一种ZnS基底反0.5～0.8μm可见光及1.064μm激光并透3.7～4.8μm中波红外分色膜的膜系结构制造技术

本发明专利技术提出一种ZnS基底反0.5～0.8μm可见光及1.064μm激光并透3.7～4.8μm中波红外分色膜的膜系结构，包括ZnS基片和分色膜膜系；分色膜膜系由三种薄膜材料制成；膜层层数共计51层，其中第1层和第51层为氧化锆膜层，第2层到第50层中的偶数层为氟化镱膜层、奇数层为硫化锌膜层。在0.5～0.8μm波段，透过率小于2％；在1.064μm激光波段，透过率小于1％；在3.7～4.8μm中波红外波段透射率大于95％。该膜系结构具有层数少、厚度小、镀制难度相对较低、工艺重复性好的特点，获得的膜层牢固度高，光谱性能优良，能够满足多波段共窗口光电系统的使用要求，满足45°倾斜条件下工作要求，并能经受住高、低温存储，温度冲击等环境试验，附着力试验及中度摩擦试验。

【技术实现步骤摘要】
201610273378

【技术保护点】
一种ZnS基底反0.5～0.8μm可见光及1.064μm激光并透3.7～4.8μm中波红外分色膜的膜系结构，其特征在于：包括ZnS基片和分色膜膜系；所述分色膜膜系由三种薄膜材料制备的膜层叠加构成；膜层层数共计51层，其中第1层和第51层为氧化锆膜层，第2层到第50层中的偶数层为氟化镱膜层、奇数层为硫化锌膜层；各膜层厚度为：

【技术特征摘要】
1.一种ZnS基底反0.5～0.8μm可见光及1.064μm激光并透3.7～4.8μm中波红外分色膜的膜系结构，其特征在于：包括ZnS基片和分色膜膜系；所述分色膜膜系由三种薄膜材料制备的膜层叠加构成；膜层层数共计51层，其中第1层和第51层为氧化锆膜层，第2层到第50层中的偶数层为氟化镱膜层、奇数层为硫化锌膜层；各膜层厚度为：2.根据权利要求1所述一种ZnS基底反0.5～0.8μm可见光及1.064μm激光并透3.7～4.8μm中波红外分色膜的膜系结构，其特征在于：包括ZnS基片和分色膜膜系；所述分色膜膜系由三种薄膜材料制备的膜层叠加构成；膜层层数共计51层，其中第1层和第51层为氧化锆膜层，第2层到第50层中的偶数层为氟化镱膜层、奇数层为硫化锌膜层；各膜层厚度为：3.根据权利要求1所述一种ZnS基底反0.5～0.8μm可见光及1.064μm激光并透3.7～4.8μm中波红外分色膜的膜系结构，其特征在于：包括ZnS基片和分色膜膜系；所述分色膜膜系由三种薄膜材料制备的膜层叠加构成；膜层层数共计51层，其中第1层和第51层为氧化锆膜层，第2层到第50层中的偶数层为氟化镱膜层、奇数层为硫化锌膜层；各膜层厚度为：4.根据...

【专利技术属性】
技术研发人员：张建付，杨崇民，米高园，刘永强，刘青龙，王松林，刘方，杨华梅，李明伟，王颖辉，孙婷，黎明，韩俊，
申请(专利权)人：西安应用光学研究所，
类型：发明
国别省市：陕西;61