掩膜板光罩、掩膜板光罩制作方法及掩膜板制作方法技术

本发明专利技术涉及一种掩膜板光罩、掩膜板光罩制作方法及掩膜板制作方法，其中，掩膜板光罩适于采用光蚀刻法在一金属基板上蚀刻形成蒸镀孔，包括透明基板金属膜片，透明基板具有第一平面及与所述第一平面相背的第二平面；金属膜片平铺于所述第一平面，且所述金属膜片上形成有多个镂空孔，所述镂空孔的尺寸与所述蒸镀孔的预定尺寸相等。根据本发明专利技术提供的掩膜板光罩，确保蚀刻形成的蒸镀孔尺寸和形状的精度更高，同时，操作简单，工艺过程更加简单，效率更高，形成的掩膜板产品的良率更高。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及有机电致发光器件制造
，特别涉及一种掩膜板光罩、掩膜板光罩制作方法及掩膜板制作方法。
技术介绍
有机电致发光二极管(OrganicLight-EmittingDiodes，OLED)是自发光器件，不需要背光源，外观轻、薄，而传统的液晶显示器(LCD)需要背光源才能工作，外观尺寸较厚。有机发光二极管显示器的功耗低，视角宽，屏幕响应快，是最能符合人们未来对显示器功能要求的技术。因此，有机发光二极管有望在不久的将来取代液晶显示器，具有很高的市场潜力。有机小分子发光二极管在制作过程中，目前较成熟的技术是采用真空蒸镀技术，在器件制备过程中，有机材料会淀积在位于蒸发源上方的基板上，为形成特有的图案，在基板下方紧贴有掩膜板，掩膜板上留有预先设计排版好的蒸镀孔，最终有机材料会通过掩膜板上的蒸镀孔淀积到基板上面。掩膜板一般为一块金属基板，在金属基板上开设有蒸镀孔，有一些掩膜板还包括板框，将金属基板覆盖的板框上。现有技术中，在掩膜板的制作中，一般采用光蚀刻工艺在金属基板上镂空形成蒸镀孔。然而，现有技术中的掩膜板制作方法制作形成的掩膜板，其蒸镀孔的尺寸精度低，而且，生产加工的掩膜板不良率高。
技术实现思路
本专利技术旨在至少在一定程度上解决相关技术中的技术问题之一。为此，本专利技术的一个目的在于提出一种掩膜板光罩。本专利技术的另一个目的在于提出一种掩膜板光罩制作方法。本专利技术的又一个目的在于提出一种掩膜板制作方法。为了实现上述目的，第一方面，本专利技术实施例的掩膜板光罩，适于采用光蚀刻法在一金属基板上蚀刻形成蒸镀孔，包括：透明基板，所述透明基板具有第一平面及与所述第一平面相背的第二平面；金属膜片，所述金属膜片平铺于所述第一平面，且所述金属膜片上形成有多个镂空孔，所述镂空孔的尺寸与所述蒸镀孔的预定尺寸相等。根据本专利技术提供的掩膜板光罩，包括透镜基板和金属膜片，金属膜片平铺于所述透明基板上，且金属膜片上设有与蒸镀孔相适配的镂空孔，如此，在利用该掩膜板光罩制作掩膜板时，直接将金属基板与金属膜片或透明基板贴合，再利用光蚀刻工艺即可蚀刻出蒸镀孔。由于金属膜片和透镜基板具有较高的硬度和平面度，因此，能够与金属基板完全贴合，进而确保蚀刻形成的蒸镀孔尺寸和形状的精度更高，此外，操作简单，工艺过程更加简单，效率更高，形成的掩膜板产品的良率更高。根据本专利技术的一个实施例，所述透明基板为玻璃板。根据本专利技术的一个实施例，所述镂空孔为多个，多个所述镂空孔矩阵分布。第二方面，本专利技术实施例的掩膜板光罩的制作方法，所述掩膜板光罩适于采用光蚀刻法在一金属基板上蚀刻形成蒸镀孔，包括：提供一透明基板及一金属膜片，透明基板具有第一平面及与所述第一平面相背的第二平面；在所述金属膜片的上加工形成镂空孔，所述镂空孔具有加工余量；将形成有镂空孔的所述金属膜片平铺于所述透镜基板的第一平面；对所述金属膜片上的所述镂空孔进行精加工，使得所述镂空孔的尺寸达到所述蒸镀孔的预定尺寸。根据本专利技术提供的掩膜板光罩制作方法，可制作形成掩膜板光罩，该光罩包括透镜基板和金属膜片，金属膜片平铺于所述透明基板上，且金属膜片上设有与蒸镀孔相适配的镂空孔，如此，在利用该掩膜板光罩制作掩膜板时，直接将金属基板与金属膜片或透明基板贴合，再利用光蚀刻工艺即可蚀刻出蒸镀孔。由于金属膜片和透镜基板具有较高的硬度和平面度，因此，能够与金属基板完全贴合，进而确保蚀刻形成的蒸镀孔尺寸和形状的精度更高，同时，操作简单，工艺过程更加简单，效率更高，形成的掩膜板产品的良率更高。此外，该方法制作的掩膜板光罩上，镂空孔的尺寸精度高，进而使得利用该掩膜板光罩制作形成掩膜板，其蒸镀孔的尺寸精度更高。根据本专利技术的一个实施例，在所述金属膜片的上加工形成镂空孔具体为：采用蚀刻工艺在所述金属膜片的上进行蚀刻加工以形成所述镂空孔。根据本专利技术的一个实施例，对所述金属膜片上的镂空孔进行精加工具体为：采用激光加工工艺对所述金属膜片上的镂空孔进行精加工。根据本专利技术的一个实施例，所述透镜基板为玻璃板。根据本专利技术的一个实施例，所述镂空孔为多个，多个所述镂空孔矩阵分布。第三方面，本专利技术提供的掩膜板的制作方法，包括：提供一金属基板及一如上所述的掩膜板光罩；将所述金属基板与所述的掩膜板光罩的金属膜片贴合或透镜基板贴合；采用光蚀刻工艺在金属基板上蚀刻出与所述金属膜片上的镂空孔尺寸相同的蒸镀孔。根据本专利技术提供的掩膜板的制作方法，由于采用了上述掩膜板光罩，因此，其制作工艺更加简单方便，效率高，同时，加工形成的掩膜板，其蒸镀孔的尺寸精度更高，此外，也提高了掩膜板良率。附图说明图1是本专利技术实施例掩膜板光罩的立体结构示意图；图2是本专利技术实施例掩膜板光罩的分解结构示意图；图3是本专利技术实施例掩膜板光罩制作方法的流程图；图4是本专利技术实施例掩膜板制作方法的流程图；图5是本专利技术实施例掩膜板制作方法中曝光示意图。本专利技术目的的实现、功能特点及优点将结合实施例，参照附图做进一步说明。具体实施方式下面详细描述本专利技术的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，旨在用于解释本专利技术，而不能理解为对本专利技术的限制。在本专利技术的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本专利技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本专利技术的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本专利技术的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。在本专利技术中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种掩膜板光罩，适于采用光蚀刻法在一金属基板上蚀刻形成蒸镀孔，其特征在于，包括：透明基板，所述透明基板具有第一平面及与所述第一平面相背的第二平面；金属膜片，所述金属膜片平铺于所述第一平面，且所述金属膜片上形成有多个镂空孔，所述镂空孔的尺寸与所述蒸镀孔的预定尺寸相等。

【技术特征摘要】
1.一种掩膜板光罩，适于采用光蚀刻法在一金属基板上蚀刻形成蒸镀孔，
其特征在于，包括：
透明基板，所述透明基板具有第一平面及与所述第一平面相背的第二平
面；
金属膜片，所述金属膜片平铺于所述第一平面，且所述金属膜片上形成
有多个镂空孔，所述镂空孔的尺寸与所述蒸镀孔的预定尺寸相等。
2.根据权利要求1所述的掩膜板光罩，其特征在于，所述透明基板为玻
璃板。
3.根据权利要求1所述的掩膜板光罩，其特征在于，所述镂空孔为多个，
多个所述镂空孔矩阵分布。
4.一种掩膜板光罩的制作方法，所述掩膜板光罩适于采用光蚀刻法在一
金属基板上蚀刻形成蒸镀孔，其特征在于，包括：
提供一透明基板及一金属膜片，透明基板具有第一平面及与所述第一平
面相背的第二平面；
在所述金属膜片的上加工形成镂空孔，所述镂空孔具有加工余量；
将形成有镂空孔的所述金属膜片平铺于所述透镜基板的第一平面；
对所述金属膜片上的所述镂空孔进行精加工，使...

【专利技术属性】
技术研发人员：唐军，
申请(专利权)人：唐军，
类型：发明
国别省市：广东;44