一种基于金属纳尖阵电极的电调透射光薄膜制造技术

本发明专利技术公开了一种基于金属纳尖阵电极的电调透射光薄膜，其包括：由纳米尺度间隔的纳尖高密度排布构成的一层纳米厚度的金属纳尖阵阴极和一层纳米厚度的平面阳极，该阳极由透光的纳米厚度的金属氧化物导电膜制成，阴阳电极间填充有由纳米厚度的透明光学介质材料制成的电隔离膜；在加电态下，金属纳尖阵阴极上可自由移动的电子被电极间所激励的电场驱控，向纳尖顶聚集，纳尖底部及相邻尖端间的平坦区域上的自由电子分布密度因部分甚至绝大多数自由电子被抽走而减少甚至急剧降低，对应于有自由电子密集分布的各尖顶的光透过率将减弱。本发明专利技术可对光透过率执行电控调变，具有适用于较宽谱域及较强光束、偏振不敏感、驱控灵活以及调光响应快的特点。

【技术实现步骤摘要】
201610353247

【技术保护点】
一种基于金属纳尖阵电极的电调透射光薄膜，包括一对保护膜、平面阳极、金属纳尖阵阴极、一对基膜以及电隔离膜，其特征在于，顶部保护膜和底部保护膜分别设置在电调透射光薄膜的顶部和底部，上部基膜和下部基膜分别设置在平面阳极和金属纳尖阵阴极的光入射面和光出射面上，平面阳极设置在上部基膜的表面，金属纳尖阵阴极设置在下部基膜的表面，并由基于纳米尺度间隔的高密度排布纳尖构成，电隔离膜填充在平面阳极和金属纳尖阵阴极间。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：张新宇，张波，吴勇，袁莹，彭莎，信钊炜，魏东，王海卫，谢长生，
申请(专利权)人：华中科技大学，
类型：发明
国别省市：湖北;42