磁盘用基板和磁盘制造技术

提供一种不会在成膜后的主表面的磁性层上残存异物的磁盘用基板。一种磁盘用基板，其具备：第1倾斜面，其形成在基板的主表面的外侧；第2倾斜面，其连接所述第1倾斜面和基板的侧壁面；以及棱线，其由所述第1倾斜面和所述第2倾斜面形成，所述棱线设置在比所述主表面靠基板的厚度方向内侧的位置处。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】【专利摘要】提供一种不会在成膜后的主表面的磁性层上残存异物的磁盘用基板。一种磁盘用基板，其具备：第1倾斜面，其形成在基板的主表面的外侧；第2倾斜面，其连接所述第1倾斜面和基板的侧壁面；以及棱线，其由所述第1倾斜面和所述第2倾斜面形成，所述棱线设置在比所述主表面靠基板的厚度方向内侧的位置处。【专利说明】磁盘用基板和磁盘
本专利技术设及磁盘用基板和磁盘。
技术介绍
当前，在个人电脑或者DVD(Dig;Ual Versatile Disc:数码视象光碟)记录装置等 中，为了进行数据记录而内置有硬盘装置化DD:化rd Disk Drive)。在硬盘装置中，使用了 在基板上设置有磁性层的磁盘，利用在磁盘的面上略微悬浮的磁头对磁性层进行磁记录信 息的记录或读取。 为了在基板上形成磁性层，利用爪状的夹具把持住基板的端面的3~4处部位进行 保持，保持该状态将基板输送至成膜室，通过真空蒸锻法、瓣锻法、CV的去、I抓法等气相生长 法在基板的主表面上形成磁性层或保护层等薄膜。 在进行基板的把持或输送时，端面可能被摩擦而产生微小的缺口，从而产生灰尘 或者发生破裂，因此对基板的外周的端部实施倒角。例如，在专利文献1中记载了将基板的 主表面与倒角面所成的角度设定为48° W上且80° W下的技术。 在先技术文献 专利文献 专利文献1:日本特开平11-265506号公报
技术实现思路
[000引专利技术要解决的课题 如果利用夹具保持对外周部实施了倒角的基板的外周端部，并进行用于形成磁盘 的磁性膜等的成膜处理，则在基板的与夹具接触的接触部附近的主表面上检测出了异物。 因此，本专利技术的目的在于提供一种不会在成膜后的主表面上残存异物的磁盘用基 板。 用于解决问题的手段 在磁盘用基板中，在针对在与成膜时所使用的爪状的把持夹具(保持夹具)接触的 接触部的附近所检测出的异物进行分析后，确认到：异物的成分是在形成磁性层等时的膜 组成的成分。由于在异物的一部分中观察到了层叠结构，因此，在对夹具仔细观察后确认 到:在与基板抵接的抵接部处，堆积在夹具的表面上的膜组成的成分的一部分发生了剥落。 运可W认为是:在基板与夹具接触时，堆积在夹具上的磁性膜等剥落，剥落的磁性膜作为异 物附着(转移附着)在基板的主表面附近。下述情况被认为是上述现象的背景:近年，为了改 善生产效率，输送速度存在逐渐增加的倾向，为了防止输送时的基板落下，增强利用把持夹 具进行把持的力，或者使保持夹具的末端形成为V字型。 另外，还观察到如下运样的缺陷：该缺陷具有W与夹具的接触部为起点在磁盘的 主表面上呈放射状飞散运样的痕迹。详细进行分析，发现混合有用于磁盘的磁性膜或中间 层等的金属成分。关于其原因，判明了原因在于：由于在通过等离子CVD法或离子束淀积 (IBD)法形成类金刚石化LC)的保护膜时施加于基板的偏压，导致在保持夹具与磁盘的接触 点处发生了电弧放电。当前，为了关于保护膜实现薄膜化，上述的成膜方法成为主流，但是， 为了获得更致密的膜，发现偏压有增加的倾向。 运样，对于W往的基板，在倒角部处与保持夹具接触时，有时会发生各种故障。 在磁盘的生产中，在1个成膜装置中使用多个保持夹具依次保持送入的多个基板 并将它们输送至成膜室进行成膜。此时，存在运样的情况:严格来说，保持夹具的形状并非 全都相同，而是存在细微的差异。另外，由于保持夹具被重复使用，因此表面的状态根据距 离成膜开始的时间而变化。例如，如果膜组成的成分在夹具的表面上堆积的堆积量随着时 间的经过而增加，则在夹具与基板接触时，所堆积的膜组成的成分容易作为异物而剥落。由 于运些复杂的原因，每个基板与保持夹具的接触点的位置或者所剥落的异物会产生偏差。 本【专利技术人】发现:在接触点处于基板的主表面附近的情况下，上述问题变得显著，并且发现： 通过对端部的形状进行研究，能够消除接触点的位置的随机摆动，从而缓解上述问题。 为了解决上述课题，本专利技术的第一形态是磁盘用基板，其特征在于，所述磁盘用基 板具备:第1倾斜面，其与基板的主表面的外侧轮廓线相连接;第2倾斜面，其连接所述第1倾 斜面和基板的侧壁面；W及棱线，其由所述第1倾斜面和所述第2倾斜面形成，所述棱线设置 在比所述主表面靠基板的厚度方向内侧的位置处。 优选的是，在设所述主表面与所述第1倾斜面所成的纯角为Θ1时，130° 170。。 优选的是，在设所述第1倾斜面与所述第2倾斜面所成的纯角为Θ3时，110° 170。。 优选的是，在设所述第2倾斜面与基板的侧壁面所成的纯角为Θ4时，130°^ Θ3^ 170。。 优选的是，从所述主表面的外侧轮廓线至所述棱线为止的径向距离在lOymW上。 优选的是，所述棱线相对于所述主表面在基板的厚度方向上的距离为10皿W上。 本专利技术的另一形态是磁盘用基板，其特征在于，所述磁盘用基板具有：主表面；侧 壁面，其与所述主表面垂直；W及倒角面，其在与所述主表面和侧壁面垂直的截面中具有连 接所述主表面和所述侧壁面的2个直线部分，所述2个直线部分的边界部在所述基板的表面 上形成向外侧凸出的形状。 本专利技术的另一形态是磁盘，其特征在于，在上述的任意一种磁盘用基板的主表面 的上方至少设置有磁性层。 专利技术的效果 本专利技术的基板在由第1倾斜面和第2倾斜面运2个阶段的倒角面形成的棱线处与夹 具抵接。即使在棱线与夹具的抵接部产生剥落物，由于在棱线与主表面之间存在第1倾斜 面，因此，如果剥落物的飞瓣距离没有超过从棱线至主表面的外侧轮廓线为止的距离，则剥 落物不会到达主表面，能够防止剥落物相对于主表面的附着。另一方面，即使在剥落物的飞 瓣距离超过了从棱线至主表面的外侧轮廓线为止的距离，由于棱线设置在比主表面靠基板 的厚度方向内侧的位置，且第1倾斜面相对于主表面倾斜，因此，在剥落物的预想的路径上 或移动方向上不存在主表面，从而能够防止剥落物相对于主表面的附着。【附图说明】 图1是本实施方式的磁盘用基板的侧视图。 图2是图1中的II部的放大图。 图3是磁盘用基板的与夹具抵接的抵接部的放大图。 图4是比较例2的磁盘用基板的与图2相同的放大图。【具体实施方式】 W下，对本专利技术的实施方式的磁盘用基板详细地进行说明。 磁盘用基板是圆板形状，并且是将与外周同屯、的圆形的中屯、孔挖掉而成的环状。 在磁盘用基板的两面的圆环状区域中形成有磁性层(记录区域），由此形成磁盘。作为磁盘 用基板，可W使用金属基板(侣合金基板、锻有MP系合金而成的侣合金基板）或者玻璃基 板。特别是，优选使用玻璃基板，其中，玻璃基板具有比金属基板等难W发生塑性变形的性 质。在W后的说明中，针对使用玻璃作为磁盘用基板的情况进行说明，但磁盘用基板也可W 是金属基板。 图1是本专利技术的实施方式的基板的侧视图，图2是图1中的II部的放大图。 在本实施方式的基板1中，在端面的与主表面相连接的部分处设置有2个阶段的倒 角面。即，基板1具有主表面10和端面20,端面20具有侧面21、第1倾斜面22 W及第2倾斜面 23。如图2所示，在与主表面10和侧壁面21垂直的截面中，倒角面具有将主表面10和侧壁面 21连接起来的2个直线部分(第1倾斜面22和第2倾斜面23)。 如图2所示，第1倾斜面22与主表面10的径向外侧的轮廓线C(外侧轮廓线）连接。 本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种磁盘用基板，其中，所述磁盘用基板具备：第1倾斜面，其形成在基板的主表面的外侧；第2倾斜面，其连接所述第1倾斜面和基板的侧壁面；以及棱线，其由所述第1倾斜面和所述第2倾斜面形成，所述棱线设置在比所述主表面靠基板的厚度方向内侧的位置处。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：矢崎生悟，前田高志，舆水修，
申请(专利权)人：HOYA株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP