一种金属微结构及其制作方法技术

本发明专利技术提供了一种金属微结构及其制作方法，其中方法首先在一平整的基片的表面涂覆一层光刻胶，并对光刻胶进行曝光、显影，以在基片的表面形成光刻胶图形，然后令基片发生形变，以使得所述光刻胶图形随所述基片一同发生形变，接着在基片表面上的非光刻胶图形处，进行金属镀膜，最后去除光刻胶和基片，得到金属微结构。本发明专利技术实现了具有不同轴线方向通孔的金属微结构，其在光学成像领域有重要应用价值。

【技术实现步骤摘要】
201610188420

【技术保护点】
一种金属微结构的制作方法，其特征在于，包括：S1，在一平整的基片的表面涂覆一层光刻胶，所述基片在外力作用下可发生形变；S2，对所述光刻胶进行曝光、显影，以在所述基片的表面形成光刻胶图形；S3，令所述基片发生形变，以使得所述光刻胶图形随所述基片一同发生形变；S4，在所述基片表面上的非光刻胶图形处，进行金属镀膜；S5，去除所述光刻胶和所述基片，得到金属微结构。

【技术特征摘要】
1.一种金属微结构的制作方法，其特征在于，包括：S1，在一平整的基片的表面涂覆一层光刻胶，所述基片在外力作用下可发生形变；S2，对所述光刻胶进行曝光、显影，以在所述基片的表面形成光刻胶图形；S3，令所述基片发生形变，以使得所述光刻胶图形随所述基片一同发生形变；S4，在所述基片表面上的非光刻胶图形处，进行金属镀膜；S5，去除所述光刻胶和所述基片，得到金属微结构。2.根据权利要求1所述的金属微结构的制作方法，其特征在于，所述步骤S1中，所述光刻胶的厚度大于0.2mm。3.根据权利要求1所述的金属微结构的制作方法，其特征在于，所述步骤S3中，通过将所述基片按压在具有面形的模具上，以使所述基片发生形变。4.根据权利要求3所述的金属微结构的制作方法，其特征在于，所述基片为非金属网状结构，其中：所述步骤S3中，先在所述基片和所述模具中间放置一层导电层，再将所述基片按压在具有面形的模具上，以使所述导电层与所述基片一同发生形变；所述步骤S4中，在所述导电层...

【专利技术属性】
技术研发人员：张天冲，伊福廷，王波，刘静，张新帅，孙钢杰，王雨婷，
申请(专利权)人：中国科学院高能物理研究所，
类型：发明
国别省市：北京;11