基板处理装置制造方法及图纸

提供一种基板处理装置，能够防止气泡的影响并且通过处理液良好地进行处理。实施方式的基板清洗装置(100)(基板处理装置的一个例子)从喷淋喷嘴(11)对由搬送机构(13)搬送的基板(W)供给清洗液(L)并进行清洗处理。第一回收配管(14)从清洗槽(10)的底部将在清洗处理使用后的清洗液(L)回收到罐(T)。第二回收配管(15)将在清洗工序中产生的气泡回收到罐(T)。在第二回收配管(15)具备强制地回收气泡的吸气器(16)。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及基板处理装置。
技术介绍
在液晶显示装置的制造工序中含有通过对玻璃基板等被处理基板供给清洗液等处理液，由此对被处理基板的表面进行清洗处理的处理工序。用于实施这样的工序的基板清洗装置一边通过搬送机构搬送处理对象的基板，一边使用喷淋喷嘴等对该基板的表面供给清洗液，并且，通过使用刷子等擦拭基板的表面，进行基板清洗。如图7所示，在上述的基板清洗装置中设置为，从作为清洗液供给机构的喷淋喷嘴31，对通过搬送机构33而被搬送的基板W的表面供给清洗液L，将从基板W落下的清洗液L经由处理槽30的底部所具备的配管34回收到罐中，将其对喷淋喷嘴31循环供给并再利用。然而，对于在这样的基板清洗装置中所使用的清洗液，大多使用包括表面活性剂的清洗液等具有容易起泡且泡难以消失的性质的液体。在对基板供给这样的清洗液，用刷子等经过擦拭工序时，气泡大量产生。如图7所示，气泡A大量产生后的清洗液在经由处理槽30的底部的配管34而被回收时，气泡A残留在处理槽30中，不能完全回收。由此，变成在处理槽30的底部和搬送机构33上的基板W之间存在大量的气泡A的状态。可是，近年，预订进行处理的基板具有成为厚度为1mm以下的非常薄且轻的基板的倾向。在对于这样的基板重复上述的清洗处理，并在搬送机构33附近大量存在气泡A时，气泡A将搬送机构33上的基板W向上推举，基板W会从搬送机构33脱落，或基板W会倾斜。由此，存在来自喷淋喷嘴31的清洗液不被均匀地供给到基板表面，不能均匀地进行清洗处理的问题。因此，考虑采取增大配管34的直径，或设置多个配管34等对策，但是，即使通过上述的对策，虽然清洗液的回收效率提高，但是气泡A的回收依然不充分。进而，在充分采取从处理槽30的底部开始到搬送机构33上的基板W的背面为止的距离时(例如在比500mm高的位置具备搬送机构33等)，基板W不会被气泡A推举，但是，实际上为了防止装置变得过大，从处理槽30的底部开始到搬送机构33上的基板W的背面为止的距离设为200～300mm程度。另外，即使不是在先叙述的薄的基板，在气泡A与基板接触时，在该部分产生处理不均，结果是具有不能均匀地进行清洗处理的问题。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种基板处理装置，能够防止气泡的影响，并且通过处理液良好地进行处理。本专利技术的基板处理装置是通过对由搬送机构搬送的基板供给处理液来处理基板的基板处理装置，其特征在于，具有：处理槽；处理液供给机构，在上述处理槽中对由上述搬送机构搬送的上述基板供给上述处理液；罐，设置于上述处理槽的下方，贮存有上述处理液；第一回收配管，连接上述处理槽的底部与上述罐；吸入部，设置于上述处理槽中的比由上述搬送机构搬送的上述基板的背面更靠下方的区域；第二回收配管，连接上述吸入部与上述罐；以及减压机构，设置于上述第二回收配管，使上述第二回收配管的上述吸入部侧成为负压状态。根据本专利技术的基板处理装置，能够防止气泡的影响并且通过处理液良好地进行处理。附图说明图1是表示本专利技术的第一实施方式涉及的基板处理装置的概要的图。图2是将本专利技术的第一实施方式涉及的基板处理装置的清洗槽放大后的图。图3是将本专利技术的第一实施方式涉及的基板处理装置的减压机构放大后的图。图4是从图1或者图2所示的箭头R方向观察本专利技术的第一实施方式涉及的基板处理装置的清洗槽的图。图5是本专利技术的第二实施方式涉及的吸入部的俯视图。图6表示本专利技术的第三实施方式涉及的基板清洗装置的概要，是与图1相当的图。图7是表示以往的基板清洗装置中的清洗槽的图。具体实施方式参照图1～图4对第一实施方式进行说明。如图1～图4所示，第一实施方式涉及的基板清洗装置100(基板处理装置的一个例子)具有清洗槽10、以及搬送机构13。搬送机构13具备：搬送轴13a，在作为处理槽的清洗槽10内，沿与玻璃基板W的搬送方向(在图1中纸面从左往右)正交的方向(以下，也称为“基板W的宽度方向”。)延伸，并且，沿着搬送方向以一定间隔设置多个；以及辊13b，沿各搬送轴的轴向以一定间隔设置多个，并且，与基板W的下面抵接并搬送基板W。进而，基板清洗装置100具有供给部12a，该供给部12a相对于由搬送机构13搬送的基板W，对其上面供给清洗液L(例如药液等处理液)。供给部12a在其长度方向上以规定间隔地具有多个喷淋喷嘴11(处理液供给机构)，这样的供给部12a沿着清洗槽10内的基板W的宽度方向而被设置多个(图4参照)。在清洗槽10的下方设有贮存清洗液L的罐T，并设有用于从该罐T对供给部12a供给清洗液L的供给配管12。该供给配管12具备用于对罐T内的清洗液L进行送液的泵P。本实施方式中的清洗液L是例如包括表面活性剂的洗涤液，是具有容易起泡进而产生的泡难以消失的性质的液体。清洗槽10的底部与罐T通过第一回收配管14而被连接。具体地讲，第一回收配管14的一端在清洗槽10的底部开口，第一回收配管14的另一端在罐T内开口。由此，在清洗槽10内被供给到基板W的清洗液L通过其自重而经由第一回收配管14，被回收到罐T中。在供给配管12设有没有图示的过滤器，在通过泵P将已使用的清洗液L从罐T再次对喷淋喷嘴11供给时，能够去除清洗液L内的夹杂物。在清洗槽10的侧壁部，贯通该侧壁部地设有第二回收配管15。进而，在第二回收配管15中的位于清洗槽10的内部的一端设有沿基板W的宽度方向延伸的吸入部15a。该吸入部15a比由搬送机构13搬送的基板W的背面更靠下方，而且沿清洗槽10中的、基板W的搬送方向的下游侧(图1中以箭头R所示的方向)的壁而设置。第二回收配管15的中途具备作为减压机构的吸气器16，通过对气体导入口16a(图3参照)供给气体，由此在第二回收配管15的吸气器16的上游侧产生负压。详细内容后述。图2是将本专利技术的实施方式涉及的基板清洗装置100的清洗槽10放大后的图。如上所述，在清洗槽10的底部设有第一回收配管14，已使用的清洗液L经由该第一回收配管14被回收。可是，清洗液L是具有容易起泡的性质的液体，因此，清洗液L自身虽然被回收，但是，在清洗之时产生的气泡A，例如，清洗液L被供给到基板W的冲击、用刷子B对用清洗液湿润后的基板W的表面进行擦拭而产生气泡A大多残留在清洗槽10的底部，渐渐地被积蓄。若从这点来看，则清洗槽10即使不完全却也作为气液分离装置发挥作本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基板处理装置，通过对由搬送机构搬送的基板供给处理液来处理基板，其特征在于，具有：处理槽；处理液供给机构，在上述处理槽中对由上述搬送机构搬送的上述基板供给上述处理液；罐，设置于上述处理槽的下方，贮存有上述处理液；第一回收配管，连接上述处理槽的底部与上述罐；吸入部，设置于上述处理槽中的比由上述搬送机构搬送的上述基板的背面更靠下方的区域；第二回收配管，连接上述吸入部与上述罐；以及减压机构，设置于上述第二回收配管，使上述第二回收配管的上述吸入部侧成为负压状态。

【技术特征摘要】
2015.01.13 JP 2015-004401;2015.08.11 JP 2015-159041.一种基板处理装置，通过对由搬送机构搬送的基板供给处理液来处
理基板，其特征在于，具有：
处理槽；
处理液供给机构，在上述处理槽中对由上述搬送机构搬送的上述基板
供给上述处理液；
罐，设置于上述处理槽的下方，贮存有上述处理液；
第一回收配管，连接上述处理槽的底部与上述罐；
吸入部，设置于上述处理槽中的比由上述搬送机构搬送的上述基板的
背面更靠下方的区域；
第二回收配管，连接上述吸入部与上述罐；以及
减压机构，设置于上述第二回收配管，使上述第二回收配管的上述吸
入部侧成为负压状态。
2.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，
上述减压机构被控制成按照每个规定时间进行工作，
上述规定时间是上述处理槽内产生的气泡...

【专利技术属性】
技术研发人员：西部幸伸，矶明典，
申请(专利权)人：芝浦机械电子株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP