接触式传感器用构件的制造方法和接触式传感器用构件技术

本发明专利技术的目的在于，提供形成有微细图案的接触式传感器用构件及其制造方法，所述微细图案作为ITO的替代而发挥功能，不会伴有敏感电极的透视、光反射之类的问题，且抑制了其与导电布线之间的断线、导通不良。本发明专利技术提供接触式传感器用构件的制造方法，其具备如下工序：导电涂布膜形成工序：对于被区分成显示区域和装饰区域的基板，在上述显示区域上和上述装饰区域上涂布感光性导电糊剂，从而得到导电涂布膜；以及，导电图案形成工序：对上述显示区域上的上述导电涂布膜和上述装饰区域上的上述导电涂布膜一并进行曝光和显影，进而以100~250℃进行加热或照射氙闪光管的光，从而得到导电图案，上述显示区域上的上述导电图案的线宽为2~6μm，上述装饰区域上的上述导电图案的线宽为7~100μm。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】
接触式传感器用构件的制造方法，其具备如下工序：导电涂布膜形成工序：对于被区分成显示区域和装饰区域的基板，在所述显示区域上和所述装饰区域上涂布感光性导电糊剂，从而得到导电涂布膜；以及导电图案形成工序：对所述显示区域上的所述导电涂布膜和所述装饰区域上的所述导电涂布膜一并进行曝光和显影，进而以100~250℃进行加热或照射氙闪光管的光，从而得到导电图案，所述显示区域上的所述导电图案的线宽为2~6μm，所述装饰区域上的所述导电图案的线宽为7~100μm。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：田边美晴，田中明彦，
申请(专利权)人：东丽株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP