【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及图像形成设备和图像形成设备的打印控制方法,并且特别涉及用于减少诸如调色剂等的显影剂的消耗量的技术。
技术介绍
近年来,在图像形成设备中存在减少调色剂消耗量的需求,并且提出了多个方法。根据日本特开2004-299239所公开的方法,提出了用于通过在具有特定面积的图像区域中降低曝光强度来减少调色剂消耗量的技术。此外,发生被称为“聚集(sweeping)”的现象,其中在该现象中,潜像后端部中的显影调色剂量大于潜像平面部中的显影调色剂量。为了应对该现象,在日本特开2007-272153中提出了用于通过对图像数据进行校正处理并且控制曝光量来校正聚集的技术。然而,除用于使显影剂均一化的技术外,在各种图像处理技术中还采用用于控制各个像素的曝光强度的方法。这些技术的示例包括轮廓校正技术,其中该轮廓校正技术用于向描绘(render)像素的“台阶”部分添加曝光量受到抑制的子像素,由此可以更加平滑地打印出二值位图像的边缘。这些技术的示例还包括如下方法,其中该方法用于首先添加曝光量受到抑制的像素作为被添加至颜色浓度增加的半色调点的像素,并且利用完全曝光量的像素替换曝光量受到抑制的像素,由此特定面积内的浓淡层次的级数增加。近年来,打印输出设备具有用于提高高质量打印的多个技术,并且通过控制像素的曝光强度来实现这些技术。在采用上述的图像处理的系统上附加进行用于抑制显影剂的消耗的图像处理的情 ...
【技术保护点】
一种图像形成设备,包括:图像承载构件;充电单元,用于使所述图像承载构件均匀地带电;曝光单元,用于根据图像数据对所述图像承载构件进行曝光;显影单元,用于使用显影剂承载构件所输送的显影剂,来对通过所述曝光单元进行曝光而形成在所述图像承载构件上的静电潜像进行显影;以及打印单元,用于对显影后的图像进行打印,所述图像形成设备还包括:第一校正单元,用于校正所述图像数据中所包括的要校正的像素的像素值;第二校正单元,用于使用与所述第一校正单元所进行的校正不同的校正方法,来校正所述图像数据中所包括的要校正的像素的像素值;判断单元,用于判断所述第二校正单元要校正的像素;选择单元,用于判断具有所述第二校正单元要校正的像素值的像素是否已经被所述第一校正单元校正;以及控制单元,用于进行控制,以使得:在具有所述第二校正单元要校正的像素值的像素已经被所述第一校正单元校正的情况下,所述曝光单元根据所述第一校正单元所校正后的图像数据来进行曝光,以及在具有所述第二校正单元要校正的像素值的像素未被所述第一校正单元校正的情况下,所述第二校正单元校正该像素值,并且所述曝光单元根据所述第二校正单元所校正后的图像数据来进行曝光。
【技术特征摘要】
2015.01.14 JP 2015-0051811.一种图像形成设备,包括:图像承载构件;充电单元,用于使所述图
像承载构件均匀地带电;曝光单元,用于根据图像数据对所述图像承载构件
进行曝光;显影单元,用于使用显影剂承载构件所输送的显影剂,来对通过
所述曝光单元进行曝光而形成在所述图像承载构件上的静电潜像进行显影;
以及打印单元,用于对显影后的图像进行打印,所述图像形成设备还包括:
第一校正单元,用于校正所述图像数据中所包括的要校正的像素的像素
值;
第二校正单元,用于使用与所述第一校正单元所进行的校正不同的校正
方法,来校正所述图像数据中所包括的要校正的像素的像素值;
判断单元,用于判断所述第二校正单元要校正的像素;
选择单元,用于判断具有所述第二校正单元要校正的像素值的像素是否
已经被所述第一校正单元校正;以及
控制单元,用于进行控制,以使得:
在具有所述第二校正单元要校正的像素值的像素已经被所述第一
校正单元校正的情况下,所述曝光单元根据所述第一校正单元所校正后的图
像数据来进行曝光,以及
在具有所述第二校正单元要校正的像素值的像素未被所述第一校
正单元校正的情况下,所述第二校正单元校正该像素值,并且所述曝光单元
根据所述第二校正单元所校正后的图像数据来进行曝光。
2.根据权利要求1所述的图像形成设备,其中,
在对象像素满足以下条件的情况下,所述判断单元判断为要利用所述第
二校正单元校正所述对象像素:
(a)所述对象像素包括在连续的描绘区域中;
(b)所述对象像素位于从所述描绘区域的端部起的预定距离内;以及
(c)非描绘区域从所述描绘区域的端部起在与所述描绘区域相反的方向
\t上扩展成特定面积。
3.根据权利要求1所述的图像形成设备,其中,所述第一校正单元是用
于执行用于校正图像的轮廓的处理的轮廓校正单元。
4.根据权利要求1所述的图像形成设备,其中,所述第一校正单元是用
于对图像进行配准校正的配准校正单元。
5.根据权利要求1所述的图像形成设备,其中,所述第二校正单元是用
于执行用于对图像的调色剂过多附着进行校正的处理的校正单元。
6.根据权利要求5所述的图像形成设备,其中,用于对调色剂过多附着
进行校正的处理是用于对边缘效应...
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