薄膜晶体管器件及其制备方法技术

技术编号:13380670 阅读:39 留言:0更新日期:2016-07-21 12:22
本发明专利技术提供了一种薄膜晶体管器件及其制备方法,所述薄膜晶体管器件依次包括:衬底、缓冲层、沟道层、栅绝缘层、栅极、层间绝缘层以及源漏极,所述沟道层的形状为弯曲型,避免因沟道的长度过长而对器件像素造成影响,沟道层的长度与宽度均可根据需要进行调整,很好的解决了沟道层单方向较长的问题;并且,通过将非掺杂区沟道层设置于栅极覆盖的区域内,将掺杂区沟道层设置于栅极覆盖的区域外,使得非掺杂区沟道层与掺杂区沟道层接触的界面形成PN结,从而降低薄膜晶体管器件的关态电流,在很大程度上提高了器件的性能,同时可以很好的避免源漏极之间由于电场作用造成的器件不稳定性。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种薄膜晶体管器件,依次包括:衬底、缓冲层、沟道层、栅绝缘层、栅极、层间绝缘层以及源漏极,其特征在于,所述沟道层的形状为弯曲型。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:赵加湘
申请(专利权)人:昆山国显光电有限公司
类型:发明
国别省市:江苏;32

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1