一种动态气体锁的试验装置和试验方法制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种动态气体锁的试验装置，其包括分别连接所要试验的动态气体锁两端的模拟清洁真空腔室和模拟超清洁真空腔室。模拟清洁真空腔室中有污染发射源，用于发射模拟污染物，该模拟污染物用于模拟诸如极紫外光刻机中硅片表面产生的污染物；模拟超清洁真空腔室中配置有测量腔内气体组分和分压的设备。模拟清洁真空腔室和模拟超清洁真空腔室上分别布置有真空计组。本发明专利技术能有效验证动态气体锁的抑制效果。

【技术实现步骤摘要】
201610390695

【技术保护点】
一种动态气体锁的试验装置，包括模拟清洁真空腔室和模拟超清洁真空腔室，所述模拟清洁真空腔室(5)和模拟超清洁真空腔室(6)分别连接被试动态气体锁(L)的两个开口端，其中，所述模拟清洁真空腔室中设有污染发射源(7)，用于模拟产生污染物；所述模拟超清洁真空腔室中配置有测量腔内气体组分和分压的设备。

【技术特征摘要】
1.一种动态气体锁的试验装置，包括模拟清洁真空腔室和模拟超清洁真空腔室，所述模拟清洁真空腔室(5)和模拟超清洁真空腔室(6)分别连接被试动态气体锁(L)的两个开口端，其中，所述模拟清洁真空腔室中设有污染发射源(7)，用于模拟产生污染物；所述模拟超清洁真空腔室中配置有测量腔内气体组分和分压的设备。2.如权利要求1所述的动态气体锁的试验装置，其特征在于，所述模拟清洁真空腔室(5)和模拟超清洁真空腔室(6)上分别布置有真空计组(51、61)。3.如权利要求2所述的动态气体锁的试验装置，其特征在于，所述真空计组由粗测和精测两个真空计组成。4.如权利要求1所述的动态气体锁的试验装置，其特征在于，所述模拟清洁真空腔室(5)和模拟超清洁真空腔室(6)上分别布置有与真空泵组连接的阀门(53、63)，该阀门(53、63)的接口中心轴与动态气体锁的接口中心轴在一条直线上。5.如权利要求1所述的动态气体锁的试验装置，其特征在于，所述污染发射源(7)包括发射室(71)，其通过发射管道(72)、管道接头(73)、阀门、气体质量流量控制器与模拟污染气体气源连接。6.如权利要求1所述的动态气体锁的试验装置，其特征在于，所述发射室(71)内布置有发射室匀流板。7.如权利要求6所述的动态气体锁的试验装置，其特征在于，所述发射室匀流板为多级发射室匀流板，各级发射室匀流板的有效漏孔面积之和近似相等。8.如权利要求7所述的动态气体锁的试验装置，其特征在于，越接近发射室(71)的气流入口管道的发射室匀流...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈进新，崔惠绒，张立佳，谢婉露，吴晓斌，王宇，
申请(专利权)人：中国科学院光电研究院，
类型：发明
国别省市：北京;11