磁共振成像装置的梯度线圈，梯度线圈(10)具有一个环形端面(12)，梯度线圈的环形端面上沿其周向排布有用于安装匀场条组件的数个插接孔(122)，各插接孔沿梯度线圈的轴向延伸，且插接孔在靠梯度线圈的径向外侧的内表面具有一个沿梯度线圈周向内缩的抵靠面(124)，抵靠面上具有一个沿梯度线圈的轴向延伸的安置槽(126)。上述磁共振成像装置的梯度线圈可在保护匀场条情况下，在不需要重复降场的情况下实现被动匀场操作。
【技术实现步骤摘要】
本技术涉及一种磁共振成像装置的匀场设备，尤其涉及一种磁共振成像装置的梯度线圈，本技术还提供了一种具有上述梯度线圈的磁共振成像装置。
技术介绍
为提高磁共振成像质量，需要调配磁共振成像装置的磁场均匀性。现有磁共振成像装置的梯度线圈中设置有数个匀场条，各个匀场条具有能够置放匀场片的单元格，通过调整各个匀场条承载的匀场片的数量就可以调整磁共振成像装置的磁场均匀性，此过程称为被动匀场过程。在被动匀场过程中，由于匀场片具有较高磁导率，所以操作承载有大量匀场片的匀场条时，为操作安全，也为保护匀场条在强大的磁场力下不会损坏，需要先使磁共振成像装置降场，调整放置匀场条后再使磁共振成像装置升场，往往需要重复多次上述步骤才可以完成磁场均匀性的调整。每次降场、升场的操作都会耗费大量液氦，且浪费人工成本。
技术实现思路
本技术的目的是提供一种磁共振成像装置的梯度线圈，其可在保护匀场条情况下，在不需要重复降场的情况下实现被动匀场操作。本技术的另一个目的是提供一种具有上述梯度线圈的磁共振成像装置。本技术提供了一种磁共振成像装置的梯度线圈，梯度线圈具有一个环形端面，梯度线圈的环形端面上沿其周向排布有用于安装匀场条组件的数个插接孔，各插接孔沿梯度线圈的轴向延伸，且插接孔在靠梯度线圈的径向外侧的内表面具有一个沿梯度线圈周向内缩的抵靠面，抵靠面上具有一个沿梯度线圈的轴向延伸的安置槽。采用上述梯度线圈执行被动匀场操作可以避免反复升场、降场而造成的液氦浪费，且同时还可以节省人工成本。在磁共振成像装置的梯度线圈的一种示意性实施方式中，还包括数个能够分别插设各插接孔的匀场条组件，各匀场条组件包括一个主匀场条和一个第一辅助匀场条，主匀场条能够在磁场力的作用下沿梯度线圈的径向抵靠于抵靠面，第一辅助匀场条能够容置于安置槽内。在磁共振成像装置的梯度线圈的一种示意性实施方式中，抵靠面垂直于梯度线圈的径向。该设计制造成本低，其可以稳定的定位主匀场条。在磁共振成像装置的梯度线圈的一种示意性实施方式中，匀场条组件包括数个第一辅
助匀场条，各第一辅助匀场条沿梯度线圈的径向排列。在磁共振成像装置的梯度线圈的一种示意性实施方式中，匀场条组件还包括一个第二辅助匀场条，第二辅助匀场条能够插设于插接孔，位于主匀场条靠近梯度线圈轴心的一侧。在磁共振成像装置的梯度线圈的一种示意性实施方式中，匀场条组件包括数个第二辅助匀场条，数个第二辅助匀场条能够插设于插接孔，位于主匀场条靠近梯度线圈轴心的一侧，并能够沿梯度线圈的径向排列。在磁共振成像装置的梯度线圈的一种示意性实施方式中，主匀场条的一端具有一个可抵靠于梯度线圈的环形端面的第一弯折部，第一辅助匀场条的一端具有一个可抵靠于梯度线圈的环形端面的第二弯折部。本技术还提供了一种磁共振成像装置，其包括一个超导磁体和一个上述梯度线圈，梯度线圈可装设于超导磁体。下文将以明确易懂的方式，结合附图说明优选实施例，对磁共振成像装置的梯度线圈及其磁共振成像装置的上述特性、技术特征、优点及其实现方式予以进一步说明。附图说明以下附图仅对本技术做示意性说明和解释，并不限定本技术的范围。图1用以说明磁共振成像装置的梯度线圈的一种示意性实施方式的结构示意图。图2用以说明磁共振成像装置的梯度线圈的局部结构示意图。图3用以示意性说明一个插接孔及插设于该插接孔的匀场条组件的结构示意图。图4用以说明磁共振成像装置的梯度线圈的另一种示意性实施方式的局部结构示意图。图5用以说明磁共振成像装置的梯度线圈的其他一种示意性实施方式的局部结构示意图。图6用以说明磁共振成像装置的梯度线圈的又一种示意性实施方式的局部结构示意图。标号说明10 梯度线圈12 环形端面122 插接孔124 抵靠面126 安置槽11 单元格14 主匀场条142 第一弯折部16 第一辅助匀场条162 第二弯折部18 第二辅助匀场条20 轴心。具体实施方式为了对技术的技术特征、目的和效果有更加清楚的理解，现对照附图说明本技术的具体实施方式，在各图中相同的标号表示结构相同或结构相似但功能相同的部件。在本文中，“示意性”表示“充当实例、例子或说明”，不应将在本文中被描述为“示意性”的任何图示、实施方式解释为一种更优选的或更具优点的技术方案。为使图面简洁，各图中只示意性地表示出了与本技术相关的部分，它们并不代表其作为产品的实际结构。另外，为使图面简洁便于理解，在有些图中具有相同结构或功能的部件，仅示意性地绘示了其中的一个，或仅标出了其中的一个。在本文中，“第一”、“第二”等仅用于彼此的区分，而非表示它们的重要程度及顺序等。在本文中，“径向”、“垂直”、“轴心”等包含本领域技术人员可以理解的制造或使用等允许的误差。图1用以说明磁共振成像装置的梯度线圈的一种示意性实施方式的结构示意图。如图1所示，磁共振成像装置的梯度线圈10成圆柱形，其具有一个环形端面12，梯度线圈10的环形端面12上沿其周向排布有用于安装匀场条组件的数个插接孔122(图中仅画出了一个，其余插接孔被遮盖)，各插接孔122沿梯度线圈10的轴向延伸。图中各匀场条组件包括一个主匀场条14和一个第一辅助匀场条16(图中仅标示了一个匀场条组件，其余匀场条组件分别插设于其余插接孔中)。主匀场条14和第一辅助匀场条16上都具有能够搭载匀场片的单元格11。图2用以说明磁共振成像装置的梯度线圈的局部结构示意图。图3用以示意性说明一个插接孔及插设于该插接孔的匀场条组件的结构示意图。如图2所示，仅有一个插接孔122未插设匀场条组件，而其他插接孔122都插设有匀场条组件并被遮挡。插接孔122在靠梯度线圈的径向外侧的内表面具有一个沿梯度线圈10周向内缩的抵靠面124，可同时参见图
3，抵靠面124上具有一个沿梯度线圈10的轴向延伸的安置槽126。匀场条组件中的主匀场条14能够插设于插接孔122(可同时参见图1)，并能够在磁力的作用下沿梯度线圈10的径向抵靠于抵靠面，第一辅助匀场条16能够插设于插接孔122，并容置于安置槽126内。采用上述结构的梯度线圈后，在不安装各个匀场条组件的情况下测试磁场均匀性，根据测试结果，降场后开始被动匀场过程，先将搭载有质量较大的磁场片的主匀场条14插设于插接孔122，升场后重新测试磁场均匀性是否符合标准，因搭载有质量较大的磁场片的主匀场条14已经可以将磁场均匀性调整到标准的附近位置，所以即使磁场均匀性仍不符合标准，也仅需要完成微调即可，即仅需要采用搭载有质量较小的磁场片的辅助匀场条即可，也因辅助匀场条搭载的磁场片的质量小此时可以在不降场的情况下将辅助匀场条插设至插接孔并容置于安置槽内。上述被动匀场操作可以避免反复升场、降场而造成的液氦浪费，且同时还可以节省人工成本。另外，在升场后，主匀场条14和第一辅助匀场条16都会受到磁场力作用，该磁场力方向沿梯度线圈10的径向朝向远离轴心20的一侧(可参见图2)，主匀场条14会抵靠于抵靠面124，第一辅助匀场条16会抵靠于安置槽126的底面128(可参见图2)。采用这样的设计，抵靠面124和安置槽126的底面128可以分别同时为主匀场条14和第一辅助匀场条16提供支撑力，以保证主匀场条14和第一辅助匀场条16的稳定性，提高磁场均匀性的本文档来自技高网...
【技术保护点】
磁共振成像装置的梯度线圈，所述梯度线圈(10)具有一个环形端面(12)，其特征在于，所述梯度线圈(10)的环形端面(12)上沿其周向排布有用于安装匀场条组件的数个插接孔(122)，各所述插接孔(122)沿所述梯度线圈(10)的轴向延伸，且所述插接孔(122)在靠所述梯度线圈的径向外侧的内表面具有一个沿所述梯度线圈(10)周向内缩的抵靠面(124)，所述抵靠面(124)上具有一个沿所述梯度线圈(10)的轴向延伸的安置槽(126)。
【技术特征摘要】
1.磁共振成像装置的梯度线圈，所述梯度线圈(10)具有一个环形端面(12)，其特征在于，所述梯度线圈(10)的环形端面(12)上沿其周向排布有用于安装匀场条组件的数个插接孔(122)，各所述插接孔(122)沿所述梯度线圈(10)的轴向延伸，且所述插接孔(122)在靠所述梯度线圈的径向外侧的内表面具有一个沿所述梯度线圈(10)周向内缩的抵靠面(124)，所述抵靠面(124)上具有一个沿所述梯度线圈(10)的轴向延伸的安置槽(126)。2.如权利要求1所述的梯度线圈，其还包括数个能够分别插设各所述插接孔(122)的匀场条组件，各所述匀场条组件包括：一个主匀场条(14)，其能够在磁场力的作用下沿所述梯度线圈(10)的径向抵靠于所述抵靠面(124)；和一个第一辅助匀场条(16)，能够容置于所述安置槽(126)内。3.如权利要求1所述的梯度线圈，其中，所述抵靠面(124)垂直于所述梯度线圈(10)的径向。4.如权利要求2所述的梯度线圈，其中，各所述匀场条组件包括数个所...
【专利技术属性】
技术研发人员：岳振华，王超，彭卫平，
申请(专利权)人：西门子深圳磁共振有限公司，
类型：新型
国别省市：广东;44
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