镀膜设备的下极板结构及镀膜设备制造技术

本实用新型专利技术提供了一种镀膜设备的下极板结构及镀膜设备，所述下极板结构包括用于承载待镀膜基板的基板承载板；在所述基板承载板上设置有用于对待镀膜基板进行对位的对位结构，所述对位结构包括用于容置待镀膜基板，以对待镀膜基板进行对位的对位区。本实用新型专利技术提供的下极板结构能够保证玻璃每次落放在下极板的位置固定，因下极板独自能够实现对位功能，对下极板的位置要求降低，能够有效减少玻璃传送机械手的停机时间，提高整体设备稼动率。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及面板制造
，尤其涉及一种镀膜设备的下极板结构及镀膜设备。
技术介绍
在液晶面板、薄膜太阳能的生产工艺中，通常会采用PECVD(PlasmaEnhancedChemicalVaporDeposition，等离子体增强化学气相沉积法)设备来进行镀膜工艺。本技术可以使用在液晶显示器制造的阵列(Array)工艺技术和薄膜太阳能电池制造领域，主要用在沉积非晶硅、氮化硅、氧化硅等膜层的等离子体增强化学气相沉积(PECVD)设备上。在液晶面板制造工艺中，采用PECVD镀膜设备进行镀膜工艺时，玻璃基板由机器人手臂送入到基台(Susceptor)上，在基台上分布有若干的通孔，在通孔内设置有支撑杆(Pin)。玻璃基板与基台接触之前，支撑杆伸出基台表面，由支撑杆来托起玻璃基板；支撑杆保持不动，基台上升，玻璃基板即与基台接触。等离子体增强化学气相沉积(PECVD)设备上，进行镀膜工艺的腔体中，下极板(Susceptor)是非常重要的备件。TFT-LCD制造工艺中，需要镀膜的玻璃是平放在下极板上，但因每次玻璃平放的位置发生变化，导致玻璃四边没法进行镀膜工艺，使玻璃整体面积有效利用率降低。以下对传统的PECVD设备所存在的问题进行说明：每次玻璃在下极板的位置发生变化，因为大量量产的过程中，一张玻璃需要进入到多个设备进行多次的工艺，但因每个设备状态及设备不一样，导致进入PECVD设备之前每张玻璃的位置不一样。图1是PECVD设备的结构示意图，为了矫正玻璃歪斜现象，PECVD设备本身装载单元11中具有玻璃对位等结构，但因该装载单元11需要对应5个沉积腔体12，传送单元13上对位的位置不能全部满足5个沉积腔体12的条件，因5个沉积腔体12中下极板的位置不同，导致从一个装载单元11里送进来的玻璃难于满足严格的要求。经过设备精密的调整及设定，还能满足一些基本位置不变的功能，但其误差范围在±5mm；在现有的PECVD设备中，因存在每个下极板上玻璃位置的不一定性，导致玻璃上镀膜区域减少，没法有效利用整个玻璃面积；此外，实际生产使用设备中，为了满足严格的玻璃位置情况，需要对下极板位置的准确性提出了更好的要求，因此导致每次设备维护之后恢复之前，调整下极板与玻璃传送的玻璃机械手之间的位置。如图1所示，PECVD设备的中间机械手传送单元13负责向各镀膜工艺腔体12传送玻璃，该部分发生停机时，导致整体设备发生停机情况。为了校准机械手与某一个工艺腔体内下极板的位置，需要对机械手停机，影响了工作效率。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种镀膜设备的下极板结构及镀膜设备，能够保证玻璃每次落放在下极板的位置固定，因下极板独自能够实现对位功能，对下极板的位置要求降低，能够有效减少玻璃传送机械手的停机时间，提高整体设备稼动率。本技术所提供的技术方案如下：一种镀膜设备的下极板结构，包括用于承载待镀膜基板的基板承载板；在所述基板承载板上设置有用于对待镀膜基板进行对位的对位结构，所述对位结构包括用于容置待镀膜基板，以对待镀膜基板进行对位的对位区。进一步的，所述对位结构包括：能够围设于待镀膜基板的四周外侧，以对待镀膜基板进行对位的框架结构，所述框架结构的中部中空而形成所述对位区。进一步的，所述框架结构包括分别设置在所述基板承载板的四周的四个边框。进一步的，所述框架结构中部中空的对位区的内侧壁在靠近所述基板承载板的部分为垂直于所述基板承载板的承载面的平面结构。进一步的，所述框架结构中部中空的中空对位区的内侧壁在远离所述基板承载板的承载面的部分为能够引导待镀膜基板进入由所述平面结构限定的区域内的引导面结构。进一步的，所述引导面结构为斜面结构，所述斜面结构包括靠近所述对位区中心的第一端和远离所述对位区中心的第二端，其中所述斜面结构自所述第二端至所述第一端逐渐向靠近基板承载板的方向倾斜。进一步的，所述基板承载板的承载面上设有多个吹气孔，所述吹气孔均匀分布在所述基板承载板的承载面上所述对位区所对应的位置。进一步的，所述框架结构为陶瓷材质的陶瓷框架。进一步的，所述基板承载板上的承载面上还设置有能够升降的多个支撑杆，且多个支撑杆的支撑高度从所述基板承载板的一侧至另一侧逐渐增大。一种镀膜设备，包括如上所述的下极板结构。进一步的，所述镀膜设备还包括遮挡板，其中所述遮挡板在所述基板承载板的承载面上的正投影位于所述对位结构的对位区之外。本技术的有益效果如下：本技术所提供的镀膜设备的下极板结构，能够保证待镀膜基板每次落放在下极板的位置固定，待镀膜基板的边缘覆盖区域减少，扩大待镀膜基板镀膜面积，待镀膜基板面积使用率提高，使生产TFT的工厂设计产品时，产品的种类增加，相同玻璃上产出的产品尺寸变大，增加公司利润；此外，本实用新型所提供的镀膜设备的下极板结构，可以取消待镀膜基板边缘覆盖的情况，使覆盖物与待镀膜基板没有接触点，从而从根本上消除该原因导致的待镀膜基板破碎情况；此外，本技术所提供的镀膜设备因下极板独自能够实现对位功能，对下极板的位置要求降低，能够有效减少待镀膜基板传送机械手的停机时间，提高整体设备稼动率。附图说明图1表示现有技术中PECVD设备的结构示意图；图2表示现有技术中PECVD设备中沉积腔体中下极板与玻璃的相对位置示意图；图3表示现有技术中PECVD设备中沉积腔体中玻璃下降至下极板的示意图；图4表示本技术提供的PECVD设备中沉积腔体中下极板结构的结构示意图；图5表示本技术提供的下极板结构的对位结构的结构示意图；图6表示本技术提供的下极板结构在玻璃下降时的示意图；图7表示本技术提供的下极板结构上分布吹气孔的结构示意图。具体实施方式为使本技术实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本技术实施例的附图，对本技术实施例的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例是本技术的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于所描述的本技术的实施例，本领域普通技术人员所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。针对现有技术中PECVD设备中镀膜的玻璃是平放在下极板上，但因每次玻璃平放的位置发生变化，导致玻璃四边没法进行镀膜工艺，使玻璃整体面积有效利用率降低的技术问题，本技术提供了一种镀膜设备的下极板结构，其能够保证待镀膜基板每次落放在下本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种镀膜设备的下极板结构，包括用于承载待镀膜基板的基板承载板；其特征在于，在所述基板承载板上设置有用于对待镀膜基板进行对位的对位结构，所述对位结构包括用于容置待镀膜基板，以对待镀膜基板进行对位的对位区。

【技术特征摘要】
1.一种镀膜设备的下极板结构，包括用于承载待镀膜基板的基板承载板；
其特征在于，在所述基板承载板上设置有用于对待镀膜基板进行对位的对位结
构，所述对位结构包括用于容置待镀膜基板，以对待镀膜基板进行对位的对位
区。
2.根据权利要求1所述的下极板结构，其特征在于，
所述对位结构包括：能够围设于待镀膜基板的四周外侧，以对待镀膜基板
进行对位的框架结构，所述框架结构的中部中空而形成所述对位区。
3.根据权利要求2所述的下极板结构，其特征在于，
所述框架结构包括分别设置在所述基板承载板的四周的四个边框。
4.根据权利要求3所述的下极板结构，其特征在于，
所述框架结构中部中空的对位区的内侧壁在靠近所述基板承载板的部分
为垂直于所述基板承载板的承载面的平面结构。
5.根据权利要求4所述的下极板结构，其特征在于，
所述框架结构中部中空的对位区的内侧壁在远离所述基板承载板的承载
面的部分为能够引导待镀膜基板进入由所述平面结构限定的区域内的引导面
结构。
6.根据权利要求5所述的下极...

【专利技术属性】
技术研发人员：张兴洋，金哲山，董杰，周东淇，
申请(专利权)人：北京京东方显示技术有限公司，京东方科技集团股份有限公司，
类型：新型
国别省市：北京;11