【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种化学机械抛光液，抛光液中不含有化学氧化剂，其包含：氧化铈磨料、有机多元酸、高分子聚合物。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：尹先升，房庆华，贾长征，周仁杰，王雨春，
申请(专利权)人：安集微电子上海有限公司，
类型：发明
国别省市：上海;31
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