隔垫物及制作方法、显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种隔垫物及制作方法、显示装置，属于显示器领域。所述方法包括：将光阻材料涂布在基板上形成光阻层；使用掩膜板对光阻层进行曝光，掩膜板上设有图案区域和非图案区域；当光阻材料为负性光阻材料时，图案区域的透过率由中心向边缘递增；当光阻材料为正性光阻材料时，图案区域的透过率由中心向边缘递减；对曝光后的光阻层进行显影和烘烤，得到具有平坦的顶面的隔垫物，从而增大了隔垫物的接触面的面积，增加了机械强度，能够使阵列基板与彩膜基板之间液晶盒的厚度均一性变好，改善了显示质量。

【技术实现步骤摘要】
隔垫物及制作方法、显示装置
本专利技术涉及显示器领域，特别涉及一种隔垫物及制作方法、显示装置。
技术介绍
液晶显示器因其具有高画质、低重量、低功耗、低辐射等优点，被广泛应用于各种领域。液晶显示面板是液晶显示器中最主要的组成部分。液晶显示面板通常包括阵列基板、与所述阵列基板相对设置的彩膜基板、填充于阵列基板和彩膜基板之间的液晶。为了保证液晶盒的厚度和均匀性，通常在两个基板之间设置多个隔垫物(PhotoSpacer)以隔离出注入液晶的空间。现有PhotoSpacer的制作过程如下：将光阻材料涂布在彩膜基板或阵列基板上，然后经过曝光、显影、烘烤等步骤得到所需的PhotoSpacer。在上述PhotoSpacer的制作过程中，由于PhotoSpacer烘烤成型需要时间，在PhotoSpacer成型之前，PhotoSpacer边缘受张力影响会往下塌陷，使得制成后的PhotoSpacer的顶面呈中心高四周低的形状，在对盒时，PhotoSpacer的顶面只有中心部分与阵列基板或彩膜基板接触，接触面的面积较小，这样就导致单位面积的接触面受到的压力变得过大，各个PhotoSpacer被阵列基板和彩膜基板压缩变短，且各个PhotoSpacer缩短的量容易变得不均衡，使得阵列基板与彩膜基板之间液晶盒的厚度均一性变差，造成显示影像模糊。
技术实现思路
为了解决在PhotoSpacer成型之前，PhotoSpacer边缘受张力影响会往下塌陷，使得制成后的PhotoSpacer的顶面呈中心高四周低的形状的问题，本专利技术实施例提供了一种隔垫物及制作方法、显示装置。所述技术方案如下：第一方面，本专利技术实施例提供了一种隔垫物制作方法，所述方法包括：将光阻材料涂布在基板上形成光阻层；使用掩膜板对所述光阻层进行曝光，所述掩膜板上设有图案区域和非图案区域；当所述光阻材料为负性光阻材料时，所述图案区域的透过率由中心向边缘递增；当所述光阻材料为正性光阻材料时，所述图案区域的透过率由中心向边缘递减；对曝光后的所述光阻层进行显影和烘烤，得到具有平坦的顶面的隔垫物。在本专利技术实施例的一种实现方式中，当所述光阻材料为负性光阻材料时，所述图案区域的中心的透过率为1-a，所述图案区域的边缘的透过率为A1，所述非图案区域的透过率为0，1-a＜A1≤1；当所述光阻材料为正性光阻材料时，所述图案区域的中心的透过率为a，所述图案区域的边缘的透过率为A2，所述非图案区域的透过率为1，0≤A2＜a；其中，1＞a＞0。在本专利技术实施例的另一种实现方式中，所述a大于15％且小于25％。在本专利技术实施例的另一种实现方式中，所述图案区域为矩形。在本专利技术实施例的另一种实现方式中，所述烘烤的温度为240-270℃。在本专利技术实施例的另一种实现方式中，所述烘烤的时间为50-70分钟。第二方面，本专利技术实施例还提供了一种掩膜板，用于制备隔垫物，所述掩模板上设有图案区域和非图案区域；所述图案区域的透过率由中心向边缘递增；或者，所述图案区域的透过率由中心向边缘递减。在本专利技术实施例的一种实现方式中，所述图案区域的中心的透过率为1-a，所述图案区域的边缘的透过率为A1，所述非图案区域的透过率为0，1-a＜A1≤1；或者，所述图案区域的中心的透过率为a，所述图案区域的边缘的透过率为A2，所述非图案区域的透过率为1，0≤A2＜a；其中，1＞a＞0。在本专利技术实施例的另一种实现方式中，所述a大于15％且小于25％。在本专利技术实施例的另一种实现方式中，所述图案区域为矩形。第三方面，本专利技术实施例还提供了一种隔垫物，所述隔垫物采用第一方面任一项所述的隔垫物制作方法制成。第四方面，本专利技术实施例还提供了一种显示装置，所述显示装置包括第三方面所述的隔垫物。本专利技术实施例提供的技术方案带来的有益效果是：本专利技术中，当光阻材料为负性光阻材料时，采用图案区域的透过率由中心向边缘递增的掩膜板对光阻层进行曝光，由于掩膜板图案区域的透过由中心向边缘递增，因此经过曝光，显影后，在基板上形成的PhotoSpacer图形中心的高度略低于边缘的高度，然后在张力作用下，PhotoSpacer边缘往下塌陷，最终PhotoSpacer的顶面的边缘和中心高度保持在一个平面上。当光阻材料为正性光阻材料时，采用图案区域的透过率由中心向边缘递减的掩膜板对光阻层进行曝光，由于掩膜板图案区域的透过率由中心向边缘递减，因此经过曝光，显影后，在基板上形成的PhotoSpacer图形中心的高度略低于边缘的高度，然后在张力作用下，PhotoSpacer边缘往下塌陷，最终PhotoSpacer的顶面的边缘和中心高度保持在一个平面上。边缘和中心高度保持在一个平面上，使接触面趋于平坦，增大了接触面的面积，增加了机械强度，使得阵列基板与彩膜基板之间液晶盒的厚度均一性变好，改善了显示质量。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1是本专利技术实施例提供的一种隔垫物制作方法的流程图；图2是本专利技术实施例提供的另一种隔垫物制作方法的流程图；图3是本专利技术实施例提供的隔垫物制作过程中的结构示意图；图4是本专利技术实施例提供的一种掩模板的俯视图；图5是本专利技术实施例提供的隔垫物制作过程中的结构示意图；图6是本专利技术实施例提供的隔垫物制作过程中的结构示意图；图7是本专利技术实施例提供的另一种隔垫物制作方法的流程图。具体实施方式为使本专利技术的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本专利技术实施方式作进一步地详细描述。图1是本专利技术实施例提供的一种隔垫物制作方法的流程图，参见图1，该方法包括：步骤101：将光阻材料涂布在基板上形成光阻层。步骤102：使用掩膜板对光阻层进行曝光。其中，掩膜板上设有图案区域和非图案区域；当光阻材料为负性光阻材料时，图案区域的透过率由中心向边缘递增；当光阻材料为正性光阻材料时，图案区域的透过率由中心向边缘递减。其中，图案区域用于通过曝光和显影在光阻层的对应位置形成隔垫物，非图案区域用于通过曝光和显影将光阻层的对应位置除去。步骤103：对曝光后的光阻层进行显影和烘烤，得到具有平坦的顶面的隔垫物。其中，隔垫物的顶面为远离基板的一面。本专利技术中，当光阻材料为负性光阻材料时，采用图案区域的透过率由中心向边缘递增的掩膜板对光阻层进行曝光，由于掩膜板图案区域的透过由中心向边缘递增，因此经过曝光，显影后，在基板上形成的PhotoSpacer图形中心的高度略低于边缘的高度，然后在张力作用下，PhotoSpacer边缘往下塌陷，最终PhotoSpacer的顶面的边缘和中心高度保持在一个平面上。当光阻材料为正性光阻材料时，采用图案区域的透过率由中心向边缘递减的掩膜板对光阻层进行曝光，由于掩膜板图案区域的透过率由中心向边缘递减，因此经过曝光，显影后，在基板上形成的PhotoSpacer图形中心的高度略低于边缘的高度，然后在张力作用下，PhotoSpacer边缘往下塌陷，最终PhotoSpacer的顶面的边缘和中心高度保持在一个平面上。边缘和中心高度保持在一个平面上，使接触面趋于平坦，增大了接触面的面积，增加本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种隔垫物制作方法，其特征在于，所述方法包括：将光阻材料涂布在基板上形成光阻层；使用掩膜板对所述光阻层进行曝光，所述掩膜板上设有图案区域和非图案区域；当所述光阻材料为负性光阻材料时，所述图案区域的透过率由中心向边缘递增；当所述光阻材料为正性光阻材料时，所述图案区域的透过率由中心向边缘递减；对曝光后的所述光阻层进行显影和烘烤，得到具有平坦的顶面的隔垫物。

【技术特征摘要】
1.一种隔垫物制作方法，其特征在于，所述方法包括：将光阻材料涂布在基板上形成光阻层；使用掩膜板对所述光阻层进行曝光，所述掩膜板上设有图案区域和非图案区域；当所述光阻材料为负性光阻材料时，所述图案区域的透过率由中心向边缘递增；当所述光阻材料为正性光阻材料时，所述图案区域的透过率由中心向边缘递减；所述图案区域用于将所述光阻层的对应位置形成隔垫物，所述非图案区域用于通过曝光和显影将所述光阻层的对应位置除去；对曝光后的所述光阻层进行显影和烘烤，得到具有平坦的顶面的隔垫物。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，当所述光阻材料为负性光阻材料时，所述图案区域的中心的透过率为1-a，所述图案区域的边缘的透过率为A1，所述非图案区域的...

【专利技术属性】
技术研发人员：冯彦贵，熊正平，李朝，王静，田利军，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司，
类型：发明
国别省市：北京;11