低辐射涂敷膜、其的制备方法及包含其的窗户用功能性建材技术

本发明专利技术涉及低辐射涂敷膜，上述低辐射涂敷膜包括：基材；低辐射涂敷层；以及顶部涂敷层，上述顶部涂敷层为从上述低辐射涂敷层起依次包括金属层、金属氧化物层及硅类复合金属氮氧化物层的多层结构。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及低辐射涂敷膜、其的制备方法及包含其的窗户用功能性建材。
技术介绍
低辐射玻璃(Low-Emissivityglass)是指包含银(Ag)等在红外线区域中的反射率高的金属的低辐射层由薄膜蒸镀而成的玻璃。这种低辐射玻璃为如下功能性原材料：使红外线区域的辐射线反射，从而在夏天用于阻隔室外的太阳辐射热，在冬天用于保存室内的取暖辐射热，由此带来建筑物的节能效果。通常用作低辐射层的银在露在空气中时进行氧化，因而在上述低辐射层的上部、下部蒸镀有作为防氧化膜的电介质层。这种电介质层还起到使可见光透射率增加的作用。
技术实现思路
本专利技术要解决的技术问题本专利技术提供低辐射涂敷膜等，上述低辐射涂敷膜包括：基材；低辐射涂敷层；以及顶部涂敷层，上述顶部涂敷层为从上述低辐射涂敷层起依次包括金属层、金属氧化物层及硅类复合金属氮氧化物层的多层结构。但是，本专利技术所要解决的技术问题并不局限于以上所述的问题，本专利技术所属
的普通技术人员可从以下的记载内容中明确地理解未提及的其他问题。技术方案本专利技术提供低辐射涂敷膜，上述低辐射涂敷膜包括：基材；低辐射涂敷层；以及顶部涂敷层，上述顶部涂敷层为从上述低辐射涂敷层起依次包括金属层、金属氧化物层及硅类复合金属氮氧化物层的多层结构。上述金属层可包含选自硅、铝、钛、锆、硅类复合金属、钛类复合金属、锆类复合金属及它们的组合中的至少一种。上述金属氧化物层可包含选自硅氧化物、铝氧化物、钛氧化物、锆氧化物、硅类复合金属氧化物、钛类复合金属氧化物、锆类复合金属氧化物及它们的组合中的至少一种。上述低辐射涂敷层可以为从上述基材起依次包括第一电介质层、第一低辐射保护层、低辐射层、第二低辐射保护层及第二电介质层的多层结构。上述第一电介质层或上述第二电介质层可包含选自由氧化钛、氧化锌锡、氧化锌、氧化锌铝、氧化锡、氧化铋、氮化硅、氮化硅铝、氮化硅锡及它们的组合组成的组中的至少一种，或者，在上述选自由氧化钛、氧化锌锡、氧化锌、氧化锌铝、氧化锡、氧化铋、氮化硅、氮化硅铝、氮化硅锡及它们的组合组成的组中的至少一种中，可掺杂有选自由铋(Bi)、硼(B)、铝(Al)、硅(Si)、镁(Mg)、锑(Sb)、铍(Be)及它们的组合组成的组中的至少一种元素。上述第一低辐射保护层或上述第二低辐射保护层可包含选自包含镍(Ni)、铬(Cr)、镍和铬的合金、钛(Ti)及它们的组合的组中的至少一种。上述低辐射层可包含选自包含银、金(Au)、铜(Cu)、铝(Al)、铂(Pt)、离子掺杂金属氧化物及它们的组合的组中的至少一种。上述金属层的厚度可以为0.5nm至5nm。上述金属氧化物层的厚度可以为0.5nm至5nm。上述硅类复合金属氮氧化物层的厚度可以为2nm至20nm。作为本专利技术的一实例，提供低辐射涂敷膜的制备方法，上述低辐射涂敷膜的制备方法包括：步骤(a)，准备层叠于基材的至少一面的低辐射涂敷层；步骤(b)，在上述低辐射涂敷层的上部蒸镀金属来形成金属层；以及步骤(c)，在上述金属层的上部形成金属氧化物层，并蒸镀硅类复合金属氮氧化物层，来形成硅类复合金属氮氧化物层。在上述步骤(b)中，金属层可包含选自硅、铝、钛、锆、硅类复合金属、钛类复合金属、锆类复合金属及它们的组合中的至少一种。在上述步骤(c)中，金属氧化物层可包含选自硅氧化物、铝氧化物、钛氧化物、锆氧化物、硅类复合金属氧化物、钛类复合金属氧化物、锆类复合金属氧化物及它们的组合中的至少一种。在上述步骤(c)中，可通过上述金属层的表面的后氧化工序使上述金属层的表面的一部分氧化，来形成金属氧化物层。上述后氧化工序可使用选自由氧(O2)、氮(N2)及氩(Ar)组成的组中的至少一种的反应性气体来进行。在上述步骤(c)中，金属层的表面的一部分氧化和硅类复合金属氮氧化物的蒸镀可在原位(in-situ)中连续进行。作为本专利技术的另一实例，提供包含上述低辐射涂敷膜的窗户用功能性建材。有益效果本专利技术的低辐射涂敷膜的属于机械特性的耐磨耗性优秀，属于化学特性的耐湿性、耐酸性及耐碱性优秀。并且，在本专利技术的低辐射涂敷膜的制备方法中，在金属表面，通过后氧化工序，金属层表面的氧化和硅类复合金属氮氧化物的蒸镀可在原位中连续进行，从而可增加工序效率。附图说明图1为本专利技术一实例的低辐射涂敷膜的简要剖视图。图2表示在特定条件下，利用光学显微镜观察本专利技术一实例的低辐射涂敷膜的划痕程度。图3表示在特定条件下，利用光学显微镜观察本专利技术一实例的低辐射涂敷膜的腐蚀的程度。图4表示在酸性条件下，测定本专利技术一实例的低辐射涂敷膜的色指数的变化值。图5表示在碱性条件下，测定本专利技术一实例的低辐射涂敷膜的色指数的变化值。具体实施方式本专利技术人在对低辐射玻璃膜进行研究的过程中，制备包括依次具有金属层、金属氧化物层及硅类复合金属氮氧化物层的多层结构的顶部涂敷层的低辐射涂敷膜，并确认了制成的低辐射涂敷膜的机械特性及化学特性均优秀，从而完成了本专利技术。以下，参照附图详细说明本专利技术的实施例，可使本专利技术所属
的普通技术人员能够容易实施。本专利技术能够以多种不同的方式实现，并不局限于在此说明的实施例。为了明确说明本专利技术，省略了与说明无关的部分，在说明书全文中，对于相同或类似的结构要素，标注相同的附图标记。图中，为了明确表示多层及区域，放大表示了厚度。并且，图中，为了便于说明，夸张表示了一部分层及区域的厚度。以下，在基材的“上部(或下部)”或基材的“上(或下)”形成任意结构不仅指任意结构与上述基材的上表面(或下表面)相接触而形成，而且并不局限于上述基材与形成于基材上(或下)的任意结构之间不包括其他结构。本专利技术提供低辐射涂敷膜：上述低辐射涂敷膜包括：基材；低辐射涂敷层；以及顶部涂敷层，上述顶部涂敷层为从上述低辐射涂敷层起依次包括金属层、金属氧化物层及硅类复合金属氮氧化物层的多层结构。图1为本专利技术一实例的低辐射涂敷膜的简要剖视图。如图1所示，本专利技术一实例的低辐射涂敷膜包括：基材100；多层结构的低辐射涂敷层200，从上述基材起依次包括第一电介质层210、第一低辐射保护层220、低辐射层230、第二低辐射保护层240及第二电介质层250；以及作为多层结构的顶部涂敷层300，从上述低辐射涂敷层起依次包括金属层310、金属氧化物层320及硅类复合金属氮氧化物层330。基材100上述基材100可以为可见光透射本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种低辐射涂敷膜，其特征在于，包括：基材；低辐射涂敷层；以及顶部涂敷层，所述顶部涂敷层为从所述低辐射涂敷层起依次包括金属层、金属氧化物层及硅类复合金属氮氧化物层的多层结构。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2013.12.12 KR 10-2013-01549191.一种低辐射涂敷膜，其特征在于，
包括：
基材；
低辐射涂敷层；以及
顶部涂敷层，
所述顶部涂敷层为从所述低辐射涂敷层起依次包括金属层、金属氧化物层
及硅类复合金属氮氧化物层的多层结构。
2.根据权利要求1所述的低辐射涂敷膜，其特征在于，所述金属层包含选
自硅、铝、钛、锆、硅类复合金属、钛类复合金属、锆类复合金属及它们的组
合中的至少一种。
3.根据权利要求1所述的低辐射涂敷膜，其特征在于，所述金属氧化物层
包含选自硅氧化物、铝氧化物、钛氧化物、锆氧化物、硅类复合金属氧化物、
钛类复合金属氧化物、锆类复合金属氧化物及它们的组合中的至少一种。
4.根据权利要求1所述的低辐射涂敷膜，其特征在于，所述低辐射涂敷层
为从所述基材起依次包括第一电介质层、第一低辐射保护层、低辐射层、第二
低辐射保护层及第二电介质层的多层结构。
5.根据权利要求4所述的低辐射涂敷膜，其特征在于，
所述第一电介质层或所述第二电介质层包含选自由氧化钛、氧化锌锡、氧
化锌、氧化锌铝、氧化锡、氧化铋、氮化硅、氮化硅铝、氮化硅锡及它们的组
合组成的组中的至少一种，或者，
在所述选自由氧化钛、氧化锌锡、氧化锌、氧化锌铝、氧化锡、氧化铋、
氮化硅、氮化硅铝、氮化硅锡及它们的组合组成的组中的至少一种中，掺杂有
选自由铋、硼、铝、硅、镁、锑、铍及它们的组合组成的组中的至少一种元素。
6.根据权利要求4所述的低辐射涂敷膜，其特征在于，所述第一低辐射保
护层或所述第二低辐射保护层包含选自包含镍、铬、镍和铬的合金、钛及它们

\t的组合的组中的至少一种。
7.根据权利要求4所述的低辐射涂敷膜，其特征在于，所述低辐射层包含
选自包含银、金、铜、铝、铂、离子掺杂金属氧化物及它们的组合的组中的至

【专利技术属性】
技术研发人员：柳贤祐，田允淇，权大勋，
申请(专利权)人：乐金华奥斯有限公司，
类型：发明
国别省市：韩国;KR