一种采用纳米压印工艺在基材表面加工CD纹的方法技术

本发明专利技术提供一种采用纳米压印工艺在基材表面加工CD纹的方法，包括如下步骤：1)制作母模、PDMS（聚二甲基硅氧烷）软模；2)涂布UV固化胶薄膜、烘烤；3)压印、UV固化、烘烤；4)刻蚀。所述方法提供一种在高精度的前提下，可加工大面积的CD纹，采用纳米压印工艺和干法或湿法刻蚀在基材表面加工出CD纹的方法。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种采用纳米压印工艺在基材表面加工CD纹的方法，其特征在于，包括如下步骤：制作母模、PDMS软模根据所加工CD纹规格不同，按照CD纹面积：母模面积=1：1的比例设计、制作母模，在母模表面形成与所述CD纹相对应的CD纹图形区域，母模通常选用石英或玻璃，用母模压制PDMS软模得到具有CD纹图形的PDMS软模；涂布UV固化胶薄膜、烘烤取基材，在基材表面均匀涂布一层UV固化胶薄膜，该UV固化胶薄膜厚度为10nm~50um；涂布完成后的基材在50~130℃温度下进行烘烤；压印、UV固化、烘烤取纳米压印设备，将步骤1)所得具有CD纹图形的PDMS软模放置于步骤2）处理后所得基材UV固化胶薄膜正上方，控制PDMS软模下降与基材充分接触并施加1~100N压力于PDMS软模，压印1~60s，打开位于PMDS软膜上方的UV灯透过PDMS软模照射基材上的UV固化胶薄膜使其固化，光照时长1s~300s，控制PDMS软模上升与基材分离，将PDMS软模上的CD纹图形转移到基材表面的UV固化胶薄膜上，将基材在50~130℃温度下进行烘烤；刻蚀在基材表面进行刻蚀处理，对未保留UV固化胶薄膜的基材表面进行刻蚀，保留UV固化胶薄膜的基材表面不被刻蚀，将步骤3)中在UV固化胶薄膜表面形成的CD纹图形转移至基材表面，在基材表面形成所述CD纹，去除保留的UV固化胶薄膜，完成所述采用纳米压印工艺在基材表面加工CD纹。...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：陈益军，李建勳，郑松森，
申请(专利权)人：南京京晶光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32