发光二极管支架、光源及显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及光源技术领域，公开了一种发光二极管支架、光源及显示装置；发光二极管支架包括主体结构，主体结构设有用于安装发光二极管芯片的凹形容置腔，凹形容置腔的表面包括：与凹形容置腔的开口相对设置的底面；沿凹形容置腔的宽度方向排列、且相对设置的第一侧面和第二侧面；沿凹形容置腔的长度方向排列、且相对设置的第三侧面和第四侧面；其中，在任一平行于底面、且与第一侧面和第二侧面相交的平面内，第一侧面与平面的交线为第一交线，第二侧面与平面的交线为第二交线；第一交线和第二交线对称设置、且第一交线和第二交线之间的距离从中点至两端逐渐减小。该发光二极管支架与导光板配合使用时，光能利用率较高。

【技术实现步骤摘要】
201610342272

【技术保护点】
一种发光二极管支架，其特征在于，包括主体结构，所述主体结构设有用于安装发光二极管芯片的凹形容置腔，所述凹形容置腔的表面包括：与凹形容置腔的开口相对设置的底面；沿凹形容置腔的宽度方向排列、且相对设置的第一侧面和第二侧面；沿凹形容置腔的长度方向排列、且相对设置的第三侧面和第四侧面；其中，在任一平行于底面、且与所述第一侧面和第二侧面相交的平面内，第一侧面与所述平面的交线为第一交线，第二侧面与所述平面的交线为第二交线；所述第一交线和所述第二交线对称设置、且所述第一交线和所述第二交线之间的距离从中点至两端逐渐减小。

【技术特征摘要】
1.一种发光二极管支架，其特征在于，包括主体结构，所述主体结构设有用于安装发光二极管芯片的凹形容置腔，所述凹形容置腔的表面包括：与凹形容置腔的开口相对设置的底面；沿凹形容置腔的宽度方向排列、且相对设置的第一侧面和第二侧面；沿凹形容置腔的长度方向排列、且相对设置的第三侧面和第四侧面；其中，在任一平行于底面、且与所述第一侧面和第二侧面相交的平面内，第一侧面与所述平面的交线为第一交线，第二侧面与所述平面的交线为第二交线；所述第一交线和所述第二交线对称设置、且所述第一交线和所述第二交线之间的距离从中点至两端逐渐减小。2.根据权利要求1所述的发光二极管支架，其特征在于，在任一垂直于底面、并垂直于所述第三侧面和第四侧面的排列方向、且与所述第一侧面和第二侧面相交的平面内，第一侧面与所述平面的交线为第三交线，第二侧面与所述平面的交线为第四交线；所述第三交线和所述第四交线为对称设置、且所述第三交线和所述第四交线之间的距离从凹形容置腔的开口至底面方向逐渐减小。3.根据权利要求2所述的发光二极管支架，其特征在于，所述第一交线和所述第二交线都为弧线；且，所述第一交线的弧度为0.3～2，所述第二交线的弧度为0.3～2。4.根据权利要求3所述的发光二极管支架，其特征在于，所述第三交线...

【专利技术属性】
技术研发人员：王培娜，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，合肥京东方显示光源有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11