一种具有高抗折强度的微晶玻璃及其制备方法技术

本发明专利技术涉及一种具有高抗折强度的微晶玻璃及其制备方法，所述微晶玻璃的配合料按重量百分比计含有如下成分：SiO2 60～75％，Al2O3 1～15％，Li2O 10～20％，Na2O 1～3％，KBr 1～5％，P2O5 0～5％，ZrO2 1～5％，CeO2 0～3％，V2O5 0～1％。其制备方法包括配料、熔化澄清、成型、退火及微晶化处理；其中熔化澄清温度为1400～1550℃保温4～8小时；微晶化处理工艺参数为：室温下升温至580～600℃保温10～30分钟，再升温至650～750℃保温15～60分钟，然后升温至800～850℃保温15～60分钟。

【技术实现步骤摘要】
201610200072

【技术保护点】
一种具有高抗折强度的微晶玻璃，其特征在于，所述微晶玻璃的配合料按重量百分比计含有如下成分：SiO2 60～75％，Al2O3 1～15％，Li2O 10～20％，Na2O 1～3％，KBr 1～5％，P2O5 0～5％，ZrO2 1～5％，CeO2 0～3％，V2O5 0～1％。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：赵修建，邓陆梅，饶剑，冯晋阳，陶海征，
申请(专利权)人：武汉理工大学，
类型：发明
国别省市：湖北;42