镁合金表面高导电率高红外发射率膜层的制备方法技术

本发明专利技术提供了一种镁合金表面高导电率高红外发射率膜层的制备方法；所述方法包括在镁合金表面进行电镀多孔锌镍合金制备高导电率高红外发射率膜层的步骤；采用的电镀液包括镍盐、锌盐/氧化锌、铵盐、硫氰酸盐、表面活性剂和络合剂。本发明专利技术在镁合金表面制备出的多孔锌镍合金膜层同时具有高导电率和高红外发射率的性能，膜层红外发射率εh≥0.88；搭接电阻R≤5mΩ；可帮助内部电子产品抵抗恶劣的太空环境，满足宇航用镁合金电子单机机壳的使用要求。

【技术实现步骤摘要】
201610355575

【技术保护点】
一种镁合金表面高导电率高红外发射率膜层的制备方法，其特征在于，所述方法包括在镁合金表面进行电镀多孔锌镍合金制备高导电率高红外发射率膜层的步骤。

【技术特征摘要】
1.一种镁合金表面高导电率高红外发射率膜层的制备方法，其特征在于，所述方法包括在镁合金表面进行电镀多孔锌镍合金制备高导电率高红外发射率膜层的步骤。2.根据权利要求1所述的镁合金表面高导电率高红外发射率膜层的制备方法，其特征在于，所述电镀多孔锌镍合金的步骤中，采用的电镀液包括镍盐、锌盐/氧化锌、铵盐、硫氰酸盐、表面活性剂和络合剂。3.根据权利要求2所述的镁合金表面高导电率高红外发射率膜层的制备方法，其特征在于，所述电镀液包括以下浓度的各组分：0.1～0.3mol/L的镍盐、0.1～0.4mol/L的锌盐/氧化锌、1～4mol/L的氯化铵、0.1～1mol/L的硫氰酸盐、0.1～0.5mol/L的络合剂和30mg/L十二烷基硫酸钠。4.根据权利要求2或3所述的镁合金表面高导电率高红外发射率膜层的制备方法，其特征在于，所述络合剂包括丁二酸、柠檬酸、乙二胺、EDTA中的一种或几种的混合。5.根据权利要求1或2所述的镁合金表面高导电率高红外发射率膜层的制备方法，其特征在于，所述电镀的电流密度为0.5～5A/cm2，温度...

【专利技术属性】
技术研发人员：郭兴伍，郭嘉成，徐文彬，朱荣玉，章志铖，
申请(专利权)人：上海交通大学，
类型：发明
国别省市：上海;31