一种高效率真空镀膜系统技术方案

技术编号:13426892 阅读:98 留言:0更新日期:2016-07-29 15:39
本发明专利技术公开了一种高效率真空镀膜系统,包括:进料装置、镀膜架、镀膜室、中央处理器、驱动装置和出料装置,所述进料装置、镀膜架之间相连接,所述中央处理器位于所述镀膜室内,所述镀膜室内包含有若干镀膜装置。通过上述方式,本发明专利技术提供的高效率真空镀膜系统,避免了镀膜气体的污染,且提高了镀膜的质量,且镀膜的方式较为方便,使用工厂的大规模的使用。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种高效率真空镀膜系统,其特征在于,包括:进料装置、镀膜架、镀膜室、中央处理器、驱动装置和出料装置,所述进料装置、镀膜架之间相连接,所述中央处理器位于所述镀膜室内,所述镀膜室内包含有若干镀膜装置。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:陈学兵
申请(专利权)人:苏州普京真空技术有限公司
类型:发明
国别省市:江苏;32

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