本实用新型专利技术提供一种调节装置及调节组件，包括设有水平滑槽和垂直滑槽的组装框架；收容在所述组装框架内、通过水平滑动凸台与所述水平滑槽配合的水平滑块，所述水平滑块设有螺纹配合孔以及水平滑动面；用于贯穿所述组装框架以及螺纹配合孔的调节杆，所述调节杆上设有与螺纹配合孔配合的调节螺纹；所述水平滑块的水平滑动面上放置有与之配合的垂直滑块，所述垂直滑块上设有与所述水平滑动面接触的垂直滑动面以及与所述垂直滑槽配合的垂直滑动凸台。通过采用本实用新型专利技术的调节装置及调节组件，提供一种更适用于机台结构且容易安装、可视方便、精确调节的工具，工程师容易操作，保证调节成功率且节省量产时间。
【技术实现步骤摘要】
本技术涉及一种设备设施的改进，特别是涉及一种调节装置及调节组件的改进。
技术介绍
在半导体
中，利用半导体制程工艺制造半导体器件时，基本处理步骤通常是晶圆先经过适当的清洗之后，接着进行氧化及沉积，最后进行微影、刻蚀及离子植入等反复步骤，以完成电路的加工与制作。刻蚀技术是将材料使用化学反应物理撞击作用而移除的技术，可以分为湿法刻蚀和干法刻蚀。常见的湿法刻蚀技术是化学气相沉积，利用热能、电浆放电或紫外光照射等化学反应的方式，在反应器内将反应物(通常为气体)生成固态的生成物，并在晶片表面沉积形成稳定固态薄膜的一种沉积技术，CVD技术是半导体IC制程中运用极为广泛的薄膜形成方法。在半导体生产工艺车间内，由于CVD制程需调节机台加热器(heater)的高度，但现有技术中，出于原始设备制造商(OEM)机台的制造设计，采用的方法是使用双螺母调节装置对机台加热器(heater)的高度进行调节。然而，使用上述双螺母调节装置调节加热器(heater)高度的过程中存在许多问题：1.工程师需根据经验使用扳手调节双螺母从而调节加热器(heater)的高度，既调节粗糙又无法精确读值；2.只能凭工程师的经验盲调多次才能调节成功；3.不方便工程师调节，耗费工程师的时间和精力；4.降低了量产成功率。鉴于此，有必要设计一种新的调节装置用以解决上述技术问题。
技术实现思路
鉴于以上所述现有技术的缺点，本技术的目的在于提供一种调节装置及调节组件，用于解决现有技术中工程师需根据经验使用扳手调节双螺母，既调节粗糙又无法精确读值，盲调多次耗时耗力的问题，提供了方便工程师调节又可记录调节读数，可提高量产成功率及节省时间,且可与联机示意图(inlinemap)对比调整工具刻度值，直接调节加热器(heater)高度的调节装置及调节组件。为实现上述目的及其他相关目的，本技术提供一种调节装置及调节组件，所述调节装置包括：设有水平滑槽和垂直滑槽的组装框架；收容在所述组装框架内、通过水平滑动凸台与所述水平滑槽配合的水平滑块，所述水平滑块设有螺纹配合孔以及水平滑动面；用于贯穿所述组装框架以及螺纹配合孔的调节杆，所述调节杆上设有与螺纹配合孔配合的外螺纹；所述水平滑块的水平滑动面上放置有与之配合的垂直滑块，所述垂直滑块上设有与所述水平滑动面接触的垂直滑动面以及与所述垂直滑槽配合的垂直滑动凸台。作为本技术的调节装置的一种优选方案，所述组装框架包括设有水平滑槽的底面，自所述底面两端弯折延伸的侧壁，所述侧壁上分别设有垂直滑槽；所述侧壁上分别设有与所述螺纹配合孔配合的轴承配合孔。作为本技术的调节装置的一种优选方案，所述调节杆包括设置于外螺纹一端的手柄。作为本技术的调节装置的一种优选方案，所述水平滑动面为一表面光滑的斜面。作为本技术的调节装置的一种优选方案，所述垂直滑动面为一表面光滑的斜面。作为本技术的调节装置的一种优选方案，所述垂直滑块上设有高度调节柱。作为本技术的调节装置的一种优选方案，所述调节装置还包括与所述组装框架配合的安装上盖，所述安装上盖上设有高度调节柱孔，所述高度调节柱插入所述高度调节柱孔。作为本技术的调节装置的一种优选方案，所述组装框架的侧壁上设有刻度标示，用于实现垂直滑块升降的标记记录值。作为本技术的调节装置组件，该组件包括两个所述的调节装置，其中第一调节装置和第二调节装置通过连接板连接固定。如上所述，本技术的调节装置及调节组件，具有以下有益效果：所述调节装置及调节组件通过把水平滑块在组装框架内的的水平直线运动转换为垂直滑块的垂直直线运动，以此来调节加热器(heater)的高度，可以实现简单地通过旋转调节杆完成加热器(heater)的高度调节，有效地避免了调节双螺母所带来的耗时耗力；使用刻度标示对调节高度进行显示，使得高度调节的精准度更高，避免了工程师凭经验的盲调，方便工程记录和位置校正。附图说明图1显示为本技术调节装置的结构示意图。图2显示为本技术调节装置调节杆的示意图。图3显示为本技术调节装置组装框架的示意图。图4显示为本技术调节装置水平滑块的示意图。图5显示为本技术调节装置垂直滑块的示意图。图6显示为本技术调节装置安装上盖的示意图。图7显示为本技术调节组件调节加热器(heater)高度的示意图。元件标号说明1调节装置11调节杆111调节手柄112调节螺纹113轴承114轴承12组装框架121刻度标示122垂直滑槽123水平滑槽124安装配合口125机台安装孔126上盖安装孔127轴承配合孔13水平滑块131螺纹配合孔132水平滑动凸台133水平滑动面14垂直滑块141高度调节柱142垂直滑动凸台143垂直滑动面15安装上盖151滑动凸台152高度调节孔具体实施方式以下通过特定的具体实例说明本技术的实施方式，本领域技术人员可由本说明书所揭露的内容轻易地了解本技术的其他优点与功效。本技术还可以通过另外不同的具体实施方式加以实施或应用，本说明书中的各项细节也可以基于不同观点与应用，在没有背离本技术的精神下进行各种修饰或改变。请参阅图1至图7。须知，本说明书所附图式所绘示的结构、比例、大小等，均仅用以配合说明书所揭示的内容，以供熟悉此技术的人士了解与阅读，并非用以限定本技术可实施的限定条件，故不具技术上的实质意义，任何结构的修饰、比例关系的改变或大小的调整，在不影响本技术所能产生的功效及所能达成的目的下，均应仍落在本技术所揭示的
技术实现思路
得能涵盖的范围内。同时，本说明书中所引用的如“上”、“下”、“左”、“右”、“中间”及“一”等的用语，亦仅为便于叙述的明了，而非用以限定本技术可实施的范围，其相对关系的改变或调整，在无实质变更
技术实现思路
下，当亦视为本技术可实施的范畴。请参阅图1，图1为所述调节装置的结构示意图，如图1所示，所述调节装置1包括设有水平滑槽123和垂直滑槽122的组装框架12；收容在所述组装框架12内、通过水平滑动凸台132与所述水平滑槽123配合的水平滑块13，所述水平滑块13设有螺纹配合孔131以及水平滑动面133；用于贯穿所述组装框架12以及螺纹配合孔131的调节杆11，所述调节杆11上设有与螺纹配合孔131配合的调节螺纹112；所述水平本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种调节装置，其特征在于：所述调节装置(1)包括：设有水平滑槽(123)和垂直滑槽(122)的组装框架(12)；收容在所述组装框架(12)内、通过水平滑动凸台(132)与所述水平滑槽(123)配合的水平滑块(13)，所述水平滑块(13)设有螺纹配合孔(131)以及水平滑动面(133)；用于贯穿所述组装框架(12)以及螺纹配合孔(131)的调节杆(11)，所述调节杆(11)上设有与螺纹配合孔(131)配合的调节螺纹(112)；所述水平滑块(13)的水平滑动面(133)上放置有与之配合的垂直滑块(14)，所述垂直滑块(14)上设有与所述水平滑动面(133)接触的垂直滑动面(143)以及与所述垂直滑槽(122)配合的垂直滑动凸台(142)。
【技术特征摘要】
1.一种调节装置，其特征在于：所述调节装置(1)包括：
设有水平滑槽(123)和垂直滑槽(122)的组装框架(12)；
收容在所述组装框架(12)内、通过水平滑动凸台(132)与所述水平滑槽(123)配合的水平
滑块(13)，所述水平滑块(13)设有螺纹配合孔(131)以及水平滑动面(133)；
用于贯穿所述组装框架(12)以及螺纹配合孔(131)的调节杆(11)，所述调节杆(11)上设有
与螺纹配合孔(131)配合的调节螺纹(112)；
所述水平滑块(13)的水平滑动面(133)上放置有与之配合的垂直滑块(14)，所述垂直滑块
(14)上设有与所述水平滑动面(133)接触的垂直滑动面(143)以及与所述垂直滑槽(122)配合
的垂直滑动凸台(142)。
2.根据权利要求1所述的一种调节装置，其特征在于：所述组装框架(12)包括设有水平滑
槽(123)的底面，自所述底面两端弯折延伸的侧壁，所述侧壁上分别设有垂直滑槽(122)；
所述侧壁上分别设有与所述螺纹配合孔(131)配合的轴承配合孔(127)。
3.根据权利要求1所...
【专利技术属性】
技术研发人员：沈祥江，
申请(专利权)人：中芯国际集成电路制造北京有限公司，中芯国际集成电路制造上海有限公司，
类型：新型
国别省市：北京;11
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