一种用于测量侧面或内部结构的视觉成像测量系统技术方案

技术编号:13482270 阅读:83 留言:0更新日期:2016-08-06 04:11
本实用新型专利技术公开了一种用于测量侧面或内部结构的视觉成像测量系统,包括:控制系统;工作台;第一导轨组件,该第一导轨组件包括固接于工作台上的左支座与右支座、第一导轨;测量组件,其可沿第一导轨往复滑移;设于所述工作台之上的自动上下料组件;以及至少一个载具组件,其中,所述载具组件设有用于偏转待测物侧面或内部结构光线的光偏转器,所述测量组件、自动上下料组件、以及载具组件与所述控制系统电连接。本实用新型专利技术具有确保在载具组件中设置光偏转器来提高对待测物特别是对尺寸结构细小、复杂的待测物侧面及内部结构的测量精度,并且提高测量成功率,减少测量时间,提高测量效率有益效果。

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本技术公开了一种用于测量侧面或内部结构的视觉成像测量系统,包括:控制系统;工作台;第一导轨组件,该第一导轨组件包括固接于工作台上的左支座与右支座、第一导轨;测量组件,其可沿第一导轨往复滑移;设于所述工作台之上的自动上下料组件;以及至少一个载具组件,其中,所述载具组件设有用于偏转待测物侧面或内部结构光线的光偏转器,所述测量组件、自动上下料组件、以及载具组件与所述控制系统电连接。本技术具有确保在载具组件中设置光偏转器来提高对待测物特别是对尺寸结构细小、复杂的待测物侧面及内部结构的测量精度,并且提高测量成功率,减少测量时间,提高测量效率有益效果。【专利说明】一种用于测量侧面或内部结构的视觉成像测量系统
本技术涉及一种非接触式视觉成像尺寸测量系统,更具体地,涉及一种用于测量侧面或内部结构的视觉成像测量系统。
技术介绍
非接触式尺寸测量装置以光电、电磁、超声波等技术为基础,在仪器的测量元件不与被测物体表面接触的情况下,即可获得被测物体的各种外表或内在的尺寸数据特征。非接触式尺寸测量系统与传统的接触式测距系统相比精度更高、操作更方便、安全系数更高、洁净度高、测量过程中对被测物的污染程度小,从而被应用于工业生产及科学研究的多个领域。典型的非接触式尺寸测量方法如激光三角法、电涡流法、超声测量法、视觉成像测量法、超声波测量法等等,其中视觉成像测量法是指通过机器视觉产品(即图像摄取装置,分CMOS相机和CCD相机两种,CMOS相机像素较高,大约为2500万像素,CCD相机像素较低,大约为150万像素)将被摄取目标转换成图像信号,传送给专用的图像处理系统,根据像素分布和亮度、颜色等信息,转变成数字化信号,图像系统对这些信号进行各种运算来抽取目标的特征,进而根据判别的结果来控制现场的设备动作,在测量缺陷和防止缺陷产品被配送到消费者的功能方面具有不可估量的价值。现有技术中的视觉成像测量系统对于待测物表面及内部的复杂结构形状的测量具有一定的局限性:首先,由于复杂结构的小尺寸待测物的结构比较复杂,放置在载具上比较难以夹紧,或者夹紧过程中花费时间过长,又或者虽然夹紧了待测物,但是例如夹具、载具又会对环境光的照射产生遮挡,从而对待测物的成像质量产生影响;其次,对于侧面及内部具有复杂结构的待测物进行测量时,由于测量组件的相机镜头相比待测物来说尺寸较大,相机镜头不能够充分深入到待测物的侧面或内部进行拍照测量,从而使得测量小尺寸的待测物的侧面或内部尺寸并没有比较有效的解决方法。
技术实现思路
针对上述技术中存在的不足之处,本技术的目的是提供一种用于测量侧面或内部结构的视觉成像测量系统,对现有的非接触式测量系统进行优化改进,确保在载具组件中设置光偏转器来提高对待测物特别是对尺寸结构细小、复杂的待测物侧面及内部结构的测量精度,并且提高测量成功率,减少测量时间,提高测量效率。为了实现根据本技术的这些目的和其他优点,提供了一种用于测量侧面或内部结构的视觉成像测量系统,其特征在于,包括:控制系统;工作台;设于所述工作台上的第一导轨组件,该第一导轨组件包括固接于所述工作台上的左支座与右支座、以及跨接于所述左支座与右支座之间的第一导轨;设于所述第一导轨上的测量组件,该测量组件可沿所述第一导轨来回往复地滑移;设于所述工作台之上、第一导轨之下、及左支座与右支座之间的自动上下料组件;以及设于所述自动上下料组件旁侧的至少一个用于夹紧待测物且具有良好透光性的载具组件,其中,所述载具组件设有用于偏转待测物侧面或内部结构光线的光偏转器,所述测量组件、自动上下料组件、以及载具组件与所述控制系统电连接。优选的是,所述载具组件包括:设于所述自动上下料组件旁侧且与所述第二导轨相平行的第四导轨;以及设于所述第四导轨上的载具,该载具可沿所述第四导轨来回往复滑动,其中,所述载具包括与所述第四导轨滑动连接的载具基座以及设于该载具基座上的夹具支座、夹具压头、载盘组件、以及设于所述载具基座下用于驱动所述夹具压头的旋转气缸。优选的是,所述载盘组件包括设于所述夹具压头正下方的用于放置待测物的待测物载盘、以及设于所述待测物载盘旁侧的至少一个光偏转器载盘,所述光偏转器包括第一光偏转器与第二光偏转器,所述光偏转器载盘上设有第一光偏转器,所述待测物载盘上设有至少一个第二光偏转器。优选的是,所述载具组件设有两个,且关于所述自动上下料组件对称设置。优选的是,所述光偏转器载盘设有两个,分别设于所述待测物载盘的左右两侧,并关于所述待测物载盘对称设置。优选的是,所述夹具压头包括夹具主体与夹具爪部,所述夹具主体的中部附近与所述夹具支座枢接,而其末端附近由所述旋转气缸支撑并驱动,所述夹具主体的前端的左右两侧对称地固接有两个所述夹具爪部。优选的是,所述夹具爪部包括:与所述夹具主体固接的爪部基体;以及—体式地结合该爪部基体并沿所述爪部基体的前端向前延伸的爪部主体,其中,所述爪部主体的下表面一体式地连接有多个凸起部,相邻所述凸起部之间间隔有一定距离,每个所述凸起部的下表面与待测物的接触点处的尺寸特征相匹配。优选的是,所述光偏转器载盘呈“凸”字形的块状结构,所述光偏转器为三棱柱状的三棱镜,所述光偏转器载盘包括:形成于其凸台上的、并与所述待测物载盘相对处的第一斜面;以及布置在所述第一斜面底部的直线型槽部,其中,所述第一光偏转器的镜面与所述第一斜面相贴合,所述第一斜面将该第一光偏转器的镜面的底部棱角引导至所述槽部的预定位置。优选的是,所述待测物载盘呈“凸”字形的块状结构,所述待测物载盘包括:形成于其凸台上边缘、并与所述光偏转器载盘相对处的多个待测物放置槽;以及形成于其凸台上中心处的至少一个第二斜面,其中,所述第二光偏转器的镜面与所述第二斜面相贴合,待测物则放置于所述待测物放置槽中。本技术与现有技术相比,其有益效果是: 1.由于所述载具组件包括:设于所述自动上下料组件旁侧且与所述第二导轨相平行的第四导轨、以及设于所述第四导轨上的载具,该载具可沿所述第四导轨来回往复滑动,从而使得所述载具组件可以通过调节前后位置来与所述测量组件相配合,提高测量精度;2.由于所述载盘组件包括设于所述夹具压头正下方的用于放置待测物的待测物载盘、以及设于所述待测物载盘旁侧的至少一个光偏转器载盘,其中,光偏转器载盘上设有光第一光偏转器,待测物载盘上设有第二光偏转器,光偏转器的是按一定规律改变光束在空间传播方向的器件,在本技术中,所述光偏转器均为呈三棱柱形的三棱镜,主要作用是将待测物侧面及待测物内部结构的视角偏转到上方来,以便于位于所述载具组件正上方的测量组件进行测量;3.由于所述夹具爪部包括:与所述夹具主体固接的爪部基体、以及一体式地结合该爪部基体并沿爪部基体的前端向前延伸的爪部主体,其中,所述爪部主体的下表面一体式地连接有多个凸起部,相邻所述凸起部之间间隔有一定距离,每个所述凸起部的下表面与待测物的接触点处的尺寸特征相匹配,从而使得所述夹具主体既可以通过多个凸起部将待测物夹紧,又可以通过相邻凸起部之间的间距允许足够的光线通过,以至于待测物内部能够得到充分光线照射,从而获得成像质量高的测量图片;4.由于所述光偏转器载盘包括:形成于其凸台上的并与所述待测物载盘相对处的第一斜面、以及布置在所述第一本文档来自技高网
...

【技术保护点】
一种用于测量侧面或内部结构的视觉成像测量系统,其特征在于,包括:控制系统;工作台;设于所述工作台上的第一导轨组件,该第一导轨组件包括固接于所述工作台上的左支座与右支座、以及跨接于所述左支座与右支座之间的第一导轨;设于所述第一导轨上的测量组件,该测量组件可沿所述第一导轨来回往复地滑移;设于所述工作台之上、第一导轨之下、及左支座与右支座之间的自动上下料组件;以及设于所述自动上下料组件旁侧的至少一个用于夹紧待测物且具有良好透光性的载具组件,其中,所述载具组件设有用于偏转待测物侧面或内部结构光线的光偏转器,所述测量组件、自动上下料组件、以及载具组件与所述控制系统电连接。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:吴加富缪磊郭康泰
申请(专利权)人:苏州富强科技有限公司
类型:新型
国别省市:江苏;32

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1