玻璃镀层结构的制造方法技术

本发明专利技术提供了一种玻璃镀层结构的制造方法，其中，该制造方法包括：向上部设置有玻璃基板的真空空间中，通入比例在1.3:1至1.5:1之间的氮气和氧气；交替执行钛氮氧化物镀膜层生成工序和硅氮氧化物镀膜层生成工序，在玻璃基板的下表面向下形成交替层叠的硅氮氧化物镀膜层和钛氮氧化物镀膜层。本发明专利技术通过在玻璃基板的下表面交替镀钛氮氧化物镀膜层和硅氮氧化物镀膜层，并使镀层化合物中的氮与氧的比例保持在1.3:1至1.5:1之间，从而在保证绝缘性的前提下，实现了呈现玫瑰金颜色的镜面效果的玻璃镀层结构，并且将镀层本身的厚度对指纹检测的影响控制在非常小的范围内。

【技术实现步骤摘要】
201610045624

【技术保护点】
一种玻璃镀层结构的制造方法，其特征在于，包括：向一侧设置有玻璃基板的密闭空间中，通入氮气和氧气，所述密闭空间为真空空间；其中，通入的氮气与氧气的比例在1.3:1到1.5:1之间；执行氮氧化合物生成工序，在所述玻璃基板的一侧形成氮氧化合物镀膜层。

【技术特征摘要】
2015.10.20 CN 201510683228X1.一种玻璃镀层结构的制造方法，其特征在于，包括：向一侧设置有玻璃基板的密闭空间中，通入氮气和氧气，所述密闭空间为真空空间；其中，通入的氮气与氧气的比例在1.3:1到1.5:1之间；执行氮氧化合物生成工序，在所述玻璃基板的一侧形成氮氧化合物镀膜层。2.根据权利要求1所述的制造方法，其特征在于，所述执行氮氧化合物生成工序，在所述玻璃基板的一侧形成氮氧化合物镀膜层包括：交替地执行氮氧化合物生成工序，在所述玻璃基板的一侧形成交替层叠的氮氧化合物镀膜层。3.根据权利要求2所述的制造方法，其特征在于，所述交替地执行氮氧化合物生成工序，在所述玻璃基板的一侧形成交替层叠的氮氧化合物镀膜层包括：交替地执行至少两种氮氧化合物的生成工序，在所述玻璃基板的一侧形成交替层叠的至少两种氮氧化合物的镀膜层。4.根据权利要求3所述的制造方法，其特征在于，所述交替地执行至少两种氮氧化合物的生成工序，在所述玻璃基板的一侧形成交替层叠的至少两种氮氧化合物的镀膜层包括：交替地执行钛氮氧化物镀膜层生成工序和硅氮氧化物镀膜层生成工序，在所述玻璃基板的一侧形成交替层叠的硅氮氧化物镀膜层和钛氮氧化物镀膜层。5.根据权利要求4所述的制造方法，其特征在于，所述执行钛氮氧化物镀膜层生成工序包括：通过电子枪激发设置在所述密闭空间中的钛原料，使所述钛原料蒸发，与所述密闭空间中的氮气和氧气发生反应后形成钛氮氧化物镀膜层。6.根据权利要求4所述的制造方法，其特征在于，所述执行硅氮氧化物镀膜层生成工序包括：通过电子枪激发设置在所述密闭空间中的硅原料，使所述硅原料蒸发，与所述密闭空间中的氮气和氧气发生反应后形成硅氮氧化物镀膜
\t层。7.根据权利要求4所述的制造方法，其特征在于，所述交替地执行钛氮氧化物镀膜层生成工序和硅氮氧化物镀膜层生成工序包括：先执行镀钛氮氧化物镀膜层生成工序，再执行硅氮氧化物镀膜层生成工序。8.根据权利要求1所述的制造方法，其特征在于，通入氮气和氧气的比例为1.4:1。9.根据权利要求4所述的制造方法，其特征在于，交替地执行的所述钛氮氧化物镀膜层生成工序和所述硅氮氧化物镀膜层生成工序的总次数为5次，使所述钛氮氧化物镀膜层和所述硅氮氧化物镀膜层的总层数为5层，并且所述钛氮氧化物镀膜层的总厚度与所述硅氮氧化物镀膜层的总厚度之比在1.55到1.65之间。10.根据权利要求9所述的制造方法，其特征在于，交替地执行钛氮氧化物镀膜层生成工序和硅氮氧化物镀膜层工序，生成如下镀膜层：所述第一层镀膜层为钛氮氧化物镀膜层，厚度范围为45-70nm；所述第二层镀膜层为硅氮氧化物镀膜层，厚度范围为55-90nm；所述第三层镀膜层为钛氮氧化物镀膜层，厚度范围为45-70nm；所述第四层镀膜层为硅氮氧化物镀膜层，厚度范围为55...

【专利技术属性】
技术研发人员：郝亚可，孙坤，孟祥发，梁倩，
申请(专利权)人：乐视移动智能信息技术北京有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11