本发明专利技术提供了一种振幅监测系统、调焦调平装置及离焦量探测方法，调整所述扫描反射镜的振幅，采样扫描反射镜的实时振幅以及光电探测器输出的实时电压值，计算出补偿后的实时解调量Si，并记录工件台的实时离焦量Hi，根据所述补偿后的实时解调量Si和工件台的实时离焦量Hi建立数据库；实际测量时，实时采样所述扫描反射镜的实际振幅以及光电探测器输出的实际电压值，计算出补偿后的实际解调量Sk，利用线性插值法查找所述数据库，求出工件台的实际离焦量Hk；避免了由于扫描反射镜长期工作，出现稳定性差的现象，导致调焦调平检测装置对硅片表面离焦量的测量精度不高的问题。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及光学检测
，特别涉及一种。
技术介绍
投影光刻机是一种把掩模上的图案通过物镜投影到硅片上的装置，若想在硅片上得到具有较高精准度的投影图案时，必须用到自动调焦调平装置将硅片精确带入到指定的曝光位置。美国专利US4558949中就记载了一种调焦调平检测装置，如图1所示。所述调焦调平检测装置包括:照明单元(101)、投影狭缝(102)、第一平面反射镜(103)、第二平面反射镜(105)、扫描反射镜(106)、探测狭缝(107)、及光电探测器(108);其中，照明单元(101)出射的光，经投影狭缝(102)后由第一平面反射镜(103)反射至硅片表面(104)，形成投影光斑；硅片表面(104)将光反射至第二平面反射镜(105);从第二平面反射镜(105)出射的光入射至扫描反射镜(106)上；扫描反射镜(106)作周期性简谐振动，对光信号进行调制，以提高测量信号的信噪比；扫描反射镜(106)的出射光经探测狭缝(107)，入射到光电探测器(108)上，光电探测器(108)再根据所接收到的光强大小输出相应的电压信号。由于扫描反射镜(106)的调制作用，光电探测器(108)最终输出的为周期性的动态电压信号。最后，通过对该动态电压信号结合扫描反射镜的反馈方波进行分析处理，实现硅片表面(104)离焦量的探测。而扫描反射镜作为调焦调平系统的调制基准，由于其长期处于工作状态，受温度，气压，湿度等因素的影响，常常出现扫描反射镜的运行稳定性差的现象，从而导致调焦调平检测装置对硅片表面离焦量的测量精度不高的问题。图2为扫描反射镜在理想振幅和实际振幅时，解调量与离焦量之间关系曲线。如图2所示是采用了相位之差探测法，由图中可以明显看出扫描反射镜振幅的稳定性对离焦量的探测影响很大。因此，相位之差探测法存在一定的局限性。为了提高调焦调平检测装置对硅片表面离焦量的测量精度，本领域技术人员一直在寻找满足这一需求的解决方法。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种，以解决使用现有技术中由于扫描反射镜长期工作，使得其运行稳定性差，致使调焦调平检测装置对硅片表面离焦量的测量精度不高的问题。为解决上述技术问题，本专利技术提供一种振幅监测系统，所述振幅监测系统包括:扫描反射镜、及驱动所述扫描反射镜做简谐运动的控制模块；其中，所述扫描反射镜上设置有光栅尺；所述光栅尺用于测量所述扫描反射镜的实时振动角度。可选的，在所述的振幅监测系统中，所述光栅尺包括标尺光栅及与所述标尺光栅配合使用的光栅读数头。可选的，在所述的振幅监测系统中，所述扫描反射镜的振动轴上刻蚀有所述标尺光栅。可选的，在所述的振幅监测系统中，所述控制模块通过驱动线驱动扫描反射镜以固定的频率振动，所述光栅读数头用于读取所述扫描反射镜的实时振动角度，然后通过反馈线反馈到控制模块。本专利技术提供还提供一种调焦调平装置，用于探测工件台的离焦量，所述调焦调平装置包括:如上所述的振幅监测系统，还包括照明单元、投影狭缝、反射镜、探测狭缝、光电探测器以及信号处理器，所述扫描反射镜用于作周期性简谐振动，从而对光信号进行调制。本专利技术提供还提供一种离焦量探测方法，所述离焦量探测方法采用如上所述的调焦调平装置，所述扫描反射镜对光信号进行调制后由所述光电探测器接收，然后由所述信号处理器进行信号解调以及解调量的补偿，包括如下步骤:步骤一、调整扫描反射镜的振幅处于理论振幅，并记录此时光电探测器输出的理论电压值；步骤二、调整所述扫描反射镜的振幅，采样扫描反射镜的实时振幅以及光电探测器输出的实时电压值，计算出补偿后的实时解调量Si，同时步进工件台，并记录工件台的实时离焦量Hi ；步骤三、工件台步进结束后，根据所述补偿后的实时解调量Si和工件台的实时离焦量Hi建立数据库；步骤四、实际测量时，实时采样所述扫描反射镜的实际振幅以及光电探测器输出的实际电压值，计算出补偿后的实际解调量Sk，利用线性插值法查找所述数据库，求出工件台的实际离焦量Hk。可选的，在所述的离焦量探测方法中，步骤二中所述步进工件台之前，先将工件台移动到正离焦极限位置或负离焦极限位置。可选的，在所述的离焦量探测方法中，步骤三中所述建立数据库时，选取所述实时解调量Si与实时离焦量Hi成线性关系的数值来建立。可选的，在所述的离焦量探测方法中，所述扫描反射镜的振幅Θ均通过采样扫描反射镜的的摆角α和β获得，即Θ = I α-β |/2，其中所述a和β分别对应扫描反射镜的反馈方波为上升沿和下降沿时的摆角；所述光电探测器输出的电压值均包括电压值A和B，分别对应扫描反射镜的反馈方波为上升沿和下降沿时光电探测器输出的电压值。可选的，在所述的离焦量探测方法中，所述步骤二中调整所述扫描反射镜的振幅，采样扫描反射镜的实时振幅以及光电探测器输出的实时电压值，计算出补偿后的实时解调量Si具体为:以扫描反射镜的理论振幅Θ O为中心，单步调整扫描反射镜的振幅，使其从振幅下限变化到振幅上限，在每一步中采样当前扫描反射镜的实时振幅Θ i以及光电探测器输出的实时电压值Ai和Bi ；求出Mi= Θ i/ΘΟ，以及 Ni = (Ai+Bi)/(A0+B0)，以 Mi 为自变量，Ni 为因变量，拟合多项式Ni = f (Mi)，其中，AO和BO为光电探测器输出的理论电压值；根据所述Θ i, Ai, Bi, Θ O, AO, BO以及多项式的系数，计算出补偿后的实时解调量Si = (A1-Bi) *f( Θ i/ Θ 0)/(Ai+Bi)。在本专利技术所提供的中，调整所述扫描反射镜的振幅，采样扫描反射镜的实时振幅以及光电探测器输出的实时电压值，计算出补偿后的实时解调量Si，并记录工件台的实时离焦量Hi，根据所述补偿后的实时解调量Si和工件台的实时离焦量Hi建立数据库；实际测量时，实时采样所述扫描反射镜的实际振幅以及光电探测器输出的实际电压值，计算出补偿后的实际解调量Sk，利用线性插值法查找所述数据库，求出工件台的实际离焦量Hk;避免了由于扫描反射镜长期工作，出现稳定性差的现象，导致调焦调平检测装置对硅片表面离焦量的测量精度不高的问题。【附图说明】图1为美国专利US4558949中记载的调焦调平检测装置；图2为扫描反射镜在理想振幅和实际振幅时，解调量与离焦量之间关系曲线；图3为振幅监测系统结构简图；图4为扫描反射镜调制下，不同时刻光斑与狭缝之间的相对关系图；图5为扫描反射镜的反馈方波、光电探测器输出的实时电压值及扫描反射镜的实时振幅Θ i之间的关系仿真图；图6为本专利技术一实施例中离焦量探测方法的流程图；图7为利用调焦调平装置计算出补偿后的实时解调量Si的流程图；图8为建立数据库的流程图；图9为利用离焦量探测方法前后离焦量的精度对比图。【具体实施方式】以下结合附图和具体实施例对本专利技术提出的作进一步详细说明。根据下面说明和权利要求书，本专利技术的优点和特征将更清楚。需说明的是，附图均采用非常简化的形式且均使用非精准的比例，仅用以方便、明晰地辅助说明本专利技术实施例的目的。请参考图3，其为本专利技术中振幅监测系统结构简图，如图3所示，所述的振幅监测系统，包括:扫描反射镜201、及驱动所述扫描反射镜201做简谐运动的控制模块200 ;其中，所述扫描反射镜201上设置有光栅尺204 ;所述光栅尺204用于测量所述本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种振幅监测系统，其特征在于，包括：扫描反射镜、及驱动所述扫描反射镜做简谐运动的控制模块；其中，所述扫描反射镜上设置有光栅尺；所述光栅尺用于测量所述扫描反射镜的实时振动角度。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：庄亚政，
申请(专利权)人：上海微电子装备有限公司，
类型：发明
国别省市：上海;31
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。