一种真空传输装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种真空传输装置，包括：真空传输系统、真空传输压力调节系统和真空传输温度调节系统；其中，所述真空传输系统，用于真空传输平台提供高真空度；所述真空传输压力调节系统，用于真空传输平台提供稳定的真空度及调节压力；所述真空传输温度调节系统，用于真空传输平台工作环境提供稳定的温度。本发明专利技术采用真空传输系统、以及稳定真空传输平台真空度的真空传输压力调节系统，以及稳定真空传输平台环境温度的真空传输温度调节系统；真空传输系统有益于高真空度及高洁净度的获得，真空传输压力调节系统有益于真空度稳定及调节，真空传输温度调节系统有益于真空传输平台传输环境温度的稳定，从而有效提高半导体产品合格率。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及半导体制造
，特别涉及一种用于真空传输平台的真空传输装置。
技术介绍
目前，全球半导体消费市场和产业增长速度十分迅猛，尤其是，国内的半导体消费市场和产业增长速度是全球的10倍多。随着半导体行业极其激烈的竞争，半导体产业越来越需要极大规模的集成化，并伴随着半导体行业要求越来越高的产品合格率。现有半导体制造过程中，有效提高半导体制造过程中的洁净度以及稳定半导体制造过程环境的温度，可以有效提高半导体的产品合格率。
技术实现思路
本专利技术旨在克服现有真空传输平台的缺陷，实现稳定的高真空度，高洁净度，控制容易，提供一种真空传输装置。为实现上述目的，本专利技术采用以下技术方案：本专利技术提供一种真空传输装置，包括：真空传输系统、真空传输压力调节系统和真空传输温度调节系统；其中，所述真空传输系统，用于真空传输平台提供高真空度；所述真空传输压力调节系统，用于真空传输平台提供稳定的真空度及调节压力；所述真空传输温度调节系统，用于真空传输平台工作环境提供稳定的温度。一些实施例中，所述真空传输系统包括LoadLockA腔室、LoadLockB腔室、真空传输腔室、真空规、真空压力计、真空抽气管路、气动抽气角阀，所述LoadLockA腔室、LoadLockB腔室和真空传输腔室为独立的三个腔室，所述真空抽气管路分别通过所述气动抽气角阀控制抽取所述三个腔室，所述三个腔室分别与所述真空规和真空压力计连接。一些实施例中，所述真空传输系统还包括机械无油干泵和低温泵，所述机械无油干泵通过所述抽气管路分别连接所述LoadLockA腔室、LoadLockB腔室和真空传输腔室；所述低温泵连接所述真空传输腔室。一些实施例中，还包括大气传输系统，所述大气传输系统通过LLA大气门阀和LLB大气门阀与所述LoadLockA腔室、LoadLockB腔室连通和隔离。一些实施例中，大气手将半导体由洁净度等级达到百级的大气传输系统传输到LoadLockA腔室中缓存；LoadLockA腔室由机械无油干泵抽取前级真空；通过真空手将半导体由LoadLockA腔室传输到真空传输腔室；真空传输腔室由低温泵抽取高真空；由真空手将半导体传输进入工艺腔进行加工。一些实施例中，所述真空传输压力调节系统包括纯净氮气气源、充气管路及充气气阀，所述充气气阀设置在充气管路上，所述纯净氮气气源与充气管路连接，所述充气管路分别连接LoadLockA腔室、LoadLockB腔室和真空传输腔室。一些实施例中，所述充气管路上设置氮气总管路手动阀控制总管路氮气的通断，所述充气管路的主管路上设置有压力计。一些实施例中，所述真空传输温度调节系统包括工业纯水冷却水水源、冷却水管路、开关球阀和流量温度传感器，所述开关球阀和流量温度传感器设置在冷却水管路上，所述冷却水管路与工业纯水冷却水水源连接；所述工业纯水冷却水水源，用于提供冷却水水源；所述冷却水管路，用于提供供水管路；所述开关球阀，用于控制冷却水开关及其流量大小；所述流量温度传感器，用于检测冷却水温度及即时流量。本专利技术的有益效果在于：采用真空传输系统、以及稳定真空传输平台真空度的真空传输压力调节系统，以及稳定真空传输平台环境温度的真空传输温度调节系统；真空传输系统有益于高真空度及高洁净度的获得，真空传输压力调节系统有益于真空度稳定及调节，真空传输温度调节系统有益于真空传输平台传输环境温度的稳定，从而有效提高半导体产品合格率。附图说明图1示意性示出根据本专利技术一个实施例的真空传输装置的示意图。图2示意性示出根据本专利技术一个实施例的空传输压力调节系统的示意图。图3示意性示出根据本专利技术一个实施例的真空传输温度调节系统的示意图。具体实施方式为了使本专利技术的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及具体实施例，对本专利技术进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅用以解释本专利技术，而不构成对本专利技术的限制。本专利技术提供一种真空传输装置，包括：真空传输系统、真空传输压力调节系统和真空传输温度调节系统；其中，所述真空传输系统，用于真空传输平台提供高真空度；所述真空传输压力调节系统，用于真空传输平台提供稳定的真空度及调节压力；所述真空传输温度调节系统，用于真空传输平台工作环境提供稳定的温度。本专利技术真空传输系统有益于高真空度及高洁净度的获得，真空传输压力调节系统有益于真空度稳定及调节，真空传输温度调节系统有益于真空传输平台传输环境温度的稳定，从而有效提高半导体产品合格率。所述真空传输系统包括LoadLockA腔室、LoadLockB腔室、真空传输腔室、真空规、真空压力计、真空抽气管路、气动抽气角阀，所述LoadLockA腔室、LoadLockB腔室和真空传输腔室为独立的三个腔室，三个腔室的真空度的监测，易于提供三个腔室不同的真空度，以及三个腔室真空密封的检漏。所述真空抽气管路分别通过所述气动抽气角阀控制抽取所述三个腔室，所述三个腔室分别与所述真空规和真空压力计连接。所述真空传输系统还包括提供前级真空的机械无油干泵和提供高真空的低温泵，所述机械无油干泵通过所述抽气管路分别连接所述LoadLockA腔室、LoadLockB腔室和真空传输腔室；所述低温泵连接所述真空传输腔室。大气手将半导体由洁净度等级达到百级的大气传输系统传输到LoadLockA腔室中缓存；LoadLockA腔室由机械无油干泵抽取前级真空，使半导体的传输环境洁净度提高；通过真空手将半导体由LoadLockA腔室传输到真空传输腔室；真空传输腔室由低温泵抽取高真空，使半导体的传输环境洁净度得到极大提高；由真空手将半导体传输进入工艺腔进行加工。所述真空传输压力调节系统包括纯净氮气气源、充气管路及充气气阀，所述充气气阀设置在充气管路上，所述纯净氮气气源与充气管路连接，所述充气管路分别连接LoadLockA腔室、LoadLockB腔室和真空传输腔室。纯净氮气气源吹扫三个腔室达到洁净目的，纯净氮气气源与机械无油干泵及低温泵配合得到稳定的真空度。三个腔室之间阀门的两侧需一定的压力差，即一定的真空度差，通过纯净氮气气源与机械无油干泵及低温泵配合获得。所述真空传输温度调节系统包括工业纯水冷却水水源、冷却水管路、开关球阀和流量温度传感器，所述开关球阀和流量温度传感器设置在冷却水本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种真空传输装置，其特征在于，包括：真空传输系统、真空传输压力调节系统和真空传输温度调节系统；其中，所述真空传输系统，用于真空传输平台提供高真空度；所述真空传输压力调节系统，用于真空传输平台提供稳定的真空度及调节压力；所述真空传输温度调节系统，用于真空传输平台工作环境提供稳定的温度。

【技术特征摘要】
1.一种真空传输装置，其特征在于，包括：真空传输系统、真
空传输压力调节系统和真空传输温度调节系统；
其中，所述真空传输系统，用于真空传输平台提供高真空度；
所述真空传输压力调节系统，用于真空传输平台提供稳定的真空
度及调节压力；
所述真空传输温度调节系统，用于真空传输平台工作环境提供稳
定的温度。
2.如权利要求1所述的真空传输装置，其特征在于，所述真空
传输系统包括LoadLockA腔室、LoadLockB腔室、真空传输腔室、
真空规、真空压力计、真空抽气管路、气动抽气角阀，
所述LoadLockA腔室、LoadLockB腔室和真空传输腔室为独立
的三个腔室，所述真空抽气管路分别通过所述气动抽气角阀控制抽取
所述三个腔室，所述三个腔室分别与所述真空规和真空压力计连接。
3.如权利要求2所述的真空传输装置，其特征在于，所述真空
传输系统还包括机械无油干泵和低温泵，所述机械无油干泵通过所述
抽气管路分别连接所述LoadLockA腔室、LoadLockB腔室和真空传
输腔室；所述低温泵连接所述真空传输腔室。
4.如权利要求3所述的真空传输装置，其特征在于，还包括大
气传输系统，所述大气传输系统通过LLA大气门阀和LLB大气门阀
与所述LoadLockA腔室、LoadLockB腔室连通和隔离。
5.如权利要求4所述的真空传...

【专利技术属性】
技术研发人员：李学威，赵治国，边弘晔，何书龙，曲征辉，管莉娜，
申请(专利权)人：沈阳新松机器人自动化股份有限公司，
类型：发明
国别省市：辽宁;21