本实用新型专利技术公开了一种溶剂退火装置，用于进行封闭或半封闭条件下的溶剂退火过程，包括用于进行装样和装载溶剂的装样模块、上盖板、两个封窗模块和装样支架，所述装样模块中间从上向下开有一个用于装入溶剂长方形深凹槽，所述装样模块两侧贯穿地对称设置有两个连通所述深凹槽的圆形阶梯孔，两个圆形阶梯孔外侧均内嵌有透X光片和垫圈，两个封窗模块通过贯穿装样模块的螺栓固定在装样模块两侧。本实用新型专利技术结构简单，拆卸方便，使得溶剂退火在相对封闭的净化环境中进行，不仅有效的避免外界干扰条件因素对退火工艺过程的影响，减少了溶剂的挥发逸出，而且还可以将该退火装置与小角X光散射（SAXS）连用，实现退火的动态过程进行观察表征。
【技术实现步骤摘要】
本技术为一种溶剂退火装置，涉及高分子材料加工领域、材料结构表征相关领域。
技术介绍
在高分子材料加工过程中，为消除材料内应力或进行结构调整及链段重排，通常会进行“退火”处理，即使链段具有足够的运动能力，充分松弛。而一般来讲对于高分子退火方式有两种，一种叫热(处理)退火一种是溶剂退火。与热退火相比，溶剂退火有诸多优点:第一，溶剂退火能够对热分解温度低而无法进行热退火的高分子样品进行处理;第二，溶剂退火能够使用不同性质的溶剂或混合溶剂，用以调控高分子溶剂退火的速率和程度。在高分子材料加工过程中，结构的调控对其材料性能的影响十分重要。然而，在退火过程中结构的变化用普通技术难以进行连续的观察。通常做法是在退火过程前后通过电镜等方法进行表征。而在同步辐射光源或高强度X光光源的条件下，可以运用原位、时间分辨的小角X光散射技术(SAXS)进行连续的动态跟踪结构变化。
技术实现思路
本技术的目的是提供一种溶剂退火装置，以满足小角X光散射技术进行动态表征高分子材料结构变化的需要。为达到上述目的，本技术采用如下技术方案:—种溶剂退火装置，用于进行封闭或半封闭条件下的溶剂退火过程，包括用于进行装样和装载溶剂的装样模块、上盖板、两个封窗模块和装样支架，所述装样模块中间从上向下开有一个用于装入溶剂长方形深凹槽，所述装样模块两侧贯穿地对称设置有两个连通所述深凹槽的圆形阶梯孔，两个圆形阶梯孔外侧均内嵌有透X光片和垫圈，两个封窗模块通过贯穿装样模块的螺栓固定在装样模块两侧，所述封窗模块相对圆形阶梯孔位置开一个直径小于垫圈的圆形孔，所述上盖板封盖在装样模块上端的深凹槽开口处，其中部设置有长方形支架孔，所述装样支架穿过上盖板上的支架孔插入装样模块的深凹槽内。进一步地，所述透X光片的材料为云母片、铍、轻质玻璃、钻石、塑料片或塑料膜。综上所述，本技术溶剂退火装置通过将溶剂和实验材料置于中间的装样模块的空腔中，并用上盖板进行封闭，提供一个封闭(或半封闭状态的)溶剂环境，进行溶剂退火，X光束则依次通过前封窗模块的圆孔，前置的透X光片、样品、后置的透X光片和后封窗模块圆孔，之后信号到达传感器，实现原位、时间分辨的SAXS动态观察表征溶剂退火过程。【附图说明】:图1为溶剂退火装置侧面剖示图。图2为溶剂退火装置各部分解示意图。图3为溶剂退火装置整体外观示意图。图中所示为:1-装样模块，2-透X光片，3-窗口垫片，4-封窗模块，5-螺栓，6_上盖板;7-装样支架。【具体实施方式】为详细说明本技术创造的
技术实现思路
、构造特征、所达成目的及功效，下面将结合实施例并配合附图予以详细说明。但实施例并不对本技术做任何形式的限定。如图1至图3所示，一种溶剂退火装置，用于进行封闭或半封闭条件下的溶剂退火过程，包括用于进行装样和装载溶剂的装样模块1、上盖板6、两个封窗模块4和装样支架7，所述装样模块I中间从上向下开有一个用于装入溶剂长方形深凹槽，所述装样模块I两侧贯穿地对称设置有两个连通所述深凹槽的圆形阶梯孔，两个圆形阶梯孔外侧均内嵌有透X光片2和垫圈3，所述透X光片2的材料为云母片，两个封窗模块4通过贯穿装样模块I的螺栓固定在装样模块I两侧，所述封窗模块4相对圆形阶梯孔位置开一个直径小于垫圈3的圆形孔，所述上盖板6封盖在装样模块I上端的深凹槽开口处，其中部设置有长方形支架孔，所述装样支架7穿过上盖板6上的支架孔插入装样模块I的深凹槽内。整个装置基本为密闭状态(也可在上盖板装支架处留出缝隙成为半封闭状态)，防止溶剂快速挥发逸出。其中前面的封窗模块4开有四个圆形孔，用于放置螺栓，后面的封窗模块4则有4个方形沉孔，用于放置固定螺母。该溶剂退火装置可以与小角X光散射(SAXS)结合使用，可以动态实时观察表征退火过程。为了更直观的揭露本技术之技术方案，凸显本技术之有益效果，现结合具体的实施方式，对所述溶剂退火装置之工作原理进行阐述，在所述【具体实施方式】中，所述各功能部件的数量、具体设置位置仅为描述方便，不应视为对本技术方案的限制:步骤S1:将2片云母片放置在装样模块I的前后圆形阶梯孔内，并用圆形垫圈固定位置；步骤S2:用前后封窗模块4夹紧装样模块I，并用螺栓固定；步骤S3:将溶剂通过注射器注入到装样模块I的深凹槽内，然后用上盖板盖住装样模块I的深凹槽口；步骤S4:用支架夹住需要退火的实验材料，从上盖板的支架孔中插入装样模块I的深凹槽内进行退火；步骤S5:将该退火装置固定在SAXS的样品台上，X光束则依次通过前面的封窗模块4的阶梯孔，前置的云母片、样品、后置的云母片和后面的封窗模块4的阶梯孔，之后信号到达传感器。明显地，本技术溶剂退火装置密闭了退火的环境体系，并且便于透过X光，不仅有效的避免外界干扰条件因素对工艺过程的影响，减少了溶剂的挥发溢出，而且还可以实现原位、时间分辨的SAXS动态观察表征溶剂退火过程。综上所述，本技术溶剂退火装置结构简单，便于拆卸，不仅有效的避免外界干扰条件因素对工艺过程的影响，而且还可以利用小角X光散射(SAXS)对退火的动态过程进行观察。本领域技术人员均应了解，在不脱离本技术的精神或范围的情况下，可对本技术进行各种修改和变型。因而，如果任何修改或变型落入所附权利要求书及等同物的保护范围内时，认为本技术涵盖这些修改和变型。【主权项】1.一种溶剂退火装置，用于进行封闭或半封闭条件下的溶剂退火过程，包括用于进行装样和装载溶剂的装样模块(I)、上盖板(6)、封窗模块(4)和装样支架(7)，所述装样模块(I)中间从上向下开有一个用于装入溶剂长方形深凹槽，所述装样模块(I)两侧贯穿地对称设置有两个连通所述深凹槽的圆形阶梯孔，两个圆形阶梯孔外侧均内嵌有透X光片(2)和垫圈(3)，所述封窗模块(4)通过贯穿装样模块(I)的螺栓固定在装样模块(I)两侧，所述上盖板(6)封盖在装样模块(I)上端的深凹槽开口处，所述装样支架(7)穿过上盖板(6)上的方孔插入装样模块(I)的深凹槽内。2.根据权利要求1所述的一种溶剂退火装置，其特征在于，所述透X光片(2)的材料为云母片、铍、轻质玻璃片、钻石、塑料片或塑料膜。【专利摘要】本技术公开了一种溶剂退火装置，用于进行封闭或半封闭条件下的溶剂退火过程，包括用于进行装样和装载溶剂的装样模块、上盖板、两个封窗模块和装样支架，所述装样模块中间从上向下开有一个用于装入溶剂长方形深凹槽，所述装样模块两侧贯穿地对称设置有两个连通所述深凹槽的圆形阶梯孔，两个圆形阶梯孔外侧均内嵌有透X光片和垫圈，两个封窗模块通过贯穿装样模块的螺栓固定在装样模块两侧。本技术结构简单，拆卸方便，使得溶剂退火在相对封闭的净化环境中进行，不仅有效的避免外界干扰条件因素对退火工艺过程的影响，减少了溶剂的挥发逸出，而且还可以将该退火装置与小角X光散射（SAXS）连用，实现退火的动态过程进行观察表征。【IPC分类】C08J7/02【公开号】CN205328915【申请号】CN201521035659【专利技术人】王林格, 吴杰, 廖国行, 吴恙, 李卫昌 【申请人】华南理工大学【公开日】2016年6月22日【申请日】2015年12月14日本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种溶剂退火装置，用于进行封闭或半封闭条件下的溶剂退火过程，包括用于进行装样和装载溶剂的装样模块（1）、上盖板（6）、封窗模块（4）和装样支架（7），所述装样模块（1）中间从上向下开有一个用于装入溶剂长方形深凹槽，所述装样模块（1）两侧贯穿地对称设置有两个连通所述深凹槽的圆形阶梯孔，两个圆形阶梯孔外侧均内嵌有透X光片（2）和垫圈（3），所述封窗模块（4）通过贯穿装样模块（1）的螺栓固定在装样模块（1）两侧，所述上盖板（6）封盖在装样模块（1）上端的深凹槽开口处，所述装样支架（7）穿过上盖板（6）上的方孔插入装样模块（1）的深凹槽内。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：王林格，吴杰，廖国行，吴恙，李卫昌，
申请(专利权)人：华南理工大学，
类型：新型
国别省市：广东;44
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