抛光液均匀流动的抛光垫制造技术

一种抛光液均匀流动的抛光垫，它包括内环面（1）和外环面（2），外环面（2）的半径不超过内环面（1）半径的四倍，其特征是在内环面（1）和外环面（2）之间的加工表面上设有凹槽区（3），凹槽区（3）上设有若干数量相等、旋向相反的凹槽（4）；所述凹槽（4）的形状满足一定的数学关系。本发明专利技术的抛光液能实现均匀流动，明显提高加工质量。

【技术实现步骤摘要】
201610257309

【技术保护点】
一种抛光液均匀流动的抛光垫，它包括内环面(1)和外环面(2)，外环面(2)的半径不超过内环面(1)半径的四倍，其特征是在内环面(1)和外环面(2)之间的加工表面上设有凹槽区(3)，凹槽区(3)上设有若干数量相等、旋向相反的凹槽(4)；所述凹槽(4)的形状满足以下关系：θ1=(rr0)2-1-tan-1((rr0)2-1)]]>θ2=(rr0)2-1+tan-1((rr0)2-1)]]>式中r0为凹槽(4)终点径向位置，r为凹槽上某一点到抛光垫中心的距离，θ1表示逆时针展成凹槽的极角，θ2表示顺时针展成方向凹槽的极。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：李军，花成旭，唐咏凯，朱永伟，左敦稳，王维，曹远远，
申请(专利权)人：南京航空航天大学，
类型：发明
国别省市：江苏;32