一种曝光机制造技术

技术编号:13528817 阅读:88 留言:0更新日期:2016-08-15 11:39
本实用新型专利技术公开了一种曝光机,用以解决现有技术测得的CD bias不稳定的问题。曝光机包括若干不同曝光距离的基台,每一所述基台包括基台本体和基台突起,所述基台本体用于放置待曝光的基板,所述基台突起用于确定曝光距离,所述曝光距离为所述待曝光的基板与掩膜板之间的距离。

【技术实现步骤摘要】
201521142679

【技术保护点】
一种曝光机,其特征在于,包括若干不同曝光距离的基台,每一所述基台包括基台本体和基台突起,所述基台本体用于放置待曝光的基板,所述基台突起用于确定曝光距离,所述曝光距离为所述待曝光的基板与掩膜板之间的距离。

【技术特征摘要】
1.一种曝光机,其特征在于,包括若干不同曝光距离的基台,每一所述
基台包括基台本体和基台突起,所述基台本体用于放置待曝光的基板,所述基
台突起用于确定曝光距离,所述曝光距离为所述待曝光的基板与掩膜板之间的
距离。
2.根据权利要求1所述的曝光机,其特征在于,所述基台本体与所述基
台突起一体设置。
3.根据权利要求1所述的曝光机,其特征在于,所述基台还包括连接部,
所述基台突起通过所述连接部...

【专利技术属性】
技术研发人员:凡明明
申请(专利权)人:阜阳欣奕华材料科技有限公司
类型:新型
国别省市:安徽;34

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