封环和内密封环之间设有溢水槽；所述上密封环的外密...

【专利技术属性】
技术研发人员：宋力军，邱小矿，
申请(专利权)人：宋力军，邱小矿，
类型：新型
国别省市：北京;11