砷化镓光敏传感器制造技术

技术编号:13555137 阅读:128 留言:0更新日期:2016-08-18 23:01
本实用新型专利技术具体涉及光敏传感器。砷化镓光敏传感器,包括光敏传感器主体,光敏传感器主体包括至少一个光敏芯片,光敏芯片外设有一封装体,光敏芯片包括基底,基底是由砷化镓制成的基底;光敏芯片包括一光敏面,光敏面呈一外凸型曲面。本实用新型专利技术通过优化传统的光敏传感器光敏芯片的基底,将传统由硅制成的基底改良为由砷化镓制成的基底,提高了光敏传感器的性能的性能,信号传输性能优异。本实用新型专利技术通过优化传统光敏面的结构,采用外凸型曲面,提高了光敏传感器的监测范围。

【技术实现步骤摘要】
201620065350

【技术保护点】
砷化镓光敏传感器,包括光敏传感器主体,所述光敏传感器主体包括至少一个光敏芯片,所述光敏芯片外设有一封装体,所述光敏芯片包括基底,其特征在于,所述基底是由砷化镓制成的基底;所述光敏芯片包括一光敏面,所述光敏面呈一外凸型曲面;所述光敏面的横截面呈一圆心角为5°~10°的圆弧,所述圆弧的半径为1cm~2cm。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:程治国王良
申请(专利权)人:上海长翊科技股份有限公司
类型:新型
国别省市:上海;31

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