玻璃镀层结构的制造方法技术

本发明专利技术提供了一种玻璃镀层结构的制造方法，其中，该方法包括：向上部设置有玻璃基板的真空空间中，通入比例固定的氮气和氧气，其中，氮气与氧气的比例的取值范围为0.4:1到1.5:1；交替执行钛氮氧化物镀膜层生成工序和硅氮氧化物镀膜层生成工序，在玻璃基板的下表面向下形成交替层叠的硅氮氧化物镀膜层和钛氮氧化物镀膜层。本发明专利技术通过在玻璃基板的下表面交替镀钛氮氧化物镀膜层和硅氮氧化物镀膜层，并使镀层化合物中的氮与氧的比例相同，在0.4:1到1.5:1范围内进行取值，从而在保证绝缘性的前提下，实现了具有镜面效果的玻璃镀层结构，并且将镀层本身的厚度对指纹检测的影响控制在非常小的范围内。

【技术实现步骤摘要】
201610046709

【技术保护点】
一种玻璃镀层结构的制造方法，其特征在于，包括：向一侧设置有玻璃基板的密闭空间中，通入氮气和氧气，所述密闭空间为真空空间；其中，通入的氮气与氧气的比例在0.4:1到1.5:1之间；执行氮氧化合物生成工序，在所述玻璃基板的一侧形成氮氧化合物镀膜层。

【技术特征摘要】
2015.10.20 CN 20151068322941.一种玻璃镀层结构的制造方法，其特征在于，包括：向一侧设置有玻璃基板的密闭空间中，通入氮气和氧气，所述密闭空间为真空空间；其中，通入的氮气与氧气的比例在0.4:1到1.5:1之间；执行氮氧化合物生成工序，在所述玻璃基板的一侧形成氮氧化合物镀膜层。2.根据权利要求1所述的制造方法，其特征在于，所述执行氮氧化合物生成工序，在所述玻璃基板的一侧形成氮氧化合物镀膜层包括：交替地执行氮氧化合物生成工序，在所述玻璃基板的一侧形成交替层叠的氮氧化合物镀膜层。3.根据权利要求2所述的制造方法，其特征在于，所述交替地执行氮氧化合物生成工序，在所述玻璃基板的一侧形成交替层叠的氮氧化合物镀膜层包括：交替地执行至少两种氮氧化合物的生成工序，在所述玻璃基板的一侧形成交替层叠的至少两种氮氧化合物的镀膜层。4.根据权利要求3所述的制造方法，其特征在于，所述交替地执行至少两种氮氧化合物的生成工序，在所述玻璃基板的一侧形成交替层叠的至少两种氮氧化合物的镀膜层包括：交替地执行钛氮氧化物镀膜层生成工序和硅氮氧化物镀膜层生成工序，在所述玻璃基板的一侧形成交替层叠的硅氮氧化物镀膜层和钛氮氧化物镀膜层。5.根据权利要求4所述的制造方法，其特征在于，所述执行钛氮氧化物镀膜层生成工序包括：通过电子枪激发设置在所述密闭空间中的钛原料，使所述钛原料蒸发，与所述密闭空间中的氮气和氧气发生反应后形成钛氮氧化物镀膜层。6.根据权利要求4所述的制造方法...

【专利技术属性】
技术研发人员：苏斌，
申请(专利权)人：乐视移动智能信息技术北京有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11