磁控溅射镀膜设备制造技术

本发明专利技术公开了一种磁控溅射镀膜设备，包括设置于相对两侧的驱动端、由驱动端驱动的旋转靶、及遮蔽驱动端和旋转靶以形成真空镀膜室的壳体；驱动端包括支撑座、插接于支撑座的驱动轴、及设置于驱动轴内的磁钢支撑轴；磁钢支撑轴的一端伸入驱动轴的中心轴孔内，磁钢支撑轴的另一端伸出驱动轴的中心轴孔以连接旋转靶；磁钢支撑轴伸入驱动轴的中心轴孔，且伸入驱动轴中心轴孔的部分磁钢支撑轴沿轴向的两端侧与驱动轴中心轴孔的内壁之间分别设置有支撑轴承件。该磁控溅射镀膜设备通过改善驱动端的内部结构，减少磁钢支撑轴变形的情况，从而避免定位不稳的旋转靶内的磁钢和靶筒发生磁撞磨擦的情况，避免旋转靶及其驱动端受损。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种玻璃镀膜设备，尤其涉及一种采用溅射实现对玻璃镀膜的磁控溅射镀膜设备。
技术介绍
用于生产镀膜玻璃的磁控溅射镀膜设备，包括位于两侧的驱动端、由驱动端所驱动的旋转靶、及真空镀膜室。磁控溅射镀膜设备通过电场和磁场的作用，在真空镀膜室内对旋转靶进行溅射，以于玻璃表面沉积薄膜层形成镀膜。现有的驱动端通常通过驱动端六角轴驱动旋转靶转动。驱动端头构造复杂，在长时间使用后，用于连接旋转靶的磁钢支撑轴磨损，容易产生磁钢与靶筒磁撞磨擦的情况，影响旋转靶的生产均匀性，损坏旋转靶驱动部件。为此，需要一种对磁控溅射镀膜设备进行改进，以简化驱动端结构、提高驱动端的结构稳定性，从而降低旋转靶驱动故障率，保证镀膜工序的正常进行。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种对磁控溅射镀膜设备进行改进，以简化驱动端结构、提高驱动端的结构稳定性，从而降低旋转靶驱动故障率，保证镀膜工序的正常进行。为了实现上述目的，本专利技术公开了一种磁控溅射镀膜设备，包括设置于相对两侧的驱动端、由所述驱动端驱动的旋转靶、及遮蔽所述驱动端和所述旋转靶以形成真空镀膜室的壳体；所述驱动端包括支撑座、插接于所述支撑座的驱动轴、及设置于所述驱动轴内的磁钢支撑轴；所述磁钢支撑轴的一端伸入所述驱动轴的中心轴孔内，所述磁钢支撑轴的另一端伸出所述驱动轴的中心轴孔以连接所述旋转靶；所述磁钢支撑轴轴向长度的3/4以上伸入所述驱动轴的中心轴孔，且伸入所述驱动轴中心轴孔的部分所述磁钢支撑轴沿轴向的两端侧与所述驱动轴中心轴孔的内壁之间分别设置有支撑轴承件。与现有技术相比，本专利技术提供的磁控溅射镀膜设备，磁钢支撑轴轴向长度的3/4以上伸入驱动轴的中心轴孔内，且伸入驱动轴中心轴孔的部分磁钢支撑轴的两端侧与所述驱动轴中心轴孔的内壁之间分别设置有支撑轴承件，因而磁钢支撑轴的轴向定位非常可靠，且磁钢支撑轴与驱动轴的中心轴孔之间为滚动摩擦，因而磁钢支撑轴虽随旋转靶发生转动，但被轴承支撑件定位的磁钢支撑轴与驱动轴的中心轴孔的摩擦力比较小，磁钢支撑轴不容易发生磨损。根据本发明提供的磁控溅射镀膜设备，通过改善驱动端的内部结构，减少磁钢支撑轴变形的情况，从而避免定位不稳的旋转靶内的磁钢和靶筒发生磁撞磨擦的情况，避免旋转靶及其驱动端受损。较佳的，伸入所述驱动轴中心轴孔的部分所述磁钢支撑轴的轴向长度占所述驱动轴中心轴孔轴向长度的2/3以上；通过延长磁钢支撑轴的长度，使得伸入支撑轴中心轴孔的部分磁钢支撑轴的长度亦较长，从而进一步提高磁钢支撑轴相对驱动轴的定位稳定性。较佳的，伸入所述驱动轴中心轴孔的部分所述磁钢支撑轴套设有隔套；所述隔套的两端分别与两端侧的支撑轴承件相接，且所述隔套的外壁与所述驱动轴中心轴孔的内壁之间呈间隔设置；通过设置隔套、且隔套的外壁与驱动轴中心轴孔的内壁之间呈间隔设置，进一步减少磁钢支撑轴与驱动轴中心轴孔的接触，同时减少磁钢支撑轴因长时间使用而受损。具体地，所述支撑轴承件相对所述隔套呈对称设置。较佳的，所述磁钢支撑轴和所述驱动轴中心轴孔的内壁之间还设置有密封圈，所述密封圈用于隔阻所述驱动轴中心轴孔和所述真空镀膜室；所述密封圈设置于所述磁钢支撑轴朝向所述旋转靶的一端，且位于所述驱动轴中心轴孔内相对所述支撑轴承件朝向所述旋转靶的外侧；密封圈的设置，隔阻驱动轴中心轴孔和真空镀膜室，以使得真空镀膜室形成于被壳体笼罩的旋转靶外壁和密封圈之间，使得真空镀膜室内带正电的等离子体和被等离子体碰撞出来的镀膜材料不至溅射到密封圈外的驱动轴中心轴孔内。具体地，所述磁钢支撑轴上还设置有限制所述磁钢支撑轴轴向移动的卡簧。较佳的，所述驱动轴中心轴孔的一端呈开口状以供所述磁钢支撑轴伸出，所述驱动轴中心轴孔的另一端呈封闭状态。具体地，所述驱动轴中心轴孔远离所述磁钢支撑轴的一端被封头螺母遮蔽。较佳的，所述磁钢支撑轴呈一体结构；一体结构的磁钢支撑轴具有较佳的强度和一致性。较佳的，所述磁钢支撑轴伸出所述驱动轴中心轴孔的一端设置有用于连接所述旋转靶的卡接端。附图说明图1为本专利技术磁控溅射镀膜设备的结构示意图。图2为本专利技术磁控溅射镀膜设备的内部结构示意图。图3为驱动端的结构示意图。图4为驱动端另一角度上的结构示意图。图5为驱动端的剖面示意图。具体实施方式为详细说明本专利技术的
技术实现思路
、构造特征、所实现目的及效果，以下结合实施方式并配合附图详予说明。如图1和图2所示，本专利技术提供的磁控溅射镀膜设备，包括设置于相对两侧的驱动端200、由驱动端200驱动的旋转靶300、及遮蔽驱动端200和旋转靶300以形成真空镀膜室的壳体400。需要镀膜的玻璃置于真空镀膜室内，真空镀膜室内的高纯工艺气体在电磁场及游离电子的作用下形成带正电的等离子体并轰击旋转靶300，将旋转靶300表面的镀膜材料被等离子体碰撞出来并沉积在玻璃上形成镀膜层。结合图3-图5所示，更具体地：如图1和图2所示，本专利技术提供的磁控溅射镀膜设备，包括机架100、固定设置于机架100上相对两端侧的驱动端200、两端分别连接至驱动端200并由驱动端200驱动旋转的旋转靶300、及遮蔽驱动端和旋转靶300的壳体400。如图2所示，旋转靶300包括靶筒和磁钢(图中均未示)；其中，靶筒呈圆筒状，且靶筒的外表面涂布有靶材材料层，带正电的等离子体在电磁场作用下轰击旋转靶300时，涂布于靶筒外表面的靶材材料层被等离子体碰撞出来；磁钢设置于靶筒的中空腔体中，磁钢的设置用于对旋转靶300提供一磁性增强的阴极，提供用于磁性增强溅射的磁场，以控制带正电的等离子体轰击旋转靶300。再请结合图2-图4所示，驱动端200包括支撑座210、插接于支撑座210的驱动轴220、及设置于驱动轴220内的磁钢支撑轴230。其中，支撑座210固定设置于机架100，且至少一侧的支撑座210沿直线方向开设有安装孔，安装孔的孔径呈六角状；呈六角状的驱动轴220插接于安装孔内，置于驱动轴220中空轴孔221内的磁钢支撑轴230朝向相对的另一支撑座210的方向伸出驱动轴220的中空轴孔221。在本实施例中，支撑座210共计有四个，四个支撑座210两两相对地设置于机架100的两端侧；相对的两驱动端200共同定位一旋转靶300。相对设置的两驱动端200用于定位旋转靶300，并驱动旋转靶300转动。应当理解的，相对设置的两驱动端200中，可以一者为主动端、一者为从动端。本实施例中所称的驱动端200，实质为主本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种磁控溅射镀膜设备，包括设置于相对两侧的驱动端、由所述驱动端驱动的旋转靶、及遮蔽所述驱动端和所述旋转靶以形成真空镀膜室的壳体；其特征在于：所述驱动端包括支撑座、插接于所述支撑座的驱动轴、及设置于所述驱动轴内的磁钢支撑轴；所述磁钢支撑轴的一端伸入所述驱动轴的中心轴孔内，所述磁钢支撑轴的另一端伸出所述驱动轴的中心轴孔以连接所述旋转靶；所述磁钢支撑轴轴向长度的3/4以上伸入所述驱动轴的中心轴孔，且伸入所述驱动轴中心轴孔的部分所述磁钢支撑轴沿轴向的两端侧与所述驱动轴中心轴孔的内壁之间分别设置有支撑轴承件。

【技术特征摘要】
1.一种磁控溅射镀膜设备，包括设置于相对两侧的驱动端、由所述驱动端驱动的
旋转靶、及遮蔽所述驱动端和所述旋转靶以形成真空镀膜室的壳体；其特征在
于：所述驱动端包括支撑座、插接于所述支撑座的驱动轴、及设置于所述驱动
轴内的磁钢支撑轴；所述磁钢支撑轴的一端伸入所述驱动轴的中心轴孔内，所
述磁钢支撑轴的另一端伸出所述驱动轴的中心轴孔以连接所述旋转靶；所述磁
钢支撑轴轴向长度的3/4以上伸入所述驱动轴的中心轴孔，且伸入所述驱动轴中
心轴孔的部分所述磁钢支撑轴沿轴向的两端侧与所述驱动轴中心轴孔的内壁之
间分别设置有支撑轴承件。
2.如权利要求1所述的磁控溅射镀膜设备，其特征在于：伸入所述驱动轴中心轴
孔的部分所述磁钢支撑轴的轴向长度占所述驱动轴中心轴孔轴向长度的2/3以
上。
3.如权利要求1所述的磁控溅射镀膜设备，其特征在于：伸入所述驱动轴中心轴
孔的部分所述磁钢支撑轴套设有隔套；所述隔套的两端分别与两端侧的支撑轴
承件相接，且所述隔套的外壁与所述驱动轴中心轴孔的内壁之间呈间隔设置。
4.如权利要求3所述的磁控溅射镀膜设备，其特征在于：所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：谢守荣，余华骏，叶光岱，陈游，黄颖，
申请(专利权)人：东莞南玻工程玻璃有限公司，中国南玻集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44