一种显示基板及其制作方法技术

本发明专利技术提供一种显示基板及其制作方法，其中，所述制作方法包括：提供基板和金属线栅偏振器WGP压印模板，所述基板上具有处于非像素区的对位标记，在所述基板上形成金属膜层，通过识别所述对位标记，利用所述WGP压印模板在所述金属膜层上形成多个光栅区，其中，所述WGP压印模板的一次压印形成一个所述光栅区，相邻的光栅区的拼接位置位于非像素区。本发明专利技术的方案，能够通过识别处于非像素区的对位标记，在基板的金属膜层上形成光栅区，使得相邻的光栅区的拼接位置位于非像素区，从而保证拼接精度，避免拼接后的光栅出现缺陷而影响后续的显示内容。

【技术实现步骤摘要】
一种显示基板及其制作方法
本专利技术涉及显示
，特别是涉及一种显示基板及其制作方法。
技术介绍
金属线栅偏振器(WireGridPolarizer，简称WGP)是由平行的金属线条构成，所述金属线条的截面为纳米尺度，长度为宏观量级，能够进行偏光。为了降低器件厚度，现有液晶显示器件可以利用集成于基板的金属线栅，替换额外贴合于基板的偏振片，以提高产品性能。具体的，金属线栅的制备需要采用高精度的光刻技术或纳米压印技术，但这些技术很难制备具有完整金属线栅的大尺寸的WGP基板。为了在大尺寸基板上制备WGP，通常采用拼接技术形成金属线栅，但现有的拼接技术难以保证拼接精度，使得拼接后的金属线栅常存在缺陷，例如金属线栅的拼接缝可能位于像素区，影响后续的显示内容，无法满足应用要求。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种显示基板及其制作方法，以解决现有的大尺寸基板上的拼接后的金属线栅常存在缺陷的技术问题。为了实现上述的目的，本专利技术提供一种显示基板的制作方法，包括：提供基板和金属线栅偏振器WGP压印模板，所述基板上具有处于非像素区的对位标记，所述基板的显示区域的尺寸大于所述WGP压印模板的尺寸；在所述基板上形成金属膜层；通过识别所述对位标记，利用所述WGP压印模板在所述金属膜层上形成多个光栅区，其中，所述WGP压印模板的一次压印形成一个所述光栅区，相邻的光栅区的拼接位置位于非像素区。优选的，当利用多个所述WGP压印模板同时在所述金属膜层上形成光栅区时，所述WGP压印模板之间的拼接缝的位置与所述非像素区的位置对应，且宽度小于或等于对应的非像素区的宽度。优选的，所述光栅区包括多个间隔设置的光栅单元和与每个所述光栅单元对应的第一对位标记，所述制作方法还包括：通过识别所述第一对位标记，在所述基板的与每个所述光栅单元对应的区域上形成像素电极，形成具有所述光栅区的阵列基板。优选的，第一对位标记用于限定栅线所在的区域。优选的，所述光栅区包括多个间隔设置的光栅单元和与每个所述光栅单元对应的第二对位标记，所述制作方法还包括：通过识别所述第二对位标记，在所述基板的与每个所述光栅单元对应的区域上形成彩色滤光层的图形，形成具有所述光栅区的彩膜基板。优选的，所述第二对位标记用于限定所述彩色滤光层的图形之间的区域。优选的，所述光栅单元之间设置有黑矩阵，所述黑矩阵和所述光栅单元同层同材料设置。优选的，所述利用所述WGP压印模板在所述金属膜层上形成多个光栅区的步骤包括：在所述金属膜层上形成光刻胶；采用所述WGP压印模板对所述光刻胶进行压印，形成光栅结构的光刻胶图形；采用干刻工艺对未被所述光刻胶覆盖的金属膜层进行刻蚀，形成所述多个光栅区。优选的，所述金属膜层为铝金属膜层。优选的，所述铝金属膜层的厚度为50-400nm。本专利技术还提供一种显示基板，包括：基板，所述基板上具有处于非像素区的对位标记；由金属膜层形成的光栅结构，所述光栅结构具有多个光栅区；其中，所述光栅区是通过识别所述对位标记，利用WGP压印模板在所述金属膜层上形成，所述WGP压印模板的一次压印形成一个所述光栅区，相邻的光栅区的拼接位置位于非像素区。优选的，所述光栅区包括多个间隔设置的光栅单元和与每个所述光栅单元对应的第一对位标记，所述显示基板还包括：像素电极，所述像素电极是通过识别所述第一对位标记，在所述基板的与每个所述光栅单元对应的区域上形成。优选的，所述光栅区包括多个间隔设置的光栅单元和与每个所述光栅单元对应的第二对位标记，所述显示基板还包括：彩色滤光层，所述彩色滤光层的图形是通过识别所述第二对位标记，在所述基板的与每个所述光栅单元对应的区域上形成。优选的，所述光栅单元之间设置有黑矩阵，所述黑矩阵和所述光栅单元同层同材料设置。通过本专利技术的上述技术方案，本专利技术的有益效果在于：本专利技术的显示基板的制作方法，通过识别处于非像素区的对位标记，在基板的金属膜层上形成光栅区，使得相邻的光栅区的拼接位置位于非像素区，从而保证拼接精度，避免拼接后的光栅出现缺陷而影响后续的显示内容。附图说明图1表示本专利技术实施例的显示基板的制作方法的流程图。图2表示本专利技术实施例的一WGP压印模板的示意图。图3表示被图2所示的WGP压印模板压印后的金属膜层的示意图。图4表示本专利技术实施例的光栅单元和像素电极对应的示意图。图5表示本专利技术实施例的一WGP显示装置的结构示意图。图6表示本专利技术实施例的另一WGP显示装置的结构示意图。图7表示本专利技术实施例的在金属膜层上形成光栅区的流程图。图8表示本专利技术实施例的一光栅结构的光刻胶图形的示意图。图9表示本专利技术具体实施例的WGP基板的制备流程图。具体实施方式下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。参见图1所示，本专利技术实施例提供一种显示基板的制作方法，包括如下步骤：步骤101：提供基板和金属线栅偏振器WGP压印模板，所述基板上具有处于非像素区的对位标记，所述基板的显示区域的尺寸大于所述WGP压印模板的尺寸；步骤102：在所述基板上形成金属膜层；步骤103：通过识别所述对位标记，利用所述WGP压印模板在所述金属膜层上形成多个光栅区，其中，所述WGP压印模板的一次压印形成一个所述光栅区，相邻的光栅区的拼接位置位于非像素区。本专利技术实施例的显示基板的制作方法，通过识别处于非像素区的对位标记，在基板的金属膜层上形成光栅区，使得相邻的光栅区的拼接位置位于非像素区，从而保证拼接精度，避免拼接后的光栅出现缺陷而影响后续的显示内容。在本专利技术的一实施例中，所述光栅区可以是采用WGP压印模板的一次压印形成，其内没有拼接缝。例如，所述光栅区包括按预定方向排列的金属线阵。具体的，在基板的金属膜层上形成光栅区时，可先将多个所述WGP压印模板拼接在一起，再利用拼接后的多个所述WGP压印模板同时在所述金属膜层上形成光栅区；并且，所述WGP压印模板之间的拼接缝的位置要与非像素区的位置对应，且宽度小于或等于对应的非像素区的宽度。本专利技术实施例中，所述WGP压印模板可选用当前常用的纳米压印模板，以在基板的整个金属膜层上形成金属线阵。此外，本专利技术实施例中的WGP压印模板还可选用图2所示的压印模板。参见图2所示，所述WGP压印模板包括多个线栅区域21，所述线栅区域之间被间隔开。而被图2所示的WGP压印模板压印后的金属膜层可参见图3所示，其透光区域31中具有金属线阵，不透光区域32被金属膜覆盖，不透光。进一步的，所述WGP压印模板还可包括多个对位单元，所述对位单元和所述线栅区域一一对应，用于形成对位标记。这样，利用所述WGP压印模板形成的光栅区，就会包括多个间隔设置的光栅单元和与每个所述光栅单元对应的对位标记。具体的，图1所示实施例中形成的光栅区可包括多个间隔设置的光栅单元和与每个所述光栅单元对应的第一对位标记，所述制作方法还包括：通过识别所述第一对位标记，在所述基板的与每个所述光栅单元对应的区域上形成像素电极，形成具有所述光栅区的阵列基板。其中，第一对位标记用于限定栅线所在的区域。例如，参见图4所示，光栅单元41与薄膜晶体本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种显示基板的制作方法，其特征在于，包括：提供基板和金属线栅偏振器WGP压印模板，所述基板上具有处于非像素区的对位标记，所述基板的显示区域的尺寸大于所述WGP压印模板的尺寸；在所述基板上形成金属膜层；通过识别所述对位标记，利用所述WGP压印模板在所述金属膜层上形成多个光栅区，其中，所述WGP压印模板的一次压印形成一个所述光栅区，相邻的光栅区的拼接位置位于非像素区。

【技术特征摘要】
1.一种显示基板的制作方法，其特征在于，包括：提供基板和金属线栅偏振器WGP压印模板，所述基板上具有处于非像素区的对位标记，所述基板的显示区域的尺寸大于所述WGP压印模板的尺寸；在所述基板上形成金属膜层；通过识别所述对位标记，利用所述WGP压印模板在所述金属膜层上形成多个光栅区，其中，所述WGP压印模板的一次压印形成一个所述光栅区，相邻的光栅区的拼接位置位于非像素区；其中，所述光栅区包括多个间隔设置的光栅单元，以及与每个所述光栅单元对应的第一对位标记和/或第二对位标记，所述制作方法还包括：通过识别所述第一对位标记，在所述基板的与每个所述光栅单元对应的区域上形成像素电极，形成具有所述光栅区的阵列基板；或者，通过识别所述第二对位标记，在所述基板的与每个所述光栅单元对应的区域上形成彩色滤光层的图形，形成具有所述光栅区的彩膜基板。2.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，当利用多个所述WGP压印模板同时在所述金属膜层上形成光栅区时，所述WGP压印模板之间的拼接缝的位置与所述非像素区的位置对应，且宽度小于或等于对应的非像素区的宽度。3.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，第一对位标记用于限定栅线所在的区域。4.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述第二对位标记用于限定所述彩色滤光层的图形之间的区域。5.根据权利要求4所述的制作方法，其特征在于，所述光栅单元之间设置有黑矩阵，所述黑矩阵和所述光栅...

【专利技术属性】
技术研发人员：关峰，曹占锋，姚琪，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11